JP2018110269A - インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 82
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 77
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 63
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims abstract 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 22
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 107
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 50
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 description 19
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 2
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
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Abstract
【解決手段】 型を用いて基板上の被処理領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置において、第1光を射出する光源から射出され、被処理領域で反射され、かつ型を透過した第1光を受光する受光部とを備えた観察手段と、第2光の照射により被処理領域を熱変形させる変形手段と、第3光の照射によりインプリント材を硬化させる硬化手段と、第1光と第2光を合成して、第1光と第2光を被処理領域に導く合成部と、合成部から導かれる光と硬化手段から照射された第3光を被処理領域に導く光学部材を設ける。
【選択図】 図1
Description
(装置構成)
図1は、本発明の第1実施形態にかかるインプリント装置1の構成を示す図である。鉛直方向の軸をZ軸、当該Z軸に垂直な平面内で互いに直交する2軸をX軸及びY軸としている。インプリント装置1は、基板2上に塗布された光硬化性のインプリント材3と、モールド4(型)とを接触させた状態でインプリント材3を硬化させ、硬化したインプリント材3とモールド4とを引き離して、基板2上にインプリント材3のパターンを形成する。
次に、本実施形態にかかるインプリント方法について説明する。本実施形態は、パターン領域31ごとに必要となる照度プロファイルが異なる実施形態であって、パターン形成動作のうち押印前(型とインプリント材を接触させる前)に熱変形計測を行う実施形態である。
インプリント装置1の各種光学系の構成について説明する。本実施形態では、加熱光の波長帯域は観察光の波長帯域とは異なる。そのため、光学素子12bとしてダイクロイックミラーを使用している。光学素子12bが、観察部23の光源23aから射出される観察光を透過し、加熱光の大部分を基板2に向けて反射することによって、観察光の光路の一部と、加熱光の光路の一部を共通にしている。
図5は、第2実施形態にかかるインプリント装置200の構成を示す図である。インプリント装置200は、光学素子12bから受光部23bに向かう観察光の光路上に配置され、加熱光の透過率よりも観察光の透過率の方が高い光学素子(光学部材)を有する。当該光学素子として、例えば、バンドパスフィルター(波長選択手段)60を使用する。加熱機構15は、光源61とDMD64のみを図示し、その他の光学系の図示は省略している。照射部10の図示も省略している。その他の構成は第1実施形態と同様である。
図6は、第3実施形態にかかるインプリント装置300の構成を示す図である。インプリント装置300は、光源23aが射出した観察光と加熱機構15からの加熱光とを合成して、観察光と加熱光とをパターン領域31に導く合成部としてのミラー74を有する。さらに、加熱光および観察光を遮光可能な遮光部材70と、遮光部材70を駆動する駆動部72とを有する。照射部10の図示は省略している。
遮光部材70の代わりに、図11に示す遮光部材77を使用してもよい。遮光部材77には、3箇所の切欠き部78が等角度で形成されている。これにより、最大で120°の角度範囲で、観察光と加熱光との少なくとも一方の遮光することができる。切り替えに要する時間を短縮することができる。
遮光部材70の代わりに、図12に示す遮光部材80を使用しても良い。回転軸81を中心として、駆動部72は遮光部材80を回転方向に駆動させる。これにより、観察光および加熱光を遮光する状態(図12(a))、加熱光のみ遮光して観察光を透光する状態(図12(b))、観察光のみ遮光して加熱光を透過する状態(図12(c))とを切り替えることができる。
標準照度プロファイルは、それぞれのパターン領域31に共通であっても、パターン領域31毎に異なるものであってもよい。また、パターン領域31が、1つのショット領域である場合を例に説明したがこれに限られない。例えば、パターン領域31は、複数のショット領域相当のサイズであってもよい。
インプリント装置を用いて形成した硬化物のパターンは、各種物品の少なくとも一部に恒久的に、或いは各種物品を製造する際に一時的に、用いられる。
2 基板
3 インプリント材
4 型
14a 光学素子(合成部)
15 加熱機構(変形手段)
23 観察部(観察手段)
23a 光源
23b 受光部
31 パターン領域(被処理領域)
74 ミラー(合成部)
Claims (8)
- 型を用いて基板上の被処理領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
第1光を射出する光源から射出され、前記被処理領域で反射され、かつ前記型を透過した前記第1光を受光する受光部とを備えた観察手段と、
第2光の照射により前記被処理領域を熱変形させる変形手段と、
第3光の照射により前記インプリント材を硬化させる硬化手段と、
前記第1光と前記第2光を合成して、前記第1光と前記第2光を前記被処理領域に導く合成部と、
前記合成部から導かれる光と前記硬化手段から照射された前記第3光を前記被処理領域に導く光学部材を有することを特徴とするインプリント装置。 - 前記光学部材は、前記第2光の透過率よりも前記第1光の透過率の方が高いことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記光学部材は、バンドパスフィルターであることを特徴とする請求項1または2に記載のインプリント装置。
- 型を用いて基板上の被処理領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
