JP2018112217A - 測定装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】簡易な機構で測定に影響を及ぼす振動を抑えること。【解決手段】測定装置(1)は、測定するワーク(W)を載置するテーブル(20)と、テーブルに載置されたワークを上から測定する顕微鏡(61)と、テーブルをXYZ方向に移動させる移動手段(30)と、顕微鏡と移動手段とを配設する基台(11)とを備えた測定機器(10)と、測定機器の測定に影響のある振動の周波数帯域をなくす除振手段(70)とを備える。除振手段は、測定機器を覆うフレーム(74)と、測定機器の重心を中心として放射方向に4か所で測定機器をフレームから吊り下げる4つの吊り部(75)と、を備え、吊り部は、スプリング(75a)を有する構成にした。【選択図】図1

Description

本発明は、ワークを測定する測定装置に関する。
一般に、顕微鏡でワークの上面を測定する測定機器は振動があると撮像画の焦点が合わなくなり測定できないため、振動を嫌う(例えば、特許文献1参照)。撮像画のピンぼけの原因となるのは、高い周波数の振動であることが知られている。振動の周波数を高い周波数帯域から低い周波数帯域に変換させることで、測定機器における測定への影響を抑えることができる。測定に影響を及ぼす振動を抑えるために、測定機器と、測定機器が設置される基台との間に防振ゴムやエアクッションを配設させたりしている。
特開平06−288433号公報
しかしながら、上述した防振ゴムでは、XYZ方向の振動にて高い周波数帯域から低い周波数帯域への変換が十分に行われないため、測定に影響を与える場合がある。また、エアクッションでは、内部に封入するエアをバルブで調整して圧力を一定にする必要があるため、設備や構造が複雑化する問題がある。
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、簡易な機構で測定に影響を及ぼす振動を抑えることができる測定装置を提供することを目的の一つとする。
本発明の測定装置の一態様は、測定するワークを載置するテーブルと、テーブルに載置されたワークを上から測定する顕微鏡と、テーブルをXYZ方向に移動させる移動手段と、顕微鏡と移動手段とを配設する基台とを備えた測定機器と、測定機器の測定に影響のある振動の周波数帯域をなくす除振手段とを備える測定装置であって、除振手段は、測定機器を覆うフレームと、測定機器の重心を中心として放射方向に4か所で測定機器をフレームから吊り下げる4つの吊り部と、を備え、吊り部は、スプリングを有する。
この構成によれば、吊り部により測定機器を吊り下げることにより測定機器のXYZ方向の振動に対応させ、吊り部のスプリングにより測定機器のZ方向の振動の周波数を高い周波数帯域から低い周波数帯域に変換させることができる。これにより、吊り部で測定機器を吊り下げるだけの簡易な機構で測定に影響を及ぼす振動を除去できる。
本発明の測定装置の一態様においては、顕微鏡として、二光束干渉顕微鏡を用いる。
本発明の測定装置の一態様においては、測定機器とフレームとの間に緩衝材を介在させる。
本発明によれば、簡易な機構で測定に影響を及ぼす振動を抑えることができる。
本実施の形態に係る測定装置の斜視図である。 本実施の形態に係る高い周波数の振動における除振動作の一例を説明する図である。 実験例に係る振動周波数と振動加速度の関係を示すグラフである。 実施例に係る撮像画を示す図である。 比較例に係る撮像画を示す図である。
以下、添付図面を参照して、本実施の形態について説明する。図1は、本実施の形態に係る測定装置の斜視図である。
図1に示すように、測定装置1は、測定機器10において、ワークWを載置したテーブル20を、撮像手段60に対して移動させて、ワークWの上面を撮像するように構成されている。
測定装置1は、矩形状の上壁プレート71と下壁プレート72との四隅を支持柱73で連結して構成されるフレーム74と、フレーム74内に配設される測定機器10とを備えている。測定機器10は、矩形状の基台11を有しており、基台11の上面には、テーブル20をX方向、Y方向及びZ方向に移動する移動手段30が設けられている。移動手段30の後方には、逆L字状のアーム部62が立設され、アーム部62の先端にはテーブル20に対向するように顕微鏡61が支持されている。アーム部62と顕微鏡61とで撮像手段60を構成している。
