JP2018106070A - 光反射板およびそれを用いた採光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】長期間にわたって使用した場合においても、反射率の低下を抑制することができ、耐久性に優れた光反射板を提供する。【解決手段】光反射板１０は、基体１と、基体上に形成され、銀または銀合金からなる反射層３と、反射層上に形成され、有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が無機シリカ構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物を含有し、厚みが、１０μｍ超、３０μｍ未満である保護層４と、を備える。【選択図】図１

Description

本発明は、光反射板およびそれを用いた採光装置に関する。

従来、光反射部材を備えた照明装置として、光ダクト、蛍光灯や水銀灯などの照明器具、液晶表示装置のエッジライト型バックライトなどが知られている。光反射部材を備えた照明装置においては、照明の高効率化および省エネルギー化に伴い、照明装置に備えられる光反射部材に対しても、高反射率化が求められている。

このような照明装置に用いられる光反射部材として、たとえば特許文献１には、金属板上に、バインダ層を介して、反射率が高い銀または銀合金からなる反射層をめっき法により形成した後、該反射層上に、有機樹脂膜と無機膜との２層で構成された保護層を形成してなる光反射板が開示されている。

特許第５４５７１７６号

しかしながら、上記特許文献１の技術では、得られる光反射板は、長期間にわたって空気中の腐食性ガスに曝されると、反射層に変色や汚れ等が発生し、反射率が低下してしまうおそれがあるという問題があった。

本発明は、長期間にわたって使用した場合においても、反射率の低下を抑制することができ、耐久性に優れた光反射板を提供することを目的とする。また、本発明は、このような光反射板を用いて得られる採光装置を提供することも目的とする。

本発明者らは、上述の目的を達成すべく鋭意検討した結果、基体上に、反射層および保護層を形成してなる光反射板において、保護層を、特定の化合物を用いて、特定の厚みとなるように形成することにより、上記目的を達成できることを見出し本発明を完成させるに至った。

すなわち、本発明によれば、基体と、基体上に形成され、銀または銀合金からなる反射層と、前記反射層上に形成され、有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が、無機シリカ構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物を含有し、厚みが、１０μｍ超、３０μｍ未満である保護層と、を備える光反射板が提供される。

本発明の光反射板において、前記保護層が、表層と、前記表層の下地として形成される下地層とを含む少なくとも２層からなり、前記表層が、前記有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が無機シリカ構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物を含有し、前記下地層が、有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が有機シロキサン構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物を含有し、前記表層および前記下地層の合計の厚みが、１０μｍ超、３０μｍ未満であることが好ましい。
本発明の光反射板において、前記基体と前記反射層との間に、有機樹脂材料および無機材料のうちいずれか１種またはこれらの混合物からなる第１バインダ層をさらに備えることが好ましい。
本発明の光反射板において、前記反射層と前記保護層との間に、有機樹脂材料および無機材料のうちいずれか１種またはこれらの混合物からなる第２バインダ層をさらに備えることが好ましい。

また、本発明によれば、光を取り込む採光部と、前記採光部から取り込んだ光を導く導光部と、前記導光部により導かれた光を目的箇所に放射する放光部と、前記取り込んだ光の少なくとも一部を反射する反射面と、を備える採光装置であって、前記反射面に、上記の光反射板が設置されてなる採光装置が提供される。

本発明によれば、長期間にわたって使用した場合においても、反射率の低下を抑制することができ、耐久性に優れた光反射板を提供することができる。

図１は、本実施形態の光反射板の構成の一例を示す図である。 図２は、本実施形態の光反射板の作用について説明するための図である。 図３は、従来の光反射板について説明するための図である。 図４は、本実施形態の光反射板の構成の他の例を示す図である。 図５は、本実施形態の光反射板の構成のさらに他の例を示す図である。 図６は、本実施形態の採光装置の構成の一例を示す図である。 図７は、本実施形態の採光装置の構成の他の例を示す図である。 図８は、実施例および比較例の光反射板について、硫化水素ガスに暴露した場合における予測耐久年数を求めた結果を示すグラフである。 図９は、実施例、比較例および参考例で用いた樹脂について、酸素透過率を測定した結果を示すグラフである。 図１０は、実施例、比較例および参考例について、光反射板の硫化水素ガス暴露後の全反射率と、使用した樹脂の酸素透過率との関係を示したグラフである。 図１１は、実施例、比較例および参考例について、光反射板の硫化水素ガス暴露後の全反射率と、使用した樹脂の比重との関係を示したグラフである。 図１２は、実施例、比較例および参考例について、光反射板の硫化水素ガス暴露後の全反射率と、使用した樹脂の吸水率との関係を示したグラフである。

以下、図面に基づいて、本発明の実施形態について説明する。

図１は、本実施形態に係る製造方法により製造される光反射板１０の構成を示す図である。図１に示すように、光反射板１０は、基体１、第１バインダ層２１、反射層３、および保護層４を、この順に積層することにより、形成されている。

＜基体１＞
基体１としては、所望の形状に加工可能な材質で構成すればよいが、本実施形態では、加工性に優れるという点より、金属板を用いることが好ましい。また、基体１を構成する金属板としては、特に限定されないが、鋼板、アルミニウム板、アルミニウム合金板などが挙げられ、これらのなかでも、耐食性に優れるという点から、アルミニウム合金板が好ましく用いられる。

鋼板としては、クロム含有量が１１重量％未満の鉄合金の板、または、クロム含有量が１１重量％以上の鉄合金、いわゆるステンレスの板が挙げられる。特に、クロム含有量が１１重量％未満の鉄合金鋼板は、アルミニウムやステンレスと比べて安価な材料であるため、コスト的に有利である。なお、ステンレスとしては、たとえば、ＪＩＳ Ｇ ４３０４またはＪＩＳ Ｇ ４３０５に記載されたものなどを用いることができる。

アルミニウム合金板は、アルミニウムを主成分とし、強度、加工性、耐食性などを付与するためにマグネシウム（Ｍｇ）、マンガン（Ｍｎ）、シリコン（Ｓｉ）などを添加し、合金化したものである。たとえば、ＪＩＳ Ｈ ４０００に記載されたアルミニウム板、アルミニウム合金板などを用いることができる。

