JP2018072384A - 磁気光学素子及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】光アイソレータ―を小型化しやすい磁気光学素子を提供する。
【解決手段】2個以上の磁性部材が接合してなることを特徴とする磁気光学素子。
【選択図】図1

Description

本発明は、光アイソレータ、光サーキュレータ、磁気センサ等の磁気デバイスに好適な磁気光学素子及びその製造方法に関する。
Tb等の常磁性化合物を含むガラス材は、磁気光学効果の一つであるファラデー効果を示すことが知られている。ファラデー効果とは、磁場中におかれた材料を通過する直線偏光の偏光面を回転させる効果である。このような効果は光アイソレータや磁界センサなどに利用されている。
ファラデー効果による旋光度(偏光面の回転角)θは、磁場の強さをH、偏光が通過する素子の長さをLとして、以下の式により表される。式中において、Vは物質の種類に依存する定数であり、ベルデ定数と呼ばれる。ベルデ定数は反磁性体の場合は正の値、常磁性体の場合は負の値となる。ベルデ定数の絶対値が大きいほど、素子の長さが長いほど、また、磁石を大型化する(磁場を強くする)ほど、旋光度の絶対値も大きくなり、結果として大きなファラデー効果を示す。光アイソレータ―を小型化するには、ベルデ定数の大きな材料を使用することが最も効果的である。
θ=VHL
従来、ファラデー効果を示すガラス材として、SiO−B−Al−Tb系のガラス材(特許文献1参照)、P−B−Tb系のガラス材(特許文献2参照)、あるいはP−TbF−RF(Rはアルカリ土類金属)系のガラス材(特許文献3参照)等が知られている。
特公昭51−46524号公報 特公昭52−32881号公報 特公昭55−42942号公報
上記のガラス材は、常磁性化合物の含有量を増やすことにより、ベルデ定数の大きな材料を得ることができる。ところが、それに伴ってガラス化させることが困難になり、非常に小さなガラス材しか得ることができない。結果として、所望のファラデー効果を得るためには、磁石を大型化する(磁場を強くする)必要があり、逆に光アイソレータ―が大型化してしまう。
以上に鑑み、本発明は、光アイソレータ―を小型化しやすい磁気光学素子を提供することを目的とする。
本発明の磁気光学素子は、2個以上の磁性部材が接合してなることを特徴とする。2個以上の磁性部材を接合することにより、大きな磁気光学素子を得やすくなる。そのため、本発明の磁気光学素子は、例えば磁性部材として、ガラス化が困難なガラス材を使用する場合でも必要な長さを確保することができ、大きなファラデー効果を得ることができる。よって、磁石を小型化できるため、光アイソレータ―を小型化しやすくなる。
本発明の磁気光学素子は、磁性部材がガラス材であることが好ましい。
本発明の磁気光学素子は、ガラス材が互いに融着接合していることが好ましい。
本発明の磁気光学素子は、ガラス材が、組成として、質量%で、Tbを78%以上含有することが好ましい。Tbを上記の通り多量に含有することに起因してベルデ定数の絶対値が大きくなる。その結果、大きいファラデー効果を示す。
本発明の磁気光学素子は、ファラデー回転素子として用いることができる。上記の用途に用いることにより、本発明の効果を享受することができる。
本発明の磁気光学素子の製造方法は、2個以上のガラス材を加熱して融着接合させることを特徴とする。
本発明の磁気光学素子の製造方法は、2個以上のガラス材を融着接合させる温度が、(ガラス転移点−20℃)〜(ガラス転移点+100℃)であることが好ましい。
本発明によれば、光アイソレータ―を小型化しやすい磁気光学素子を提供することが可能となる。
本発明の第一の実施形態に係る磁気光学素子を示す模式的斜視図である。 本発明の第二の実施形態に係る磁気光学素子を示す模式的斜視図である。 本発明に使用されるガラス材を製造するための装置の一実施形態を示す模式的断面図である。
以下に本発明の実施形態について説明する。
(1)第一の実施形態