移動手段30は、基台11の上面に配設されたY方向送り手段51と、Y方向送り手段51の上部に配設されたX方向送り手段31と、X方向送り手段31の上部に配設されたZ方向送り手段21と、を備えている。X方向送り手段31は、Y方向送り手段51に下方から支持されている。Z方向送り手段21の上には、テーブル20が配設されている。
Y方向送り手段51は、基台11の上面に配置されたY方向に平行な一対のガイドレール51aと、一対のガイドレール51aにスライド可能に設置されたY軸テーブル52とを有している。Y軸テーブル52の下面側には、図示しないナット部が形成され、このナット部にボールネジ53が螺合されている。ボールネジ53の一端部には、駆動モータ54が連結されている。Y軸テーブル52、X方向送り手段31及びテーブル20は、駆動モータ54が回転駆動されることで、Y方向に移動される。
X方向送り手段31は、Y軸テーブル52の上面に配置されたX方向に平行な一対のガイドレール31aと、一対のガイドレール31aにスライド可能に設置されたX軸テーブル32とを有している。X軸テーブル32の上部には、テーブル20が設けられている。X軸テーブル32の下面側には、図示しないナット部が形成され、このナット部にボールネジ33が螺合されている。ボールネジ33の一端部には、駆動モータ34が連結されている。X軸テーブル32及びテーブル20は、駆動モータ34が回転駆動されることで、X方向に移動される。
Z方向送り手段21としては、例えばピエゾアクチュエータが使用される。移動ピッチは10nmから50nmの分解能が設定可能であり、例えば、20nmの等間隔ピッチでテーブル20をZ方向に移動させ、撮像手段60によりZ方向において1000枚以上の画像を取得して位相シフト法の演算を行い、三次元画像を構築している。
テーブル20は、円板状に形成されており、X軸テーブル32の上面にZ方向周りに回転可能に設けられている。テーブル20の上面には、ポーラスセラミックス材により保持面が形成されている。
撮像手段60は、アーム部62の先端に設けられた顕微鏡61を有している。顕微鏡61としては、二光束干渉顕微鏡(3次元顕微鏡)等が用いられている。二光束干渉顕微鏡に用いられる干渉対物レンズとしては、ミウラ型、マイケルソン型、リニーク型等が挙げられる。なお、顕微鏡61は、例えば2.5倍、5倍の低倍ではマイケルソン型を用い、例えば10倍から50倍の高倍ではミウラ型を用いている。100倍などのさらに高い高倍はリニーク型を用いている。顕微鏡61により、テーブル20に載置されたワークWの上面が撮像され、立体測定される。
ここで、測定機器においては、高い周波数の振動により、撮像手段による撮像画においてアーチファクトが生じ、測定に影響が及ぼされる。このため、従来は防振ゴムを用いて測定に影響を与える振動を抑える対策がとられていた。しかしながら、防振ゴムはXYZ方向の振動のどちらの方向においても高い周波数帯域から低い周波数帯域への変換が十分に行われないため、振動への対応が不十分となる問題があった。このため、顕微鏡による立体測定では、干渉縞の光の強度を位相シフト法により演算する際に、振動によって位相シフト法の演算エラーが引き起こされ、リップル状のアーチファクトが発生していた。そこで、本実施の形態においては、除振手段70を用いて、スプリング部75aを有する吊り部75で測定機器10を吊り下げることにより、測定に影響のある振動を除去し、アーチファクトの発生を抑えている。
以下、本実施の形態に係る除振手段70の構成について詳細に説明する。除振手段70は、測定機器10を覆うフレーム74と、測定機器10の重心を中心として放射方向に4か所で測定機器10を上壁プレート71から吊り下げる4つの吊り部75(1つは不図示)と、を備えている(図1参照)。吊り部75の一方の端はスプリング部75aを形成しており、他方の端は直線部75bを形成している。スプリング部75aが上壁プレート71の下面に連結され、直線部75bが基台11の上面にネジ76を介して連結されることにより、吊り部75は上壁プレート71と基台11との間に垂直に配設される。これにより、測定機器10は上壁プレート71から吊り下げられている。吊り部75は金属等で形成され、スプリング部75aは上下方向に伸縮可能となっている。後述するように、吊り部75は、長さを調節することによって測定に影響のある高い周波数帯域の振動を低い周波数帯域に変換させている。また、スプリング部75aは、測定機器10の重量に応じて、ばね定数が設定される。
