JP2018098239A5 - - Google Patents

Claims (6)

1. 被処理体が載置される載置領域と、前記載置領域の周囲に形成されてフォーカスリングが載置される外周領域とを有する基台と、
   前記基台の外周領域に形成された挿入孔に挿入されて前記基台を前記基台の下方の部材に連結する、貫通孔が形成された連結部材と、
   前記連結部材の前記貫通孔に挿入されて前記挿入孔から突出自在に前記基台に設けられ、前記挿入孔から突出して前記フォーカスリングを上昇させるリフタピンと
   を有することを特徴とする載置台。
2. 前記フォーカスリングは、貫通孔が形成された伸縮性の伝熱部材を介して、前記基台の外周領域に載置され、
   前記リフタピンは、前記挿入孔から突出して前記フォーカスリングを上昇させる場合に、前記伝熱部材の前記貫通孔を通過して前記フォーカスリングの下部に当接し、
   前記伝熱部材は、前記フォーカスリングの上昇に伴って、前記基台と前記フォーカスリングとの間の隙間を埋めるように伸長することを特徴とする請求項１に記載の載置台。
3. 前記基台と前記フォーカスリングとの間に配置され、前記基台の外周領域のうち、前記挿入孔を除く領域を覆う発熱部材をさらに有することを特徴とする請求項１又は２に記載の載置台。
4. 前記フォーカスリングの下部には、有底状の穴が形成され、
   前記リフタピンは、前記有底状の穴に嵌合されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の載置台。
5. 前記基台の内部に形成され、冷媒を通流させる冷媒流路をさらに有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の載置台。
6. 請求項１〜５のいずれか一つに記載の載置台を有するプラズマ処理装置。