JP2018107321A - 半導体発光装置および半導体発光装置の製造方法 - Google Patents
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本発明の目的は、構造が簡単で、かつ高い歩留まりで半導体発光装置を製造できる方法、および当該方法によって製造された半導体発光装置を提供することである。
これにより得られる本発明の一実施形態に係る半導体発光装置は、35μm〜80μmの厚さを有する基板と、前記基板上の金属層と、前記金属層上の透光導電層と、前記透光導電層上に形成され、発光層、前記発光層に対して前記基板側に配置された第1導電型層、および前記発光層に対して前記基板の反対側に配置された第2導電型層を含む半導体層と、前記半導体層の表面に選択的に形成された表面電極と、前記基板の裏面に形成された裏面電極と、前記半導体層の表面に選択的に形成された微細な凹凸構造とを含む。
また、本発明の一実施形態に係る半導体発光装置の製造方法は、前記表面電極の形成後、前記薄化工程までに、前記表面電極にプローブを接触させることによって、前記表面電極の導通試験を行う工程を含んでいてもよい。
本発明の一実施形態に係る半導体発光装置の製造方法では、前記フロスト処理は、前記半導体層の表面をウエットエッチングする工程を含んでいてもよい。
本発明の一実施形態に係る半導体発光装置では、前記透光導電層の光学膜厚が、0.125λ〜0.5λ(ただし発光波長λ=750nm〜1000nm)であってもよい。
この構成によれば、透光導電層の光学膜厚を上記の範囲にすることによって、半導体発光装置の出力を高めることができる。
本発明の一実施形態に係る半導体発光装置では、前記金属層は、4000Å〜10000Åの厚さを有していてもよい。
この構成によれば、半導体発光装置の製造工程において、たとえば表面電極にボンディングワイヤを接合するときに、金属層の剥がれ(たとえば、上記第1金属層と第2金属層との間の剥離)を抑制できるとともに、ウエハ分割時のチッピングやチップ割れ等を抑制することもできる。
本発明の一実施形態に係る半導体発光装置では、前記基板は、シリコン基板を含んでいてもよい。
図1は、本発明の一実施形態に係る半導体発光装置1の模式的な平面図である。図2は、図1のII-II線に沿って半導体発光装置1を切断したときに現れる断面図である。図3は、図2の発光層8の層構成を説明するための図である。
半導体発光装置1は、基板2と、基板2上の金属層3と、金属層3上の透光導電層4と、透光導電層4上の本発明の半導体層の一例としてのIII−V族半導体構造5と、基板2の裏面(III−V族半導体構造5と反対側の表面)に接触するように形成された本発明の裏面電極の一例としてのp側電極6と、III−V族半導体構造5の表面に接触するように形成された本発明の表面電極の一例としてのn側電極7(表面電極)とを含む。
p型GaPコンタクト層11は、GaPにたとえばp型ドーパントとしてのC(カーボン)やZn(亜鉛)を高濃度にドープすることによってp型半導体とされている。この実施形態では、p型GaPコンタクト層11は、基板2側から順に、GaPにCをドープすることによって構成された第1層31と、GaPにZnをドープすることによって構成された第2層32とを積層して構成されている。第1層31および第2層32の各厚さは、たとえば、第1層31=3000Å程度、第2層32=4600Å程度であってもよい。また、第1層31および第2層32の屈折率は、互いに同じ(たとえば、3.180程度)であってもよい。
p型AlGaAsウィンドウ層12は、AlGaAsにたとえばp型ドーパントとしてのZnをドープすることによってp型半導体とされている。この実施形態では、p型AlGaAsウィンドウ層12は、基板2側から順に、Al組成がGa組成よりも少ない(たとえば、Al:30%、Ga:70%)組成比を有する第1層33と、Al組成がGa組成よりも多い(たとえば、Al:60%、Ga:40%)組成比を有する第2層34とを積層して構成されている。第1層33および第2層34の各厚さは、たとえば、第1層33=10000Å程度、第2層34=22000Å程度であってもよい。また、第1層33および第2層34の屈折率は、発光層8に近い第2層34の方が小さくてもよい。たとえば、第1層33の屈折率が3.431程度であり、第2層34の屈折率が3.234程度であってもよい。