図1は本発明の第一の実施形態に係る磁気光学素子を示す模式的斜視図である。
本実施形態において、磁気光学素子2は、磁性部材である2個のガラス材1の接合面3がレーザー光の進行方向に垂直になるように、ガラス材同士が長さ方向に直列的に接合されている。なお、ガラス材1の個数は、2個以上であればよく、上限は特に限定されない。さらに、磁場を磁気光学素子2に効率よくかけるためには、ガラス材1は円柱状であることが好ましい。このような磁気光学素子2は必要な長さを確保できるため、大きなファラデー効果を示しやすく、光アイソレータ―を小型化しやすい。
次に、本発明の第一の実施形態に係る磁気光学素子の製造方法について説明する。
まず、ガラス材1を柱状に加工し、接合面3となる端面を鏡面に研磨する。その後、ガラス材1同士を接合面3で重ね合わせ、荷重をかけながら熱処理を行うことで融着接合することができる。
次に、熱処理条件について詳細に説明する。熱処理温度は、ガラス転移点−20℃〜ガラス転移点+100℃、ガラス転移点−10℃〜ガラス転移点+90℃、ガラス転移点〜ガラス転移点+80℃、ガラス転移点〜ガラス転移点+60℃であることが好ましい。熱処理温度が低すぎるとガラス材2が接合されにくい。一方、熱処理温度が高すぎるとガラス材2が失透しやすくなる。荷重は0.05kgf〜1kgf、0.1kgf〜0.9kgfであることが好ましい。荷重が軽すぎるとガラス材2が接合されにくくなる。一方、荷重が重すぎるとガラス材2の破壊を招きやすくなる。なお、熱処理雰囲気は、特に限定されないが、Tb系ガラスの場合は不活性雰囲気であることが好ましい。不活性雰囲気は、窒素、アルゴンまたはヘリウム雰囲気のいずれでも構わないが、安価である点から特に窒素雰囲気が好ましい。雰囲気制御を行わずに熱処理した場合、つまり大気中で熱処理した場合、ガラスが酸化され、ベルデ定数の起源となる磁気モーメントの低いTb4+が増加し、ファラデー効果が小さくなりやすい。
(2)第二の実施形態
図2は本発明の第二の実施形態に係る磁気光学素子を示す模式的斜視図である。
本実施形態において、磁気光学素子2は、磁性部材である2個のガラス材1の接合面がレーザー光の進行方向に平行になるように、ガラス材同士が長さ方向に並列的に接合されている。なお、ガラス材1の個数は、2個以上であればよく、上限は特に限定されない。このような磁気光学素子2は大きな断面積を確保できるため、レーザー径の大きいレーザーに対応した光アイソレータ―に使用しやすくなる。
次に、本発明の第二の実施形態に係る磁気光学素子の製造方法について説明する。
まず、ガラス材1を板状に加工し、接合面3を鏡面に研磨する。その後、ガラス材1同士を接合面3で重ね合わせ、荷重をかけながら熱処理を行うことで融着接合することができる。なお、接合後に、磁気光学素子2を円柱状等の所定の形状に加工しても構わない。熱処理温度、荷重及び熱処理条件は第一の実施形態と同様である。
なお、3つ以上のガラス材を接合することにより、磁気光学素子の長さをさらに大きくしたり、断面積をさらに大きくしたり、または、長さ、断面積共に大きくすることも可能である。また、ガラス材をオプティカルコンタクトにより接合させてもよい。
なお、各ガラス材の組成は、実質的に同一であることが好ましい。このようにすれば、磁気光学素子の物性の均一化を図ることができる。
次に、本発明に使用されるガラス材について説明する。
本発明に使用されるガラス材は、質量%でTbを78%以上、79%以上、80%以上含有することが好ましい。Tbの含有量が少なすぎると、ベルデ定数の絶対値が小さくなり、十分なファラデー効果が得られにくくなる。一方、Tbの含有量が多すぎると、ガラス化が困難になる傾向があるため、95%以下、92%以下、特に90%以下であることが好ましい。
なお、Tbについては3価の酸化物の含有量を規定しているが、3価以外の酸化物については、3価の酸化物に換算した場合の含有量が上記範囲内であることが好ましい。