また、基体１を構成するための金属板としては、表面処理が施された表面処理金属板であってもよい。表面処理金属板としては、上記した金属板の表面に各種めっきを施したもの、またはアルミニウム板の表面にアルマイト処理を施したものなどが挙げられる。

めっきの材料としては、特に限定されないが、亜鉛や亜鉛合金を用いることができ、たとえば、亜鉛合金として、亜鉛に５〜５５重量％のアルミニウムを含有するもの、亜鉛にコバルト、モリブデンを含有するものなどを用いることができる。その他の亜鉛合金としては、亜鉛にニッケルもしくは鉄を含有するもの、またはアルミニウムおよびマグネシウムを含有するものなども用いることができる。

亜鉛めっき鋼板は基板としてそのまま用いてもよいが、さらに、亜鉛等のめっきの剥がれや変質をより有効に防止することができるという観点より、化成処理を施してもよい。化成処理としては、たとえば、クロメート処理、リン酸塩処理、リチウム−シリケート処理、シランカップリング処理あるいは、ジルコニウム処理などが挙げられる。

表面処理鋼板としては、犠牲防食硬化を有する安価な亜鉛または亜鉛合金めっきを施したものが好ましいが、その他、ニッケル、クロム、銅、錫などのめっき、またはこれらを主成分とした合金めっきを施した表面処理鋼板などを用いてもよい。

基体１の厚みは、特に限定されず、使用用途に応じて適宜選択すればよいが、通常、０．０５〜１．２ｍｍであり、好ましくは０．４〜０．８ｍｍである。

＜第１バインダ層２１＞
第１バインダ層２１は、基体１上に必要に応じて形成することができ、第１バインダ層２１を設けることで、第１バインダ層２１上に形成される反射層３の密着性が向上し、さらに、反射層３の平滑性を向上させることができる。

本実施形態においては、第１バインダ層２１は、有機樹脂材料および無機材料のうちいずれか１種、またはこれらの混合物により形成することができる。

第１バインダ層２１を有機樹脂材料により形成する場合には、第１バインダ層２１を形成する方法としては、特に限定されないが、たとえば、基体１上に有機樹脂材料を塗布して第１バインダ層２１を形成する方法、フィルム状の有機樹脂材料を基体１上に積層することで第１バインダ層２１を形成する方法などが挙げられる。

有機樹脂材料を塗布して第１バインダ層２１を形成する場合には、塗布に用いる有機樹脂材料としては、特に限定されないが、たとえば、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合合成樹脂）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、アセタール樹脂など挙げられる。これらのなかでも、アクリルウレタン樹脂が特に好ましい。これらの樹脂は、１種単独で、あるいは、２種以上をブレンドして用いることができる。

また、フィルム状の有機樹脂材料を積層して第１バインダ層２１を形成する場合には、フィルム状とする有機樹脂材料としては、特に限定されないが、たとえば、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、アセテート樹脂、ポリスチレン樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリエステル樹脂などが挙げられる。これらの樹脂は、１種単独で、あるいは、２種以上をブレンドして用いることができる。

なお、フィルム状の有機樹脂材料を積層して第１バインダ層２１を形成する場合には、単層のフィルムを積層してもよく、同一のフィルムまたは異なるフィルムを２層以上積層してもよい。

また、フィルム状の有機樹脂材料を積層して第１バインダ層２１を形成する場合には、接着剤からなる接着剤層を介して、積層してもよい。この場合には、まず、基体１上に接着剤を塗布することで、基体１上に接着剤層を形成し、次いで、形成した接着剤層を介して、フィルムを基体１上に積層することにより、第１バインダ層２１を形成することができる。接着剤からなる接着剤層を介して、基体１上に第１バインダ層２１を形成することにより、基体１と、第１バインダ層２１との密着性をより向上させることができる。

ここで用いる接着剤としては、特に限定されないが、たとえば、ポリエステル系、アクリル系、酢酸ビニル樹脂系、エチレン−ビニルアセテート樹脂系、尿素樹脂系、ウレタン樹脂系などのエマルジョン型接着剤が、火気に対して安全で、臭気もなく、価格的にも安価なため好ましく用いられる。

また、接着剤層の厚みは、好ましくは１〜６μｍであり、より好ましくは３〜５μｍである。接着剤層の厚みを上記範囲とすることで、基体１と、第１バインダ層２１とをより良好に接着することができる。

第１バインダ層２１を有機樹脂材料により形成する場合には、第１バインダ層２１の厚みは、全体として１〜２０μｍが好ましく、５〜１０μｍがより好ましい。有機樹脂材料により形成する第１バインダ層２１の厚みを上記範囲とすることにより、第１バインダ層２１上に形成される反射層３の密着性をより向上させることができるとともに、第１バインダ層２１をより平滑に形成することができ、これにより、第１バインダ層２１上に形成する反射層３の平滑性をより向上させることができる。

第１バインダ層２１を無機材料により形成する場合には、第１バインダ層２１を形成する方法としては、特に限定されないが、たとえば、無機材料を含んだ水分散ゾル水溶液を浸漬処理あるいは電解処理（陰極処理または陽極処理）する方法などが挙げられる。

無機材料としては、特に限定されないが、たとえば、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ハフニウムの単体、またはこれらを２種以上含んだ混合物を用いることができる。

第１バインダ層２１を無機材料により形成する場合には、第１バインダ層２１の厚みは、０．０５〜５μｍが好ましく、０．１〜１μｍがより好ましい。無機材料により形成する第１バインダ層２１の厚みを上記範囲とすることにより、無機材料が凝集して凝集破壊が発生してしまうことをより有効に防止することができるとともに、第１バインダ層２１をより平滑に形成することができ、これにより、第１バインダ層２１上に形成する反射層３の平滑性をより向上させることができる。

本実施形態においては、このような無機材料を含有させた有機樹脂材料を用いて、第１バインダ層２１を形成してもよい。この際においては、第１バインダ層２１をより平滑に形成することができるという観点より、第１バインダ層２１を、上下２層構造とし、下層のみ、無機材料を含有させた有機樹脂材料により形成し、上層は、有機樹脂材料のみから形成することが好ましい。

なお、第１バインダ層２１は、コロナ放電処理、グロー放電処理などの表面処理を施したものであってもよい。第１バインダ層２１に上記の表面処理を施すことにより、第１バインダ層２１上に積層される反射層３との密着性がより向上する。