次に、図2を参照して、除振手段の動作について説明する。図2は、本実施の形態に係る高い周波数の振動における除振動作の一例を説明する図である。
図2Aに示すように、測定装置1の設置場所が振動しないとき、測定装置1には振動が生じない。上壁プレート71に連結する吊り部75は動かず、測定機器10は振動しない。
図2Bに示すように、測定装置1の設置場所がXY方向に振動すると、振動が測定装置1に伝わり、除振手段70の下壁プレート72がXY方向に振動する。振動は支持柱73及び上壁プレート71に伝わって支持柱73及び上壁プレート71がXY方向に振動し、上壁プレート71に連結する吊り部75の上端が上壁プレート71の振動に合わせてXY方向に移動する。このとき、吊り部75で測定機器10を吊り下げた状態では、吊り部75の下端に振動が伝わり難くなり、吊り部75の下端はXY方向の振動が抑えられる。これにより、測定機器10が、測定装置1の設置場所の振動に伴ってXY方向に振動することが抑えられ、測定に影響を及ぼすXY方向の振動が抑えられる。
また、図2Cに示すように、測定装置1の設置場所がZ方向に振動すると、振動が測定装置1に伝わり、除振手段70の下壁プレート72がZ方向に振動する。振動は支持柱73及び上壁プレート71に伝わって支持柱73及び上壁プレート71がZ方向に振動し、上壁プレート71に連結する吊り部75のスプリング部75aが上壁プレート71の振動に合わせてZ方向に伸縮する。この伸縮動作によって、吊り部75の下端はZ方向の振動が抑えられる。これにより、測定機器10が、測定装置1の設置場所の振動に伴ってZ方向に振動することが抑えられ、測定に影響を及ぼすZ方向の振動が抑えられる。なお、上記ではXY方向とZ方向の振動を別々に記載し、吊り部75によるXY方向の除振とスプリング部75aによるZ方向の除振とを便宜上分けて説明しているが、吊り部75の吊り下げ構造においてもZ方向の振動の除振を行うことができる。
以上のように、本実施の形態に係る測定装置1では、吊り部75により測定機器10を吊り下げることにより測定機器10のXYZ方向の振動に対応できる。また、スプリング部75aの伸縮により測定機器10のZ方向の振動に対応できる。XY方向だけでなくZ方向の振動の周波数を、後述するように25(Hz)以上の高い周波数帯域から5(Hz)未満の低い周波数帯域に変換させることができる。これにより、吊り部75で測定機器10を吊り下げる簡易な構成でありながら、振動の周波数を測定に影響を及ぼさない低い周波数に変換することができる。よって、測定機器10において、測定に影響のある周波数帯域の振動をなくすことができる。ここで、振動を「なくす」とは、測定に影響を及ぼさない程度にまで振動を抑えることをいう。
また、上記撮像手段60によるZ方向の1000枚以上の撮像は、200Hzの撮像周波数で行われている。振動周波数が速い(高い)と撮像に影響する。そして、撮像周波数より遅い(低い)振動周波数であっても撮像に影響を与える。例えば、撮像周波数が200Hzでは、振動周波数が100Hz、33Hz、20Hzの順で撮像に与える影響は小さくなる。すなわち、撮像周波数の1/2、1/6、1/10の振動周波数の順で撮像に与える影響が小さくなる(Peter J. de Groot、“Vibration in phase−shifting interferometry”、J.Opt.Soc.Am.A、Optical Society of America、February 1995(Vol.12)、No.2、p.363参照)。そして、撮像周波数が200Hzのとき、撮像周波数の1/2の100Hzより遅い(低い)振動周波数は撮像にほとんど影響を与えない。また、100Hzよりさらに遅い(低い)振動周波数に振動を移動させることで撮像への影響を防ぐことができる。つまり、撮像周波数が200Hzのとき、撮像周波数の1/10の20Hzより遅い(低い)振動周波数に振動を移動させることで、より撮像への影響がなくなる。
(実験例)