ベルデ定数の起源となる磁気モーメントはTb4+よりもTb3+の方が大きい。よって、ガラス材におけるTb3+の割合が大きいほど、ファラデー効果が大きくなるため好ましい。具体的には、全Tb中Tb3+の割合は、質量%で50%以上、60%以上、70%以上、80%以上、特に90%以上であることが好ましい。
本発明に使用されるガラス材には、Tb以外にも、以下に示す種々の成分を含有させることができる。なお、以下の各成分の含有量に関する説明において、特に断りのない限り、「%」は「質量%」を意味する。
は主なガラス骨格となり、ガラス化範囲を広げる成分である。ただし、ベルデ定数の向上に寄与しないため、その含有量が多すぎると十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、Bの含有量は0〜22%、1〜21%が好ましく、より好ましくは1〜20%、1〜17%、特に2〜15%であることが好ましい。
はガラス骨格となり、ガラス化範囲を広げる成分である。ただし、ベルデ定数の向上に寄与しないため、その含有量が多すぎると十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、Pの含有量は0〜22%、0〜20%が好ましく、より好ましくは0〜15%、0〜12%、特に0〜10%(ただし0%を含まない)であることが好ましい。
SiOはガラス骨格となり、ガラス化範囲を広げる成分である。ただし、ベルデ定数の向上に寄与しないため、その含有量が多すぎると十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、SiOの含有量は0〜22%、0〜20%が好ましく、より好ましくは0〜15%、0〜12%、特に0〜10%(ただし0%を含まない)であることが好ましい。
また、SiOとBの合量は0〜22%、1〜21%、特に2〜20%であることが好ましい。BとPの合量は0〜22%、1〜21%、特に2〜20%であることが好ましい。SiO、B及びPの合量は0〜22%、1〜21%、特に2〜20%であることが好ましい。
Alは中間酸化物としてガラス骨格を形成し、ガラス化範囲を広げる成分である。ただし、Alはベルデ定数の向上に寄与しないため、その含有量が多すぎると十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、Alの含有量は0〜20%、0〜15%が好ましく、より好ましくは0〜12%(ただし0%を含まない)、0.1〜10%、特に1〜9%であることが好ましい。
La、Gd、Yb、Yはガラスを安定化する効果があるが、その含有量が多すぎるとかえってガラス化しにくくなる。よって、La、Gd、Yb、Yの含有量は各々10%以下、特に5%以下であることが好ましい。
Dy、Eu、Ceはガラスを安定化するとともに、ベルデ定数の向上にも寄与する。ただし、その含有量が多すぎるとかえってガラス化しにくくなる。よって、Dy、Eu、Ceの含有量は各々15%以下、特に10%以下であることが好ましい。なお、Dy、Eu、Ceについては3価の酸化物の含有量を規定しているが、3価以外の酸化物(例えばCeO等)については、3価の酸化物に換算した場合の含有量が上記範囲内であることが好ましい。
MgO、CaO、SrO、BaOはガラスの安定性と化学的耐久性を高める効果がある。ただし、ベルデ定数の向上に寄与しないため、その含有量が多すぎると十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、これらの成分の含有量は各々0〜10%、特に0〜5%であることが好ましい。
Gaはガラス形成能を高め、ガラス化範囲を広げる効果を有する。ただし、その含有量が多すぎると失透しやすくなる。また、Gaはベルデ定数の向上に寄与しないため、その含有量が多すぎると十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、Gaの含有量は0〜6%、特に0〜5%であることが好ましい。