＜反射層３＞
反射層３は、銀または銀合金からなる層である。銀は元素の中でも可視光域において高い反射率を有していることから、光反射板１０の反射率を高めるという観点より、好適である。銀合金は、銀に、錫、インジウム、亜鉛、ニッケル、銅あるいはパラジウムを添加したものが好ましい。添加する金属の添加量としては、反射層３の反射率をより高いものとすることができるという観点より、好ましくは３重量％以下である。

反射層３は、銀鏡反応により銀を還元析出させる無電解めっき法、たとえば、スプレーめっき法により形成することができる。その他に、銀イオンを含む水溶液中で電気分解を行なう電気めっき法や、減圧雰囲気下にて銀を蒸発させて皮膜を形成する蒸着法などにより形成することができる。

反射層３の厚みは、好ましくは０．０４〜０．２μｍであり、より好ましくは０．０５〜０．１１μｍである。反射層３の厚みを上記範囲とすることにより、反射層３に多数のピンホールが発生してしまうことを有効に防止することができ、これにより、反射層３の反射率をより向上させることができる。

＜保護層４＞
保護層４は、反射層３を保護するための層であり、有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が無機シリカ構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物を含む層である。

本実施形態によれば、保護層４を、このような有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が無機シリカ構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物を用いて形成することにより、得られる光反射板１０について、長期間にわたって使用した場合においても、反射率の低下を抑制することができ、耐久性に優れたものとすることができる。

すなわち、反射層３は、銀または銀合金からなるため、大気に露出されると、変色や汚れ等が発生して反射率が低下しやすく、特に、雰囲気が硫化水素等の硫黄系ガスを微量でも含む場合には、硫黄系ガスの腐食作用により、変色や汚れ等が進行して反射率が低下しやすくなるという性質を有する。また、反射層３に付着した砂塵、埃を洗浄する場合、反射層３は洗剤による変色跡が残り易いという性質も有する。

これに対し、本実施形態によれば、上述した保護層４を形成することにより、反射層３を砂塵、埃から保護するとともに、硫化水素等の硫黄系ガスが反射層３に接触してしまうことを抑制することができ、これにより、得られる光反射板１０について、長期間にわたって使用した場合においても、反射率の低下を抑制することができ、耐久性に優れたものとすることができる。

保護層４を構成する化合物に含まれる有機高分子鎖としては、特に限定されないが、透明性が高く、薄層化が可能な樹脂構造が好ましい。このような樹脂構造を構成する樹脂の具体例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられ、アクリル樹脂が特に好ましく、より好ましくはアクリル１００％が好ましい。

本実施形態においては、保護層４を構成する化合物は、このような有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が、無機シリカ構造を介して架橋されてなる架橋構造を有するものであればよいが、たとえば、下記一般式（１）で表される化合物が挙げられる。
（上記一般式（１）中、Ｐｏｌｙｍｅｒは有機高分子鎖である。また、上記一般式（１）中、破線で示した部分は、アルキル基、１官能性のＲ_３ＳｉＯ_１／２単位（シロキサン結合を１つ形成可能な単位）、２官能性のＲ_２ＳｉＯ単位（シロキサン結合を２つ形成可能な単位）、３官能性のＲＳｉＯ_３／２単位（シロキサン結合を３つ形成可能な単位）、または４官能性のＳｉＯ_２単位（シロキサン結合を４つ形成可能な単位）からなる。）

上記一般式（１）で表される化合物は、Ｐｏｌｙｍｅｒで示す複数の有機高分子鎖が、少なくとも４官能性のＳｉＯ_２単位を含有した三次元架橋構造を有し、かつ、主に二酸化ケイ素から構成される無機シリカ構造によって、架橋されてなる。なお、このような無機シリカ構造は、通常、熱によって架橋構造を形成する熱硬化性を有する。また、上記一般式（１）においては、２つの有機高分子鎖（Ｐｏｌｙｍｅｒ）が無機シリカ構造によって架橋された例を示したが、有機高分子鎖の数は、２つ以上であればよく、特に限定されない。

また、上記一般式（１）で表される化合物においては、無機シリカ構造は、４官能性のＳｉＯ_２単位を含有するものであればよく、１官能性のＲ_３ＳｉＯ_１／２単位、２官能性のＲ_２ＳｉＯ単位、および３官能性のＲＳｉＯ_３／２単位を含有してもよい。

上記一般式（１）で表される化合物は、たとえば、下記一般式（２）で表されるオルガノポリシロキサンを用いて、オルガノポリシロキサンに含まれるシロキサン結合により、上述した無機シリカ構造を形成することで、複数のオルガノポリシロキサンを架橋させることにより得ることができる。
（上記一般式（２）中、Ｐｏｌｙｍｅｒは有機高分子鎖であり、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基、ｍは１以上の整数である。）

また、上記一般式（２）で表されるオルガノポリシロキサンとともに、下記一般式（３）で表されるオルガノポリシロキサンを用いて、シロキサン結合により上述した無機シリカ構造を形成することで、上記一般式（１）で表される化合物を得てもよい。
（上記一般式（３）中、Ｐｏｌｙｍｅｒは有機高分子鎖であり、Ｒ^１、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基であり、ｎは１以上整数である。）

本実施形態によれば、上述したように、有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が、無機シリカ構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物を用いて、保護層４を形成することにより、大気中の硫化水素等の硫黄系ガスが反射層３に接触してしまうことを有効に抑制することができる。すなわち、図２に示すように、本実施形態の保護層４を有する光反射板１０においては、保護層４は、有機高分子鎖が無機シリカ構造を介して架橋されたリジッドな構造となり、その結果として、有機高分子鎖による緻密な層（複数の有機高分子鎖間の隙間が比較的小さい層）が形成される。

なお、従来、光反射板の保護層を形成するための化合物として、有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が、有機シロキサン構造（たとえば、シロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−）を主鎖とし、側鎖に有機基を有する構造）を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物を用いる技術が知られている。

しかしながら、このような有機シロキサン構造によって架橋された化合物のみを用いて保護層を形成した場合には、得られる光反射板について、長期にわたって硫黄系ガスに曝された場合に、反射率が低下してしまうという問題がある。すなわち、図３に示すように、反射層３上に、上述した有機シロキサン構造によって架橋された化合物によって保護層４ａを形成した場合には、保護層４ａは、有機シロキサン構造によって、複数の有機高分子鎖間の隙間が比較的大きい構造となってしまい、これにより、保護層４ａ中を硫黄系ガスが透過しやすくなってしまう。そのため、硫黄系ガスが保護層４ａを透過して反射層３と接触しやすくなり、硫黄系ガスに起因して反射層３に変色や汚れ等が発生し、得られる光反射板の反射率が低下してしまう。