以下、実験例に基づき詳述するが、これらは説明のために記述されるものであって、下記実験例に限定されるものではない。
測定機器10でワークWの撮像を除振手段70を用いて行った場合と、除振手段70を用いないで行った場合に、測定機器10に生じる振動を測定した。振動計(OROS社製)を測定機器10の基台11上に設置して行った。また、顕微鏡61として二光束干渉顕微鏡でワークWの上面を撮像した。結果を図3から図5に示す。図3は、実験例に係る振動周波数と振動加速度の関係を示すグラフである。図4は、実施例に係る撮像画を示す図である。図5は、比較例に係る撮像画を示す図である。図3において横軸は振動周波数、縦軸は加速度を示している。また、一点鎖線は除振をしなかった場合を示し、破線は測定機器と測定機器が設置される台との間に防振ゴムを配設した場合を示し、実線は除振手段70を用いた場合を示している。
(実施例)
図3に示すように、除振手段70を用いた場合は、除振をしなかった場合(比較例1)及び防振ゴムを用いた場合(比較例2)と比較して、5(Hz)以上の周波数帯域で加速度が低下していた。25(Hz)以上50(Hz)以下では、比較例2と比較して加速度は大幅に低下して約10分の1倍となっており、30(Hz)以上50(Hz)以下では10−6(m/s)の値が測定された。また、0(Hz)以上5(Hz)未満では、比較例1及び比較例2と比較して加速度が大幅に上昇していた。これは、25(Hz)以上の周波数帯域の振動が、0(Hz)以上5(Hz)未満の振動に変換されたためと考えられる。このとき、顕微鏡61でワークWの上面を測定すると、図4に示すように、撮像画にリップル状のアーチファクトは発生していなかった。
(比較例1)
除振をしなかった場合は、25(Hz)以上50(Hz)以下の周波数帯域で、加速度として約10−4(m/s)が測定され、実施例と比較して大幅に上昇しており、高い周波数の振動が大きく発生していた。このとき、顕微鏡で実施例と同じ倍率でワークWの上面を測定すると、図5に示すように、位相シフト法の演算エラーによるリップル状のアーチファクトが大きく生じる撮像画が形成されていた。
(比較例2)
測定機器と測定機器が設置される台との間に防振ゴムを用いた場合は、除振をしなかった場合と比較して、25Hz以上の周波数帯域で加速度が低下し、40(Hz)以上50(Hz)以下では大幅に低下して10−5(m/s)の値が測定され約10分の1倍となっていた。また、13(Hz)以上20(Hz)以下では、除振をしなかった場合と比較して加速度が大幅に上昇していた。これは、25(Hz)以上の周波数帯域の振動が、13(Hz)以上20(Hz)以下の振動に変換されたためと考えられる。しかしながら、上述した通り、25(Hz)以上50(Hz)以下では、実施例と比較して加速度は大幅に上昇して約10倍となっており、高い周波数の振動が実施例よりも発生していた。このとき、顕微鏡で実施例と同じ倍率でワークWの上面を測定すると、位相シフト法の演算エラーによるリップル状のアーチファクトが生じる撮像画が形成されていた(図5参照)。
このように、除振手段70を用いることで、除振をしなかった場合及び防振ゴムを用いた場合と比較して、25(Hz)以上の周波数帯域の振動を大幅に抑えることができる。また、25(Hz)以上の周波数帯域の振動を0(Hz)以上5(Hz)未満の振動に変換することができ、防振ゴムを用いた場合よりも振動を低い周波数帯域の振動に変換することができる。このため、振動の周波数を測定に影響を及ぼさない周波数に効果的に変換して、測定に影響のある振動を抑えることができる。
また、例えば、吊り部75の固有振動数を約5Hz以下、振動伝達率を−40dB以下とすることで測定に影響のある高い周波数帯域の振動を低い周波数帯域に変換させることができた。固有振動数ω[1/s]の計算方法は、Z方向の振動については、スプリング部75aのばね定数k[N/m]、1つの吊り部75に掛かる測定機器10の質量m[kg]を用いて、式(1)のように示すことができる。

スプリング部75aのばね定数kを例えば4900[N/m]とし、測定機器10の質量mを例えば20[kg]とすると、1つの吊り部75に掛かる測定機器10の質量は、20[kg]/4(吊り部の数)=5[kg]であるため、固有振動数ωは、4.98(1/s)となり、約5Hzとなる。この場合、吊り部75の固有振動数ωを約5Hz以下とするためには、Z方向の振動に対しては、ばね定数は4900[N/m]以下とすることが好ましい。