フッ素はガラス形成能を高め、ガラス化範囲を広げる効果を有する。ただし、その含有量が多すぎると溶融中に揮発して組成変動したり、ガラスの安定性に影響を及ぼす恐れがある。従って、フッ素の含有量(F換算)は好ましくは0〜10%、より好ましくは0〜7%、さらに好ましくは0〜5%である。
還元剤としてSbを添加することができる。ただし、着色を避けるため、あるいは環境への負荷を考慮して、Sbの含有量は0.1%以下であることが好ましい。
本発明の磁気光学素子は、特にアイソレータ等のファラデー回転素子として使用する場合における光透過損失がなるべく小さいことが好ましい。そのため、本発明の磁気光学素子の光透過率は、波長633nmにおいて50%以上、60%以上、特に70%以上であることが好ましい。
本発明に使用されるガラス材は、例えば無容器浮遊法により作製することができる。図3は、無容器浮遊法によりガラス材を作製するための製造装置の一例を示す模式的断面図である。以下、図3を参照しながら、本発明のガラス材の製造方法について説明する。
ガラス材の製造装置4は成形型10を有する。成形型10は溶融容器としての役割も果たす。成形型10は、成形面10aと、成形面10aに開口している複数のガス噴出孔10bとを有する。ガス噴出孔10bは、ガスボンベなどのガス供給機構11に接続されている。このガス供給機構11からガス噴出孔10bを経由して、成形面10aにガスが供給される。ガスの種類は特に限定されず、例えば、空気や酸素であってもよいし、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス、一酸化炭素ガス、二酸化炭素ガス、水素を含有した還元性ガスであってもよい。
製造装置4を用いてガラス材を製造するに際しては、まず、ガラス原料塊12を成形面10a上に配置する。ガラス原料塊12としては、例えば、原料粉末をプレス成型等により一体化したものや、原料粉末をプレス成型等により一体化した後に焼結させた焼結体や、目標ガラス組成と同等の組成を有する結晶の集合体等が挙げられる。
次に、ガス噴出孔10bからガスを噴出させることにより、ガラス原料塊12を成形面10a上で浮遊させる。すなわち、ガラス原料塊12を、成形面10aに接触していない状態で保持する。その状態で、レーザー光照射装置13からレーザー光をガラス原料塊12に照射する。これによりガラス原料塊12を加熱溶融してガラス化させ、溶融ガラスを得る。その後、溶融ガラスを冷却することにより、ガラス材を得ることができる。ガラス原料塊12を加熱溶融する工程と、溶融ガラス、さらにはガラス材の温度が少なくとも軟化点以下となるまで冷却する工程においては、少なくともガスの噴出を継続し、ガラス原料塊12、溶融ガラス、さらにはガラス材と成形面10aとの接触を抑制することが好ましい。なお、加熱溶融する方法としては、レーザー光を照射する方法以外にも、輻射加熱であってもよい。
なお、磁性部材としては、ガラス材以外に、TGG(テルビウムガリウムガーネット)等の結晶材も使用できる。
以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
まず、質量%でTb 83%、Al 5%及びB 12%になるように調合した原料をプレス成型し、800〜1400℃で12時間焼結することによりガラス原料塊を作製した。
次に、乳鉢中でガラス原料塊を粗粉砕し、0.05〜1.0gの小片とした。得られたガラス原料塊の小片を用いて、図3に準じた装置を用いた無容器浮遊法によって直径8mmの略球状のガラス材を2個作製した。なお、熱源としては100W COレーザー発振器を用いた。また、原料塊を浮遊させるためのガスとして窒素ガスを用い、流量1〜30L/分で供給した。
