JP2018101705A - 静電チャック - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本実施例の静電チャック10を、図示しないウエハを吸着保持する吸着面である第1面(表面)Ob側から眺めた平面図である。静電チャック10は、円板状のセラミックス焼結体により形成されている基体11を備えている。基体11のセラミックスの材料として、窒化アルミニウム、窒化珪素、サイアロン、炭化珪素、窒化ホウ素、アルミナ等が好ましい。
静電チャック10は、例えば次のような手順で作製される。
実施例の素材として8インチ径(φ200mm)のAl2O3セラミックス焼結体を用いた。予めセラミックス焼結体の表面より1000μm下方に電極が埋設された。該セラミックス焼結体の体積抵抗率は1×1011Ω・cmであった。セラミックス焼結体の表面の平面度は5μmであった。
まず、第1の表面加工として、研磨装置において、セラミックス焼結体の第1面に遊離砥粒(GC#1000)による研磨加工を行った。
比較例は、第2の表面加工を実施せず、第1の表面加工において遊離砥粒(GC#1000)の研磨加工にて表面加工し、算術平均粗さRaの1μm程度を満たしていれば加工終了とした以外、実施例と同様に加工して得た静電チャックである。
真空チャンバ内に静電チャックを載置した。
実施例1〜4と比較例1〜3の環状凸部の頂面の粗さ曲線の最大山高さRp、算術平均粗さRa、及びRp/Raの比率とガスリーク量とについて測定した。その結果を下記表と図4及び図5に示す。なお、粗さ曲線の最大山高さRp、算術平均粗さRa及びRp/Raについて、各比較例は第1の表面加工の後に測定し、各実施例は第2の表面加工の後に測定した。
Claims (3)
- 第1面を備え且つ電極を包埋するセラミックスの基体と、前記第1面の外周縁部から環状に突出してウエハを支持する頂面を有する環状凸部と、各々が前記環状凸部に囲まれ且つ前記基体の第1面から突出して前記ウエハを支持する頂面を有する複数の凸部と、を備える静電チャックであって、
少なくとも前記環状凸部の頂面は、前記環状凸部の頂面の粗さ曲線から求められる最大山高さRpと算術平均粗さRaがRp/Ra≦2.8の関係を充たす表面であることを特徴とする静電チャック。 - 前記最大山高さRpは、Rp≦1.5μmであることを特徴とする請求項1に記載の静電チャック。
- 前記環状凸部の頂面の粗さ曲線から求められるスキューネスRskが負であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の静電チャック。
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JP6782157B2 (ja) | 2020-11-11 |
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