これに対し、本実施形態によれば、保護層４の作用によって、硫黄系ガスの透過が抑制され、硫黄系ガスが反射層３に接触してしまうことを抑制することが可能となり、その結果、反射層３の変色や汚れ、およびこれに起因する反射率の低下が抑制され、得られる光反射板１０について、長期にわたって硫黄系ガスに曝された場合における耐久性に優れたものとすることができる。

本実施形態においては、保護層４は、上述したように、有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が、無機シリカ構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物により形成されたものであればよいが、保護層４に含まれるケイ素の含有割合は、好ましくは７〜２０重量％、より好ましくは１０〜２０重量％、さらに好ましくは１２〜１６重量％である。保護層４に含まれるケイ素の含有割合を上記範囲とすることにより、保護層４における硫黄系ガスの透過を、より有効に抑制することができるようになる。

本実施形態においては、保護層４の厚みは、１０μｍ超、３０μｍ未満であり、好ましくは１０μｍ超２０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ超１５ｍ以下である。保護層４の厚みが薄すぎると、反射層３の保護効果が不十分となってしまい、反射層３に変色が発生したり、汚れが生じやすくなったりするおそれがある。一方、保護層４の厚みが厚すぎると、得られる光反射板１０の反射率が低下するおそれがある。

保護層４を形成する方法としては、特に限定されないが、たとえば、上記一般式（１）で表される化合物を使用して、反射層３上に該化合物の溶液（該化合物の分散液も含む）を垂らしてロールにより塗膜厚さを調整するロールコート法、反射層３を形成した基体１を該化合物の溶液に浸漬する浸漬法、反射層３を形成した基体１を搬送しながら反射層３上に該化合物の溶液を流すカーテンフロー法、該化合物の溶液を反射層３上に吹き付けるスプレー法、該化合物の溶液を反射層３上に塗布し、乾燥させるゾルゲル法、またはその他の塗布法により反射層３上に形成する方法などを用いることができる。

＜下地層４１および表層４２＞
本実施形態の光反射板１０は、上述したように、単層の保護層４が、反射層３上に形成されたものであってもよいが、図４に示す光反射板１０ａのように、保護層４ａが、下地層４１および表層４２からなり、このような保護層４ａが反射層３上に形成されたものであってもよい。なお、保護層４ａを構成する表層４２は、上述した図１に示す保護層４と同様にして形成される。すなわち、表層４２は、図１に示す保護層４と同様に、上述した化合物（有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が無機シリカ構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物）を用いて形成される。表層４２は、図４に示すように、下地層４１を介して、反射層３上に形成される。下地層４１は、反射層３を保護する作用、および反射層３と保護層４ａとの密着性をより向上させる作用を有する。

下地層４１を形成するための化合物としては、特に限定されないが、上述した保護層４を構成する化合物と同様に、有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位を有する化合物が好ましい。有機高分子鎖としては、保護層４と同様に、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられ、アクリル樹脂が特に好ましい。

下地層４１を形成するための化合物として、有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位を有する化合物を用いる場合には、下地層４１を形成するための具体的な化合物としては、たとえば、反射層３をより良好に保護し、かつ、反射層３と保護層４ａとの密着性をより向上させることができるという観点より、有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が、有機シロキサン構造（たとえば、シロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−）を主鎖とし、側鎖に有機基を有する構造）を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物が挙げられる。なお、このような有機シロキサン構造は、通常、湿気によって架橋構造を形成する湿気硬化性を有する。

有機シロキサン構造としては、特に限定されないが、たとえば、下記一般式（４）で表される構造が挙げられる。
（上記一般式（４）中、Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、または上記一般式（４）で表される単位である。すなわち、上記一般式（４）で表される単位においては、シロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−）を主鎖とし、側鎖としてＲ^５およびＲ^６を有するものであり、この側鎖としてのＲ^５およびＲ^６が、シロキサン結合を有する単位（上記一般式（４）で表される単位）であってもよい。また、ｐは１以上の整数である。）

有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が有機シロキサン構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物としては、特に限定されないが、たとえば、下記一般式（５）で表されるアミノ基変性有機高分子鎖、および下記一般式（６）で表されるエポキシ基変性シラン縮合物を反応させ、得られた反応物を架橋させてなる化合物が挙げられる。
（上記一般式（５）中、Ｐｏｌｙｍｅｒは有機高分子鎖であり、Ｒ^７およびＲ^８は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基である。）
（上記一般式（６）中、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３およびＲ^１４は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基であり、ｑは１以上の整数である。）

上記一般式（５）で表されるアミノ基変性有機高分子鎖、および上記一般式（６）で表されるエポキシ基変性シラン縮合物を反応させて得られる反応物としては、たとえば、下記一般式（７）で表される反応物が挙げられる。
（上記一般式（７）中、Ｐｏｌｙｍｅｒは有機高分子鎖であり、Ｒ^７、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３およびＲ^１４は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基であり、ｑは１以上の整数である。）

また、上記一般式（７）で表される反応物を架橋させて得られる化合物（下地層４１を構成することができる化合物）としては、下記一般式（８）で表される化合物が挙げられる。
（上記一般式（８）中、Ｐｏｌｙｍｅｒは有機高分子鎖であり、Ｒ^７、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１およびＲ^１２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基であり、ｑは１以上の整数である。）

本実施形態においては、保護層４ａを構成する下地層４１を、上記一般式（８）で表される化合物により形成することにより、得られる光反射板１０ａは、反射層３と保護層４ａとの密着性をより向上させることが可能となる。

本実施形態においては、保護層４ａの厚み（すなわち、下地層４１および表層４２の合計の厚み）は、１０μｍ超、３０μｍ未満となるようにすればよいが、下地層４１自体の厚みは、好ましくは１μｍ以上、２０μｍ未満、より好ましくは３〜１５μｍ、さらに好ましくは４〜６μｍである。また、表層４２の厚みに対する下地層４１の厚みの比（下地層４１の厚み／表層４２の厚み）は、好ましくは０．０３５〜１．９７、より好ましくは０．１１〜１．０１、さらに好ましくは０．１５〜０．５９である。保護層４ａの厚みや、表層４２の厚みに対する下地層４１の厚みの比（下地層４１の厚み／表層４２の厚み）を上記範囲とすることにより、反射層３の保護効果を十分なものとしながら、反射層３と保護層４ａとの密着性をより向上させることができる。

