JP2018060966A - 半導体装置 - Google Patents

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    • H01L2224/371Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/37138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/37155Nickel [Ni] as principal constituent
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    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45101Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
    • H01L2224/45111Tin (Sn) as principal constituent
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    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45147Copper (Cu) as principal constituent
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    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45149Manganese (Mn) as principal constituent
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    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45155Nickel (Ni) as principal constituent
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    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
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Abstract

【課題】部品点数が増大するのを抑制する半導体装置を提供する。【解決手段】半導体装置100は、双方向に電流が流れる電流経路に接続される。半導体装置100は、第1チップ10、第2チップ20、シャント抵抗30、リードフレーム40、及び、モールド樹脂60を備えている。第1チップ10は、電流経路において一方向に電流が流れるのを制限する第1スイッチング素子12を有している。第2チップ20は、電流経路において一方向と反対方向に電流が流れるのを制限する第2スイッチング素子22を有している。シャント抵抗30は、一端が第1チップ10に接続されるとともに、他端が第2チップ20に接続されて、第1チップ10と第2チップ20とを中継することで電流経路の一部を形成している。リードフレーム40は、第1チップ10が固定配置された第1リード42と、第2チップ20が固定配置された第2リード44と、を有している。【選択図】図2

Description

本発明は、半導体素子を有する複数のチップと、チップ同士を接続する配線と、を備える半導体装置に関する。
従来、特許文献1に記載のように、双方向スイッチ及び電流検出器を備える3相交流−直流変換装置が知られている。双方向スイッチは、互いに接続された一対のスイッチング素子を有している。双方向スイッチは、両方のスイッチング素子がオフ状態になることで、電流経路に電流が流れるのを制限する。また、電流検出器は、一方のスイッチング素子と接続され、双方向スイッチに流れる電流を検出する。
特開2003−199350号公報
ところで、スイッチング素子として縦型の素子を用いる場合等には、双方向スイッチの構成として、2つのスイッチング素子が互いに別のチップに形成された構成を採用することがある。この場合には、チップ同士を接続する配線が必要になる。そのため、複数のチップ及び電流検出器に加えて、チップ同士を接続する配線を設ける必要があり、3相交流−直流変換装置の部品点数が増大する虞がある。
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、部品点数が増大するのを抑制する半導体装置を提供することを目的とする。
本発明は、上記目的を達成するために以下の技術的手段を採用する。なお、括弧内の符号は、1つの態様として下記の実施形態における具体的手段との対応関係を示すものであって、技術的範囲を限定するものではない。
本発明の1つは、