第1光を射出する光源から射出され、前記被処理領域で反射され、かつ前記型を透過した前記第1光を受光する受光部とを備えた観察手段と、
第2光の照射により前記被処理領域を熱変形させる変形手段と、
前記第1光と前記変形手段からの前記第2光とを合成して、前記第1光と前記第2光とを前記被処理領域に導く合成部と、を有し、
前記第1光の光源の出力の大きさは、前記第2光の光源の出力の大きさよりも大きいことを特徴とするインプリント装置。 - 前記第2光の波長帯域は前記第1光の波長帯域とは異なり、前記合成部はダイクロイックミラーであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記第1光の波長帯域は前記第2光の波長帯域を含み、前記合成部は入射した光の一部を透過し、残りの光を所定の方向に反射するミラーであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記観察手段は、前記第1光を用いて前記型と前記被処理領域との間の前記インプリント材の状態を観察することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 請求項1乃至7のいずれか1項に記載のインプリント装置を用いて基板上に前記インプリント材のパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンの形成された基板に加工する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015117798 | 2015-06-10 | ||
JP2015117798 | 2015-06-10 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016087315A Division JP6316338B2 (ja) | 2015-06-10 | 2016-04-25 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018110269A true JP2018110269A (ja) | 2018-07-12 |
JP6563062B2 JP6563062B2 (ja) | 2019-08-21 |
Family
ID=57754468
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016020933A Active JP6282298B2 (ja) | 2015-06-10 | 2016-02-05 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
JP2016087315A Active JP6316338B2 (ja) | 2015-06-10 | 2016-04-25 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
JP2018009958A Pending JP2018110239A (ja) | 2015-06-10 | 2018-01-24 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
JP2018058304A Active JP6563062B2 (ja) | 2015-06-10 | 2018-03-26 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
Family Applications Before (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016020933A Active JP6282298B2 (ja) | 2015-06-10 | 2016-02-05 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
JP2016087315A Active JP6316338B2 (ja) | 2015-06-10 | 2016-04-25 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
JP2018009958A Pending JP2018110239A (ja) | 2015-06-10 | 2018-01-24 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (4) | JP6282298B2 (ja) |
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US11921423B2 (en) | 2018-11-08 | 2024-03-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus and product manufacturing method |
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JP6606567B2 (ja) * | 2017-04-17 | 2019-11-13 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
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-
2016
- 2016-02-05 JP JP2016020933A patent/JP6282298B2/ja active Active
- 2016-04-25 JP JP2016087315A patent/JP6316338B2/ja active Active
-
2018
- 2018-01-24 JP JP2018009958A patent/JP2018110239A/ja active Pending
- 2018-03-26 JP JP2018058304A patent/JP6563062B2/ja active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6316338B2 (ja) | 2018-04-25 |
JP6563062B2 (ja) | 2019-08-21 |
JP2017005244A (ja) | 2017-01-05 |
JP6282298B2 (ja) | 2018-02-21 |
JP2017005239A (ja) | 2017-01-05 |
JP2018110239A (ja) | 2018-07-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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