なお、上述した例においては、下地層４１を形成するために、上記一般式（５）で表されるアミノ基変性有機高分子鎖、および上記一般式（６）で表されるエポキシ基変性シラン縮合物を用いて得られる化合物を使用する例を挙げたが、本実施形態においては、下地層４１を形成するための化合物としては、このような例に限定されない。たとえば、上記一般式（６）で表される化合物は、１官能のエポキシ樹脂（１分子中のエポキシ基の数が一つであるエポキシ樹脂）であるが、このような化合物に代えて、２官能、３官能または４官能以上の多官能エポキシ樹脂を用いてもよい。

たとえば、多官能エポキシ樹脂としては、下記一般式（９）で表される化合物を用いることができる。
（上記一般式（９）中、Ｒ^９、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０およびＲ^２１は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基であり、ｒは０以上の整数、ｓは２以上の整数である。）

上記一般式（６）で表される化合物に代えて、上記一般式（９）で表される化合物を用いる場合には、この上記一般式（９）で表される化合物を、上記一般式（５）で表されるアミノ基変性有機高分子鎖と反応させて、下記一般式（１０）で表される反応物を得て、この反応物を架橋させてなる化合物を、下地層４１を形成するための化合物として用いることができる。
（上記一般式（１０）中、Ｒ^７、Ｒ^９、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０およびＲ^２１は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基であり、ｒは０以上の整数、ｓは２以上の整数である。）

なお、本実施形態においては、下地層４１に含まれるケイ素の含有割合は、好ましくは１〜５重量％以下、より好ましくは２〜４重量％である。下地層４１に含まれるケイ素の含有割合を上記範囲とすることにより、反射層３と保護層４ａとの密着性をより向上させることができる。

下地層４１を形成する方法としては、特に限定されないが、たとえば、上述した下地層４１を形成するための化合物を準備して、反射層３上に該化合物の溶液（該化合物の分散液も含む）を垂らしてロールにより塗膜厚さを調整するロールコート法、反射層３を形成した基体１を該化合物の溶液に浸漬する浸漬法、反射層３を形成した基体１を搬送しながら反射層３上に該化合物の溶液を流すカーテンフロー法、該化合物の溶液を反射層３上に吹き付けるスプレー法、該化合物の溶液を反射層３上に塗布し、乾燥させるゾルゲル法、またはその他の塗布法により反射層３上に作製する方法などを用いることができる。

本実施形態の光反射板１０によれば、反射層３上に形成する保護層４，４ａとして、有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が無機シリカ構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物を含有し、厚みが、１０μｍ超、３０μｍ未満である層を形成することにより、保護層４，４ａの作用によって、硫化水素等の硫黄系ガスが反射層３に接触してしまうことを抑制することができ、これにより、得られる光反射板１０について、長期間にわたって使用した場合においても、反射率の低下を抑制することができ、耐久性に優れたものとすることができる。

なお、上述した例においては、図１，４に示すように、第１バインダ層２１を基体１と反射層３との間に形成する例を示したが、本実施形態においては、第１バインダ層２１に代えて、または第１バインダ層２１とともに、反射層３と保護層４，４ａとの間に、第２バインダ層２２を形成してもよい。たとえば、図５に示す光反射板１０ｂのように、反射層３と保護層４ａとの間に、第２バインダ層２２を形成することができる。第２バインダ層２２としては、特に限定されないが、上述した第１バインダ層２１と同様に、有機樹脂材料および無機材料のうちいずれか１種、またはこれらの混合物を用いて、同様の方法により形成したものを用いることができる。

＜光反射板１０の製造方法＞
次いで、本実施形態の光反射板１０の製造方法の一例を説明する。

まず、基体１を構成するための金属板を準備し、基体１上に、上述した方法により第１バインダ層２１を形成する。

次いで、第１バインダ層２１上に、銀または銀合金からなる反射層３を形成する。以下においては、無電解めっき法により、銀または銀合金からなる反射層３を形成する方法について、説明する。

まず、第１バインダ層２１の表面に、塩酸を含有する塩化第２錫、塩化第１錫および塩化第２鉄を含んだ水溶液（前処理溶液）を塗布することで、触媒としての錫を第１バインダ層２１の表面に形成する。なお、前処理溶液としては、ｐＨを２以下に調製したものを用いることが好ましい。次いで、イオン交換水または蒸留水を用いて錫を形成させた第１バインダ層２１の表面を洗浄し、第１バインダ層２１表面に残る前処理溶液を除去する。

なお、この際において、上記の前処理溶液を塗布する前に、第１バインダ層２１の表面にコロナ放電処理を施すのが好ましい。本実施形態においては、コロナ放電処理を行う際の条件は、放電出力が、好ましくは０．１〜５ｋｗ、より好ましくは０．８〜２．４ｋｗである。また、通板速度が、好ましくは１〜１００ｍ／ｍｉｎ、より好ましくは５〜１０ｍ／ｍｉｎである。さらに、コロナ放電処理を行う対象の第１バインダ層２１と、電極との距離は、好ましくは０．５〜１０ｍｍ、より好ましくは２〜５ｍｍである。本実施形態においては、放電出力、通板速度、および第１バインダ層２１と電極との距離を上記範囲とすることにより、第１バインダ層２１の表面が適度に活性化され、第１バインダ層２１の表面に前処理溶液がぬれ広がり易くなり、触媒としての錫が良好に形成されることとなり、その結果として、第１バインダ層２１と、第１バインダ層２１上に形成される反射層３との密着性をより向上させることができ、得られる光反射板１０は、強度に優れ、品質的に良好なものとなる。

次いで、第１バインダ層２１の表面に、硝酸銀水溶液を塗布する。これにより第１バインダ層２１の表面に析出した銀により、前処理溶液を用いて形成した錫が置換され、銀の始動核が形成される。次いで、イオン交換水または蒸留水を用いて第１バインダ層２１の表面を洗浄し、第１バインダ層２１表面に残る余剰の硝酸銀水溶液を除去する。