双方向に電流が流れる電流経路に接続されるとともに電流経路の一部を形成する半導体装置であって、
オフ状態にされることで電流経路において一方向に電流が流れるのを制限する第1スイッチング素子(12)を有する第1チップ(10)と、
オフ状態にされることで電流経路において一方向と反対方向に電流が流れるのを制限する第2スイッチング素子(22)を有する第2チップ(20)と、
一端が第1チップに接続されるとともに他端が第2チップに接続されて、第1チップと第2チップとを中継することで電流経路の一部を形成する配線(30)と、
第1チップが固定配置された第1リード(42)と、第2チップが固定配置された第2リード(44)と、を有し、電流経路を形成するリードフレーム(40)と、
第1チップ、第2チップ、配線、及び、リードフレームを一体的に封止するモールド樹脂(60)と、を備え、
配線は、電流経路に流れる電流を検出するための抵抗体(32)を有するシャント抵抗であり、
リードフレームは、配線のうちの抵抗体の両端に接続され、抵抗体による電圧降下を検出するためのセンス端子(100e,100f,46)をさらに有している。
上記構成では、第1チップ及び第2チップが、電流経路に流れる電流を検出するためのシャント抵抗によって接続されている。これによれば、第1チップ及び第2チップを接続する配線とは別にシャント抵抗が設けられている構成に較べて、配線を省略できる。したがって、半導体装置の部品点数が増大するのを抑制できる。
第1実施形態に係る半導体装置の概略構成を示す回路図である。 半導体装置の構造を示す平面図である。 図2のIII−III線に沿う断面図である。 半導体装置の構造を示す側面図である。 半導体装置の構造を示す平面図である。
図面を参照して説明する。なお、複数の実施形態において、共通乃至関連する要素には同一の符号を付与するものとする。リードフレームの厚さ方向をZ方向、Z方向に直交する特定の方向をX方向、Z方向及びX方向に直交する方向をY方向と示す。
(第1実施形態)
先ず、図1に基づき、半導体装置100の回路構成について説明する。
半導体装置100は、双方向に電流が流れる電流経路に接続されるとともに、電流経路の一部を形成する。半導体装置100は、例えば、リチウム電池及び鉛電池を備える電源システムや、ISG及びリチウム電池を備えるシステムに適用される。なお、ISGは、Integrated Starter Generatorの略称である。
半導体装置100は、第1チップ10と、第2チップ20と、シャント抵抗30と、を備えている。半導体装置100は、半導体モジュールと称することもできる。また、半導体装置100は、端子として、第1端子100a、第2端子100b、制御端子100c,100d、及び、センス端子100e,100fを有している。
第1チップ10は、第1スイッチング素子12を有している。また、第2チップ20は、第2スイッチング素子22を有している。スイッチング素子12,22は、電流経路に電流を流すか否かを制御するための素子である。スイッチング素子12,22は、縦型の半導体素子である。本実施形態において、スイッチング素子12,22は、MOSFETである。
第1スイッチング素子12は、寄生ダイオードを有している。この寄生ダイオードは、カソードが第1スイッチング素子12のドレインに接続され、アノードが第1スイッチング素子12のソースに接続されている。第1スイッチング素子12がオフ状態にされることで、第1スイッチング素子12に流れる電流の経路は、寄生ダイオードのアノードからカソードへ流れる経路のみに制限される。すなわち、第1スイッチング素子12は、オフ状態にされることで、電流経路において一方向に電流が流れるのを制限する。
第1スイッチング素子12のドレインは、第1端子100aに接続されている。第1端子100aは、外部配線に接続されている。第1スイッチング素子12のゲートは、制御端子100cに接続されている。第1スイッチング素子12のソースは、シャント抵抗30の一端に接続されている。なお、第1チップ10には、感温ダイオード等の第1スイッチング素子12以外の素子が形成されていてもよい。
第2スイッチング素子22は、第1スイッチング素子12と同様に、寄生ダイオードを有している。この寄生ダイオードは、カソードが第2スイッチング素子22のドレインに接続され、アノードが第2スイッチング素子22のソースに接続されている。第2スイッチング素子22がオフ状態にされることで、第2スイッチング素子22に流れる電流の経路は、寄生ダイオードのアノードからカソードへ流れる経路のみに制限される。
半導体装置100の形成する電流経路に対して、第1スイッチング素子12の寄生ダイオードの電流を流す方向は、第2スイッチング素子22の寄生ダイオードの電流を流す方向と反対方向である。これにより、第2スイッチング素子22は、オフ状態にされることで、電流経路において第1スイッチング素子12が電流を制限する方向と反対方向に電流が流れるのを制限する。