発光層8は、この実施形態では、図3に示すように、InGaAs層からなる量子井戸層37(たとえば80Å厚)とAlGaAs層からなる障壁層38(たとえば52Å厚)とを交互に複数周期繰り返し積層して構成された多重量子井戸(MQW:Multiple-Quantum Well)構造45と、この多重量子井戸構造45を上下両側から挟む、p型AlGaAsガイド層39およびn型AlGaAsガイド層40とを有している。たとえば、量子井戸層37(InGaAs)と障壁層38(AlGaAs)とは交互に2〜50周期繰り返し積層されており、これにより、多重量子井戸構造の発光層8が構成されている。発光波長は、量子井戸層37のバンドギャップに対応しており、バンドギャップの調整はInまたはGaの組成比を調整することによって行うことができる。この実施形態では、発光波長は、量子井戸層37(InGaAs)におけるInおよびGaの組成を調整することによって、750nm〜1000nm(たとえば870nm)とされている。
半導体発光装置1を製造するには、たとえば図4Aに示すように、GaAs等からなる本発明の第1基板の一例としての成長基板46(ウエハ)上に、エピタキシャル成長によってIII−V族半導体構造5が形成される。III−V族半導体構造5の成長方法は、たとえば、分子線エピタキシャル成長法、有機金属気相成長法等、公知の成長方法を適用できる。この段階では、III−V族半導体構造5は、成長基板46の側から順に、n型GaAsコンタクト層16、n型AlGaAsウィンドウ層15、n型AlGaAsクラッド層14、発光層8、p型AlGaAsクラッド層13、p型AlGaAsウィンドウ層12およびp型GaPコンタクト層11を含んでいる。次に、たとえば蒸着法によって、III−V族半導体構造5(p型GaPコンタクト層11)上に透光導電層4が形成される。
次の工程は、成長基板46と基板2との貼合わせ工程である。貼合わせ工程では、成長基板46上の第1金属層26と基板2上の第2金属層27とが接合される。第2金属層27は、AuまたはAuを含む合金で構成されており、少なくとも最表面がAu層で構成されている。この第2金属層27は、貼合わせ前に、たとえば蒸着法によって、本発明の第2基板の一例としての基板2の表面(前述のp側電極6が形成される面の反対面)に形成されたものである。
次の工程は、n側電極7の形成工程である。この実施形態では、リフトオフ法によってn側電極7が形成される。より具体的には、まず、n側電極7の電極パターンと同一パターンの開口を有するレジスト(図示せず)が、III−V族半導体構造5(n型GaAsコンタクト層16)上に形成される。次に、たとえば蒸着法によって、III−V族半導体構造5上に電極材料膜(図示せず)が積層される。次に、当該レジスト上の電極材料膜が、レジストと共に除去される。これにより、n型GaAsコンタクト層16上に残った電極材料膜からなるn側電極7が形成される。その後、図示しないが、n側電極7から露出するn型GaAsコンタクト層16がエッチングによって除去される。これにより、n側電極7以外の部分にn型AlGaAsウィンドウ層15が露出することになる。
次に、図4Gに示すように、たとえば基板2を裏面側から研削することによって、基板2が薄くされる。なお、基板2の薄化は、たとえば、ドライエッチングやウエットエッチング等のエッチングによって行ってもよい。これにより、薄化工程の前に300μm〜600μmの厚さを有している基板2が、35μm〜80μmの厚さに加工される。
次に、図4Iに示すように、たとえば蒸着法によって、基板2の裏面にp側電極6が形成される。
次に、図4Jに示すように、支持基板48がIII−V族半導体構造5から取り外され、代わりに、基板2の裏面側に支持基板49が貼り付けられる。たとえば、p側電極6が支持基板49に接合されてもよい。
次に、上記半導体発光装置1を構成する層や膜の厚さが、半導体発光装置1の電気的特性や歩留まりにどのような影響を与えるかを説明する。
より具体的には、シミュレーションによって、ITO膜厚とパルス出力との関係を調べた。使用したシミュレーションサンプルNo.1〜6の各光学膜厚および各物理膜厚は、下記表1の通りである。図5に示すように、ITOの物理膜厚が薄いほど出力が高くなる傾向がある。図5では、物理膜厚の下限は680Åであるが、ITOの物理膜厚が500Åを下回ると、ITO/Auとの密着性が低下する可能性が高いため、ITOの膜厚は、たとえば500Å〜3000Åであることが好ましく、600Å〜2000Åであることがさらに好ましい。