そして、銀の始動核が形成された第１バインダ層２１表面に、スプレー噴射により、好ましくはｐＨ１０〜１３のアンモニア性硝酸銀水溶液と、還元剤（例えば、硫酸ヒドラジニウム、グリオキサールなど）を含む好ましくはｐＨ８〜１２の還元剤水溶液とを同時に射出する。なお、この際においては、還元剤水溶液として、還元剤を水に溶解、あるいは希釈したものに水酸化ナトリウムを加えてアルカリ性にしたものを用いることが好ましい。そして、これにより、第１バインダ層２１表面に形成した銀を始動核として、銀からなる反射層３を形成することができる。

次いで、イオン交換水または蒸留水を用いて洗浄を行い、反射層３の表面に残存しているアンモニア性硝酸銀水溶液と還元剤水溶液とを除去し、エアブローにて反射層３表面に付着している水滴を吹き飛ばし、その後、乾燥を行なう。乾燥条件は、たとえば、７０℃、２０分とすることができる。

なお、本実施形態においては、反射層３を形成する際には、上述したスプレー噴射方式に代えて、浸漬方式を用いてもよいし、さらには、上述した無電解めっき法に代えて、従来公知の電気めっき法や蒸着法などにより、反射層３を形成してもよい。

次いで、反射層３を形成した後、反射層３上に、有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が無機シリカ構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物を用いて、保護層４を形成する。保護層４を形成する方法としては、上記化合物の溶液（該化合物の分散液も含む）を用いて、たとえば、上述したように、ロールコート法、浸漬法、カーテンフロー法、スプレー法、ゾルゲル法、またはその他の塗布法などの方法を用いることができる。この際においては、保護層４を形成した後、保護層４を乾燥させることが好ましい。乾燥温度は、好ましくは７０〜２５０℃、より好ましくは、８０〜１５０℃である。乾燥時間は、好ましくは５〜９０分、より好ましくは、３０〜６０分である。

以上のようにして、本実施形態の光反射板１０を製造することができる。

＜採光装置＞
本実施形態の採光装置１００は、図６に示すように、太陽光を取り込む採光部１０１と、取り込んだ太陽光を導光する導光部１０２と、導光した太陽光を放射する放光部１０３と、を備える。なお、図６は、本実施形態の採光装置１００の斜視図である。そして、採光装置１００において、採光部１０１、導光部１０２及び放光部１０３の内面は、上述した光反射板１０が設置された反射面からなる。反射面は、光反射板１０自体により形成されたものであってもよいし、基材上に光反射板１０が配置されたものでもよい。

本実施形態の採光装置１００では、採光部１０１に設けられた採光口１０１１から取り込まれた太陽光が、採光装置１００内で反射しながら導光部１０２を通って放光部１０３に導かれ、放光部１０３の放光口１０３１から目的箇所へ放射される構成となっている。

なお、採光口１０１１および放光口１０３１は、光が透過できる透明性の高い板、たとえば、透明ガラス板や透明樹脂板で構成することができる。あるいは、放光口１０３１は、このような透明性の高い板を設けずに単なる開口としてもよい。また、放光口１０３１には、拡散板を設置してもよく、この拡散板を通じて放光口１０３１から光を放射させることにより、放射される光をやわらかいものとすることができる。さらに、採光装置１００としては、太陽光を効率的に取り込むために、採光口１０１１に太陽光を追尾する太陽光追尾装置や、集光レンズなどの集光装置を備えるものであってもよい。

また、図６に示す例においては、採光装置１００は直方体形状（すなわち、水平方向で切断した場合の断面が四角形である形状）である例を示したが、採光装置１００の形状はこのような形状に限定されず、たとえば、円筒形状、横断面が多角形の筒形状であってもよい。また、本実施形態の採光装置１００は、図６に示すような直線形状に限定されず、屈曲した形状であってもよい。

このような構成を有する採光装置１００は、たとえば、太陽光を導光して室内又は屋外に放射する照明装置として用いることができる。あるいは、採光装置１００は、植物工場内で育てる植物（野菜、観葉植物など）や、水中の植物（海藻など）に太陽光を放射して光合成を促す光照射装置として用いることもできる。

たとえば、本実施形態の採光装置１００は、図７に示すようにして、建物に組込むことで照明装置として用いることができる。図７は、採光装置１００ａ，１００ｂ，１００ｃを組込んだ建物の断面図である。図７では、Ｌ字型の採光装置１００ａと、縦型の採光装置１００ｂと、横型の採光装置１００ｃとがそれぞれ建物内に設置されている。

図７において、Ｌ字型の採光装置１００ａでは、採光口１０１１ａから取り込まれた太陽光は、導光部１０２ａで導光され、放光口１０３１ａから、目的照射箇所である部屋ＳＰ１に放射される。また、縦型の採光装置１００ｂでは、採光口１０１１ｂから取り込まれた太陽光は、導光部１０２ｂで導光され、放光口１０３１ｂ１，１０３１ｂ２から、目的照射箇所である廊下ＳＰ２，３にそれぞれ放射されるとともに、放光口１０３１ｂ３から、目的照射箇所である部屋ＳＰ４に放射される。さらに、横型の採光装置１００ｃでは、採光口１０１１ｃから取り込まれた太陽光は、導光部１０２ｃで導光され、放光口１０３１ｃ１，１０３１ｃ２から、目的照射箇所である部屋ＳＰ４に放射される。

本実施形態の採光装置は、上述した本実施形態の光反射板１０を用いて得られるものであるため、長期間にわたって使用した場合においても、反射率の低下が抑制され、耐久性に優れるものである。そのため、照明装置や光照射装置などの各種採光装置として好適に用いることができる。