また、XY方向の振動は振り子運動になるので、固有振動数(ω[1/s])の計算方法は、XY方向の振動については、吊り部75の長さl[m]、1つの吊り部75に掛かる重力加速度g[m/s]を用いて、式(2)のように示すことができる。
吊り部75の長さlを例えば0.01[m]とすると、重力加速度gを9.8[m/s]であるため、固有振動数ωは、4.98(1/s)となり、約5Hzとなる。この場合、吊り部75の固有振動数ωを約5Hz以下とするためには、XY方向の振動に対しては、吊り部75の長さは0.01mより長くすることが好ましい。
なお、固有振動数より高い(大きい)周波数の振動は、振動伝達率を低下させることで減衰させることができる。また、固有振動数を小さくすればするほど、より高い周波数の振動の減衰が可能になる。つまり、高い周波数の振動を減衰させるためには、固有振動数を小さくすれば良い。固有振動数は振動伝達率に比例しており、固有振動数を小さくすれば振動伝達率も小さくなる(マイナス方向に大きくなる)。これらを考慮することにより、本実施の形態に係る吊り部75においては、測定に影響がある高い周波数の減衰を可能にする固有振動数が設定されている。
上記実施の形態においては、4つの吊り部75で測定機器10を上壁プレート71から吊り下げる構成したが、これに限定されない。測定に影響を及ぼす振動を除去できれば、測定機器10は4本以外の複数の吊り部75で吊り下げられていてもよい。
また、上記実施の形態においては、吊り部75が金属で形成される構成としたが、XY方向及びZ方向の振動を抑えることができれば、スプリング部75aと直線部75bは異なる材料で形成されていてもよい。たとえば、スプリング部75aが金属で形成され、直線部75bは糸等で形成されていてもよい。
また、上記実施の形態においては、吊り部75がスプリング部75aと直線部75bとで形成される構成としたが、XY方向及びZ方向の振動の周波数を測定に影響を及ぼさない周波数に変換できれば、吊り部75はスプリング部75aだけで形成されていてもよい。
また、上記実施の形態においては、基台11と支持柱73との間にゴム材などの緩衝材を介在させることで、素早く大きい振幅の振動を減衰させることができる。
また、本発明の実施の形態は上記の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の趣旨を逸脱しない範囲において様々に変更、置換、変形されてもよい。さらには、技術の進歩又は派生する別技術によって、本発明の技術的思想を別の仕方で実現することができれば、その方法を用いて実施されてもよい。したがって、特許請求の範囲は、本発明の技術的思想の範囲内に含まれ得る全ての実施態様をカバーしている。
本実施の形態では、本発明を測定装置に適用した構成について説明したが、振動が発生する他の装置に適用することも可能である。
以上説明したように、本発明は、簡易な機構で測定に影響を及ぼす振動を抑えることができるという効果を有し、特に、ワークを測定する測定装置に有用である。
1 測定装置
10 測定機器
11 基台
20 テーブル
30 移動手段
60 撮像手段
61 顕微鏡
70 除振手段
74 フレーム
75 吊り部
75a スプリング部(スプリング)
W ワーク

Claims (3)

  1. 測定するワークを載置するテーブルと、該テーブルに載置されたワークを上から測定する顕微鏡と、該テーブルをXYZ方向に移動させる移動手段と、該顕微鏡と該移動手段とを配設する基台とを備えた測定機器と、該測定機器の測定に影響のある振動の周波数帯域をなくす除振手段とを備える測定装置であって、
    該除振手段は、該測定機器を覆うフレームと、該測定機器の重心を中心として放射方向に4か所で該測定機器を該フレームから吊り下げる4つの吊り部と、を備え、
    該吊り部は、スプリングを有する測定装置。
  2. 該顕微鏡として、二光束干渉顕微鏡を用いた請求項1記載の測定装置。
  3. 該測定機器と該フレームとの間に緩衝材を介在させた請求項1または請求項2記載の測定装置。
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