第2スイッチング素子22のドレインは、第2端子100bに接続されている。第2端子100bは、外部配線に接続されている。第2スイッチング素子22のゲートは、制御端子100dに接続されている。第2スイッチング素子22のソースは、シャント抵抗30の第1スイッチング素子12と接続された一端と反対の他端に接続されている。なお、第2チップ20には、感温ダイオード等の第2スイッチング素子22以外の素子が形成されていてもよい。
シャント抵抗30は、第1スイッチング素子12及び第2スイッチング素子22を電気的に中継し、電流経路の一部を形成している。シャント抵抗30は、特許請求の範囲に記載の配線に相当する。
シャント抵抗30は、電流経路に流れる電流を検出するための抵抗体32を有している。第1スイッチング素子12のソースとシャント抵抗30との接続点は、センス端子100eに接続されている。また、第2スイッチング素子22のソースとシャント抵抗30との接続点は、センス端子100fに接続されている。
抵抗体32は、第1スイッチング素子12及びシャント抵抗30の接続点と、第2スイッチング素子22及びシャント抵抗30の接続点と、の間に配置されている。よって、抵抗体32は、一端がセンス端子100eに接続され、他端がセンス端子100fに接続されている。換言すると、抵抗体32の両端は、センス端子100e,100fに接続されている。
センス端子100e,100fは、電流経路に流れる電流を検出する図示しない電流検出部と接続される。センス端子100e,100fは、電流検出部に対して抵抗体32の両端電圧を出力する。これにより、電圧検出部は、抵抗体32の電圧降下を検出し、ひいては電流経路に流れる電流の値を検出できる。
制御端子100c,100dは、スイッチング素子12,22のオンオフ状態を制御する制御部と接続される。制御部は、制御端子100c,100dに制御信号を出力することで、スイッチング素子12,22のオンオフ状態を制御する。
これにより、制御部は、電流経路に電流が流れるか否かを決定する。詳述すると、制御部は、スイッチング素子12,22の両方をオン状態にすることで、電流経路に対して双方向に電流が流れるのを可能にする。また、制御部は、スイッチング素子12,22の両方をオフ状態にすることで、電流経路において双方向に電流が流れないようにする。詳述すると、各スイッチング素子12,22の寄生ダイオードの電流を制限する方向が互いに逆方向とされているため、スイッチング素子12,22の両方をオフ状態にすると、電流経路では両方の方向に対して電流が流れることが制限される。換言すると、制御部は、スイッチング素子12,22の両方をオフ状態にすることで、電流の方向に関係なく電流経路に電流が流れないようにする。
次に、図2〜図5に基づき、半導体装置100の構造について説明する。
図2に示すように、XY平面においてチップ10,20は、各辺がX方向又はY方向に沿う矩形状をなしている。図3に示すように、チップ10,20は、厚さ方向がZ方向に沿う平板形状をなしている。
第1チップ10は、Z方向と直交する平面とされた表面10aと裏面10bとを有している。表面10aには、第1スイッチング素子12のソース電極及びゲート電極が形成されている。裏面10bには、第1スイッチング素子12のドレイン電極が形成されている。
第2チップ20は、第1チップ10とほぼ等しい形状とされている。2つのチップ10,20は、X方向に並んでいる。第2チップ20は、Z方向と直交する平面とされた表面20aと裏面20bとを有している。表面20aには、第2スイッチング素子22のソース電極及びゲート電極が形成されている。裏面20bには、第2スイッチング素子22のドレイン電極が形成されている。
第2チップ20は、Z方向において第1チップ10と等しい位置に配置されている。詳述すると、Z方向において、表面20aの位置が表面10aの位置と等しく、且つ、裏面20bの位置が裏面10bの位置と等しくされている。また、第2チップ20は、Y方向において第1チップ10と等しい位置に配置されている。
シャント抵抗30は、一端が第1チップ10と電気的及び機械的に接続されるとともに、他端が第2チップ20と電気的及び機械的に接続されている。これにより、シャント抵抗30は、第1チップ10と第2チップ20とを繋ぐ配線として機能している。シャント抵抗30は、XY平面においてX方向に延びて形成されている。シャント抵抗30は、第1チップ10に対して表面10a側に配置されるとともに、第2チップ20に対して表面20a側に配置されている。
シャント抵抗30において抵抗体32は、抵抗体32以外の部分に較べて抵抗率が大きくされている。抵抗体32は、例えば、CuMnSnやCuMnNiを主成分として形成されている。シャント抵抗30の抵抗体32以外の部分は、例えば、銅を主成分として形成されている。シャント抵抗30は、図3に示すように、チップ10,20に固定された固定部34a,34bと、抵抗体32を含む中央部36と、固定部34a,34b及び中央部36を連結する連結部38a,38bと、を有している。