以下に、実施例を挙げて、本実施形態についてより具体的に説明するが、本実施形態は、これらの実施例に限定されない。

≪実施例１≫
基体１上に、アクリルウレタン系樹脂塗料（大橋化学工業社製）を主剤５０ｇ、硬化剤１０ｇ、シンナー１４０ｇの割合で配合し、乾燥後の厚さ７〜９μｍとなるようにスプレー塗装により形成し、１２５℃で４５分間乾燥することで、基体１上に第一バインダ層２１を形成した。次いで、得られた第一バインダ層２１上に、スプレー噴射による銀鏡反応により、反射層３として、厚さ８０ｎｍの銀めっき層を形成した。次いで、銀めっき層上に、上記一般式（１）で表される化合物である、アクリル−無機シリカハイブリッド系樹脂塗料（商品名「コンポセラン ＡＣ６０１」、荒川化学工業社製）を、乾燥後の厚さが１０．７μｍとなるようにスプレー塗装により形成し、１２０℃で１５分間乾燥することで、保護層４を形成し、図１に示す構成を有する光反射板１０を得た。なお、上記のアクリル−無機シリカハイブリッド系樹脂塗料は、厚さ１０．７μｍの膜とした場合に、酸素透過率が６６０ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ、比重が１．２２ｇ／ｃｍ^３、ＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠して測定される吸水率が５．２０重量％であった。そして、得られた光反射板１０について、下記の方法にしたがい、硫黄系ガスに暴露された場合における予測耐久年数を評価した。

＜予測耐久年数＞
まず、光反射板１０について、分光測色計（型式「ＣＭ−６００ｄ」、コニカミノルタ社製）を用いて、波長５５０ｎｍの光の全反射率を、初期全反射率Ｒ１として測定した。次いで、光反射板１０を、硫化水素ガス濃度を８００体積ｐｐｍとした空気で充満された槽中に、温度３７±３℃の条件にて静置し、２時間ごとに、光反射板１０を取り出して、光反射板１０の全反射率を測定して、測定した結果を暴露後全反射率Ｒ２として得た。そして、暴露後全反射率Ｒ２が、初期全反射率Ｒ１から５％減少した時間をｔとした場合に、下記式にしたがって、光反射板１０の予測耐久年数ｙを求めた。なお、実施例１においては、硫化水素ガス濃度を、１，４００体積ｐｐｍ、２，２００体積ｐｐｍとした条件でも、それぞれ同様の方法で測定を行った。結果を図８に示す。
ｙ＝１．２１４６ｔ^{-０．８８５}

≪実施例２≫
実施例１と同様にして、基体１上に第１バインダ層２１および反射層３を形成した後、反射層３上に、アクリルシリコン系樹脂塗料（商品名「ラスタートップ ＴＤＭ」、大橋化学工業社製）を、主剤６０ｇ、硬化剤１０ｇ、シンナー２００ｇの割合で配合し、乾燥後の厚さ５．１μｍとなるようにスプレー塗装により形成し、９０℃で３０分間乾燥することで、下地層４１を形成した。次いで、下地層４１上に、実施例１で用いたアクリル−無機シリカハイブリッド系樹脂塗料を、乾燥後の厚さが５．７μｍとなるようにスプレー塗装により形成し、１２０℃で１５分間乾燥することで、表層４２を形成することで、下地層４１および表層４２からなる保護層４ａを形成し、図４に示す構成を有する光反射板１０ａを得た。そして、得られた光反射板１０ａについて、上記の方法にしたがい、予測耐久年数を評価した。なお、予測耐久年数を測定する際には、硫化水素ガス濃度を、それぞれ、１００体積ｐｐｍ、５００体積ｐｐｍ、１，０００体積ｐｐｍ、２，２００体積ｐｐｍとし、測定を行った。結果を図８に示す。

≪実施例３≫
下地層４１を、乾燥後の厚みが７．８μｍとなるように形成した以外は、実施例２と同様にして、光反射板１０ａを得て、同様に測定を行った。結果を図８に示す。

≪実施例４≫
表層４２を、乾燥後の厚みが１０．７μｍとなるように形成した以外は、実施例３と同様にして、光反射板１０ａを得て、同様に測定を行った。結果を図８に示す。

≪比較例１≫
下地層４１を乾燥後の厚みが１０．２μｍとなるように形成し、下地層４１上に表層４２を形成しなかった以外は、実施例２と同様にして、光反射板を得て、同様に測定を行った。なお、下地層４１を形成するために使用した上記のアクリルシリコン系樹脂塗料は、厚さ１０．２μｍの膜とした場合に、酸素透過率が２，０００ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ、比重が１．１８ｇ／ｃｍ^３、ＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠して測定される吸水率が３．２６重量％であった。また、予測耐久年数を測定する際には、硫化水素ガス濃度を、それぞれ、５００体積ｐｐｍ、１，０００体積ｐｐｍ、２，２００体積ｐｐｍとし、測定を行った。結果を図８に示す。

図８に示すように、有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が無機シリカ構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物を用いて保護層４，４ａを形成し、保護層４，４ａの厚み（保護層４の厚み、または保護層４ａを構成する下地層４１および表層４２の合計の厚み）を１０μｍ超、３０μｍ未満とした場合には、得られる光反射板は、硫化水素ガスに曝された場合であっても、全反射率の低下が抑制されて、予測耐久年数を伸ばすことができ、耐久性に優れるものであった（実施例１〜４）。

一方、上記の本発明に特有の化合物を用いた保護層４，４ａを形成しなかった場合には、得られる光反射板は、硫化水素ガスに曝された場合に、全反射率が低下してしまい、予測耐久年数が短くなり、耐久性に劣るものであった（比較例１）。

≪参考例１≫
実施例１と同様にして、基体１上に第１バインダ層２１および反射層３を形成した後、反射層３上に、アクリル系樹脂塗料（商品名「アクリディック ＷＸＵ−８８０」、ＤＩＣ社製）を、乾燥後の厚さが１０μｍとなるようにバーコート塗装により形成し、８０℃で３０分間乾燥することで、樹脂膜を形成し、光反射板を得た。なお、上記のアクリル系樹脂塗料は、厚さ１０μｍの膜とした場合に、酸素透過率が１，１００ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ、比重が１．１４ｇ／ｃｍ^３、ＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠して測定される吸水率が１．９８重量％であった。

≪参考例２≫
実施例１と同様にして、基体１上に第１バインダ層２１および反射層３を形成した後、反射層３上に、アクリルシリコン系樹脂塗料（主剤：商品名「アクリディック ＸＹＺ−７６５」、硬化剤：商品名「アクリディック Ａ−９５９８」、ＤＩＣ社製）を、重量分量比が主剤１００部に対して硬化剤２６部として配合し、乾燥後の厚さが１０μｍとなるようにバーコート塗装により形成し、８０℃で３０分間乾燥することで、樹脂膜を形成し、光反射板を得た。なお、上記のアクリルシリコン系樹脂塗料は、厚さ１０μｍの膜とした場合に、酸素透過率が１，６００ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ、比重が１．１７ｇ／ｃｍ^３、ＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠して測定される吸水率が３．７８重量％であった。