より具体的には、前述の半導体発光装置1の構造に倣って半導体発光装置をウエハ状態で作製し、作製後、表面電極(図1のパッド電極部20)にボンディングワイヤを接合した(サンプル数は4000個)。このボンディング時に、ウエハの中央部および外周部でAu層の剥がれが生じた個数を、Au層の膜厚ごとに調べた。その結果を、表2に示す。表2において、「100%剥がれ」は、該当する評価箇所においてAu層が完全に剥がれたことを示し、「50%剥がれ」は、該当する評価箇所においてAu層が半分程度剥がれたことを示している。
2 基板
3 金属層
4 透光導電層
5 III−V族半導体構造
6 p側電極
7 n側電極
8 発光層
9 p型半導体層
10 n型半導体層
11 p型GaPコンタクト層
12 p型AlGaAsウィンドウ層
13 p型AlGaAsクラッド層
14 n型AlGaAsクラッド層
15 n型AlGaAsウィンドウ層
16 n型GaAsコンタクト層
19 微細な凹凸構造
26 第1金属層
27 第2金属層
28 Au層
29 Au層
46 成長基板
47 プローブ
48 支持基板
Claims (11)
- 第1基板上に、発光層を含む半導体層、透光導電層および第1金属層をこの順に形成する工程と、
第2基板上に、第2金属層を形成する工程と、
前記第1金属層および前記第2金属層を互いに接合することによって、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程と、
前記貼り合わせ後、前記第1基板を除去する工程と、
前記第1基板の除去後、前記半導体層の表面に選択的に表面電極を形成する工程と、
前記表面電極の形成後、前記第2基板を裏面側から薄化する工程と、
前記薄化工程の後、前記半導体層の表面側に支持基板を貼り付ける工程と、
前記支持基板で前記半導体層を支持した状態で、前記第2基板の裏面に裏面電極を形成する工程と、
前記支持基板を取り外し、前記半導体層の表面をフロスト処理することによって、前記半導体層の前記表面に微細な凹凸構造を形成する工程とを含む、半導体発光装置の製造方法。 - 前記第2基板は、前記薄化工程の前に300μm〜600μmの厚さを有しており、前記薄化工程によって、35μm〜80μmの厚さに加工される、請求項1に記載の半導体発光装置の製造方法。
- 前記表面電極の形成後、前記薄化工程までに、前記表面電極にプローブを接触させることによって、前記表面電極の導通試験を行う工程を含む、請求項1または2に記載の半導体発光装置の製造方法。
- 前記フロスト処理は、前記半導体層の表面をウエットエッチングする工程を含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の半導体発光装置の製造方法。
- 35μm〜80μmの厚さを有する基板と、
前記基板上の金属層と、
前記金属層上の透光導電層と、
前記透光導電層上に形成され、発光層、前記発光層に対して前記基板側に配置された第1導電型層、および前記発光層に対して前記基板の反対側に配置された第2導電型層を含む半導体層と、
前記半導体層の表面に選択的に形成された表面電極と、
前記基板の裏面に形成された裏面電極と、
前記半導体層の表面に選択的に形成された微細な凹凸構造とを含む、半導体発光装置。 - 前記基板と前記半導体層のトータルの厚さが、250μm〜600μmである、請求項5に記載の半導体発光装置。
- 前記透光導電層の光学膜厚が、0.125λ〜0.5λ(ただし発光波長λ=750nm〜1000nm)である、請求項5または6に記載の半導体発光装置。
- 前記第2導電型層は、前記発光層上に、順に積層された、第2導電型クラッド層、第2導電型ウィンドウ層および第2導電型コンタクト層を含み、
前記第2導電型ウィンドウ層は、前記第2導電型コンタクト層から選択的に露出した露出面を有し、
前記微細な凹凸構造は、前記第2導電型ウィンドウ層の露出面に形成され、
前記第2導電型ウィンドウ層は、2μm〜6μmの厚さを有している、請求項5〜7のいずれか一項に記載の半導体発光装置。 - 前記金属層は、4000Å〜10000Åの厚さを有している、請求項5〜8のいずれか一項に記載の半導体発光装置。
- 前記金属層は、Auを含む、請求項5〜9のいずれか一項に記載の半導体発光装置。
- 前記基板は、シリコン基板を含む、請求項5〜10のいずれか一項に記載の半導体発光装置。
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