得られた2個のガラス材をΦ2.5mm、長さ6.75mmの円柱になるように加工し、接合面となる端面を鏡面に研磨した。次に、ガラス材同士を接合面で重ね合わせた後、窒素雰囲気中にて、1kgfの荷重をかけながら、ガラス材のガラス転移点(800℃)で10分間熱処理を行った。熱処理により、ガラス材は接合され、Φ2.5mm、長さ13.5mmの磁気光学素子を得た。得られた磁気光学素子について、カー(Kerr)効果測定装置(日本分光(株)製、品番:K−250)を用いて10kOeの磁場中で波長1064mmでのファラデー回転角を測定したところ、磁気光学素子のファラデー回転角は45°であった。
(比較例1)
実施例で得たΦ2.5mm、長さ6.75mmのガラス材を実施例1と同様の方法でファラデー回転角を測定したところ、ガラス材のファラデー回転角は22.5°となり実施例より小さかった。このようなガラス材を使用して、実施例と同じファラデー回転角を得るためには、磁場を強くする、即ち磁石を大きくする必要があるため、光アイソレータ―を小型化しにくい。
(実施例2)
まず、質量%でTb 83%、Al 4%、SiO 2%及びB 11%になるように調合した原料をプレス成型し、800〜1400℃で12時間焼結することによりガラス原料塊を作製した。
次に、乳鉢中でガラス原料塊を粗粉砕し、0.05〜1.0gの小片とした。得られたガラス原料塊の小片を用いて、図3に準じた装置を用いた無容器浮遊法によって直径8mmの略球状のガラス材を2個作製した。なお、熱源としては100W COレーザー発振器を用いた。また、原料塊を浮遊させるためのガスとして窒素ガスを用い、流量1〜30L/分で供給した。
得られた2個のガラス材を厚さ1.5mm、3×6mmの板状になるように加工し、接合面となる平面部分を鏡面に研磨した。次にガラス材同士を接合面で重ね合わせた後、窒素雰囲気中にて、1kgfの荷重をかけながら、ガラス材のガラス転移点(805℃)で10分間熱処理を行った。熱処理によりガラス材は接合され、厚さ3mm、3×6mmの磁気光学素子が得られた。得られた磁気光学素子にΦ2.5mm、1064nm、100Wのレーザー光を入射したところ、レーザー光の全体を磁気光学素子に入射することができた。
(比較例2)
実施例2で得た厚さ1.5mm、3×6mmの板状のガラス材にΦ2.5mm、1064nm、100Wのレーザー光を入射したところ、ガラス材が破損した。
(実施例3)
実施例1で得られた2個のガラス材をΦ2.5mm、長さ6.75mmの円柱になるように加工し、接合面となる端面を光学研磨した。次に、ガラス材同士を接合面でオプティカルコンタクトを行った。ガラス材は接合され、Φ2.5mm、長さ13.5mmの磁気光学素子を得た。得られた磁気光学素子について、実施例1と同様の方法でファラデー回転角を測定したところ、磁気光学素子のファラデー回転角は45°であった。
本発明の磁気光学素子は、光アイソレータ、光サーキュレータ、磁気センサ等の磁気デバイスを構成する磁気光学素子として好適である。
1:ガラス材
2:磁気光学素子
3:接合面
4:ガラス材の製造装置
10:成形型
10a:成形面
10b:ガス噴出孔
11:ガス供給機構
12:ガラス原料塊
13:レーザー光照射装置

Claims (7)

  1. 2個以上の磁性部材が接合してなることを特徴とする磁気光学素子。
  2. 磁性部材がガラス材であることを特徴とする請求項1に記載の磁気光学素子。
  3. ガラス材が互いに融着接合していることを特徴とする請求項2に記載の磁気光学素子。
  4. ガラス材が、組成として、モル%で、Tbを48%以上(ただし48%は含まない)含有することを特徴とする請求項2又は3に記載の磁気光学素子。
  5. ファラデー回転素子として用いられることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の磁気光学素子。
  6. 2個以上のガラス材を加熱して融着接合させることを特徴とする磁気光学素子の製造方法。
  7. 2個以上のガラス材を融着接合させる温度が、(ガラス転移点−20℃)〜(ガラス転移点+100℃)であることを特徴とする請求項6に記載の磁気光学素子の製造方法。
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