≪参考例３≫
実施例１と同様にして、基体１上に第１バインダ層２１および反射層３を形成した後、反射層３上に、アクリルウレタン系樹脂塗料（商品名「アクリディック ＷＭＵ−５０４」、硬化剤：商品名「バーノック ＤＮ−９８０」、ＤＩＣ社製）を、重量分量比が主剤１００部に対して硬化剤２０部として配合し、乾燥後の厚さが１０μｍとなるようにバーコート塗装により形成し、８０℃で３０分間乾燥することで、樹脂膜を形成し、光反射板を得た。なお、上記のアクリルシリコン系樹脂塗料は、厚さ１０μｍの膜とした場合に、酸素透過率が４８０ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ、比重が１．１７ｇ／ｃｍ^３、ＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠して測定される吸水率が１．９６重量％であった。

≪参考例４≫
実施例１と同様にして、基体１上に第１バインダ層２１および反射層３を形成した後、反射層３上に、ウレタン系樹脂塗料（商品名「ｎａｘ マイティラックＧ−ＩＩ ＫＢ型」、日本ペイント社製）を、専用硬化剤と重量分量比が主剤１００部に対して硬化剤２５部として配合し、乾燥後の厚さが１０μｍとなるようにバーコート塗装により形成し、８０℃で３０分間乾燥することで、樹脂膜を形成し、光反射板を得た。なお、上記のウレタン系樹脂塗料は、厚さ１０μｍの膜とした場合に、酸素透過率が１，７００ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ、比重が１．１２ｇ／ｃｍ^３、ＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠して測定される吸水率が１．１２重量％であった。

≪参考例５≫
実施例１と同様にして、基体１上に第１バインダ層２１および反射層３を形成した後、反射層３上に、フッ素系樹脂塗料（商品名「ゼッフル ＧＫ５７０」、ダイキン工業社製）を、イソシアネート系硬化剤（商品名「マイテック ＮＹ２６０Ａ」、三菱化学社製）と重量分量比が主剤１００部に対して硬化剤３０部として配合し、乾燥後の厚さが１０μｍとなるようにバーコート塗装により形成し、８０℃で３０分間乾燥することで、樹脂膜を形成し、光反射板を得た。なお、上記のフッ素系樹脂塗料は、厚さ１０μｍの膜とした場合に、酸素透過率が１，９００ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ、比重が１．２１ｇ／ｃｍ^３、ＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠して測定される吸水率が０．６８重量％であった。

≪参考例６≫
実施例１と同様にして、基体１上に第１バインダ層２１および反射層３を形成した後、反射層３上に、フッ素系樹脂塗料（商品名「ボンフロン ＃２０５０」、ＡＧＣコーテック社製）を、専用硬化剤と重量分量比が主剤１００部に対して硬化剤８部として配合し、乾燥後の厚さが１０μｍとなるようにバーコート塗装により形成し、８０℃で３０分間乾燥することで、樹脂膜を形成し、光反射板を得た。なお、上記のフッ素系樹脂塗料は、厚さ１０μｍの膜とした場合に、酸素透過率が１，３００ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ、比重が１．３４ｇ／ｃｍ^３、ＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠して測定される吸水率が０．２８重量％であった。

実施例１、比較例１および参考例１〜６において、保護層４（比較例１については下地層４１、参考例１〜６については樹脂膜）を形成するために使用した樹脂の酸素透過率は、それぞれ上述した値であり、これらの値をグラフにすると図９に示すものとなった。
また、実施例１、比較例１および参考例１〜６の光反射板について、硫化水素ガス濃度を１５００体積ｐｐｍとした空気で充満された槽中に、温度３７±３℃、２時間の条件にて静置することで硫化水素ガスに暴露し、その後、上記の方法にしたがい、光反射板１０の全反射率を測定した。硫化水素ガス暴露後の全反射率は、それぞれ、９２．０％（実施例１）、２２．９％（比較例１）、７９．２％（参考例１）、５５．９％（参考例２）、９１．７％（参考例３）、４９．６％（参考例４）、８３．９％（参考例５）、７２．８％（参考例６）であった。硫化水素ガス暴露後の全反射率と、保護層４（比較例１については下地層４１、参考例１〜６については樹脂膜）を形成するために使用した樹脂の酸素透過率、比重および吸水率との関係を、それぞれ図１０〜１２に示す。

１０，１０ａ，１０ｂ…光反射板
１…基体
２１…第１バインダ層
２２…第２バインダ層
３…反射層
４，４ａ…保護層
４１…下地層
４２…表層
１００…採光装置
１０１…採光部
１０１１…採光口
１０２…導光部
１０３…放光部
１０３１…放光口

Claims (5)

1. 基体と、
   基体上に形成され、銀または銀合金からなる反射層と、
   前記反射層上に形成され、有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が無機シリカ構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物を含有し、厚みが、１０μｍ超、３０μｍ未満である保護層と、を備える光反射板。
2. 前記保護層が、表層と、前記表層の下地として形成される下地層とを含む少なくとも２層からなり、
   前記表層が、前記有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が無機シリカ構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物を含有し、
   前記下地層が、有機高分子鎖からなる複数の主鎖単位が有機シロキサン構造を介して架橋されてなる架橋構造を有する化合物を含有し、
   前記表層および前記下地層の合計の厚みが、１０μｍ超、３０μｍ未満である請求項１に記載の光反射板。
3. 前記基体と前記反射層との間に、有機樹脂材料および無機材料のうちいずれか１種またはこれらの混合物からなる第１バインダ層をさらに備える請求項１または２に記載の光反射板。
4. 前記反射層と前記保護層との間に、有機樹脂材料および無機材料のうちいずれか１種またはこれらの混合物からなる第２バインダ層をさらに備える請求項１〜３のいずれかに記載の光反射板。
5. 光を取り込む採光部と、前記採光部から取り込んだ光を導く導光部と、前記導光部により導かれた光を目的箇所に放射する放光部と、前記取り込んだ光の少なくとも一部を反射する反射面と、を備える採光装置であって、
   前記反射面に、請求項１〜４のいずれかに記載の光反射板が設置されてなる採光装置。