固定部34aは、シャント抵抗30の一端を形成している。固定部34aは、表面10aのソース電極にはんだ付けされている。固定部34bは、シャント抵抗30の固定部34aと反対の他端を形成している。固定部34bは、裏面10bのソース電極にはんだ付けされている。なお、表面10a,20aに形成された電極には、はんだ付けができるように、めっき処理が施されている。固定部34a,34bは、厚さ方向がZ方向に沿う平板形状をなしている。XY平面において固定部34a,34bは、各辺がX方向又はY方向に沿う矩形状をなしている。
固定部34aは、第1チップ10に較べて、X方向の幅及びY方向の幅が短くされている。同様に、固定部34bは、第2チップ20に較べて、X方向の幅及びY方向の幅が短くされている。また、Z方向の投影視において、固定部34aの全体が、第1チップ10の一部と重なっている。同様に、Z方向の投影視において、固定部34bの全体が、第2チップ20の一部と重なっている。
中央部36は、X方向において、固定部34a,34bの間に配置されている。すなわち、中央部36は、X方向において、チップ10,20の間に配置されている。Z方向の投影視において中央部36は、チップ10,20と重なっていない。また、中央部36は、Z方向において、チップ10,20に対して表面10a,20a側であって、表面10a,20aから離れた位置に配置されている。すなわち、中央部36は、Z方向において固定部34a,34bから離れた位置に配置されている。
中央部36は、厚さ方向がZ方向に沿う平板形状をなしている。XY平面において中央部36は、各辺がX方向又はY方向に沿う略矩形状をなしている。中央部36のY方向における幅は、固定部34a,34bのY方向における幅よりも長くされている。中央部36は、Y方向の幅がチップ10,20とほぼ等しくされ、且つ、Y方向においてチップ10,20とほぼ等しい位置に配置されている。抵抗体32は、中央部36のX方向における中心に形成されるとともに、中央部36のY方向における一端から他端までY方向に延びて形成されている。
連結部38aは、X方向における固定部34aと中央部36との間に配置されて、固定部34aと中央部36とを連結している。連結部38bは、X方向における固定部34bと中央部36との間に配置されて、固定部34bと中央部36とを連結している。以上によれば、X方向において、固定部34a、連結部38a、中央部36、連結部38b、及び、固定部34bの順に並んでいる。
連結部38a,38bは、XY平面において矩形状をなしている。連結部38a,38bは、Y方向の幅が固定部34a,34bと等しくされ、且つ、Y方向において固定部34a,34bと等しい位置に配置されている。ZX平面において連結部38a,38bは、Z方向及びX方向に対して所定角度を有して直線状に延びている。Z方向の投影視において、連結部38aの一部は、第1チップ10の一部と重なっている。同様に、Z方向の投影視において、連結部38bの一部は、第2チップ20の一部と重なっている。
半導体装置100は、第1チップ10、第2チップ20、及び、シャント抵抗30に加えて、リードフレーム40、ボンディングワイヤ50、モールド樹脂60、絶縁シート70、ヒートシンク80、及び、ねじ90をさらに備えている。なお、図2では、ねじ90を省略して図示している。また、図5では、絶縁シート70、ヒートシンク80、及び、ねじ90を省略して図示している。
リードフレーム40は、チップ10,20を固定しつつ、電流経路を形成するものである。リードフレーム40は、金属材料を用いて形成されている。リードフレーム40は、第1リード42、第2リード44、及び、複数のピン46を備えている。
第1リード42には、第1チップ10が固定配置されるとともに、外部配線が接続される。第1リード42は、半導体装置100の第1端子100aに相当し、電流経路を形成する。第1リード42は、金属板が屈曲された形成をなしている。詳述すると、第1リード42は、厚さ方向がZ方向に沿う平板部42aと、厚さ方向がY方向に沿う平板部42bと、を有している。
平板部42aは、第1チップ10が固定される部分である。平板部42aは、表面42cと、Z方向において表面42cと反対の裏面42dと、を有している。表面42c及び裏面42dは、Z方向と直交する平面である。表面42cには、第1チップ10が配置されている。表面42cが裏面10bとはんだ付けされることで、第1リード42が第1チップ10と機械的及び電気的に接続されている。これにより、第1リード42は、第1スイッチング素子12のドレイン電極と接続されている。Z方向の投影視において平板部42aは、第1チップ10、固定部34a、連結部38a、及び、中央部36の一部と重なっている。
平板部42bは、外部配線と接続される部分である。平板部42bは、平板部42aのY方向における一端に連結されている。平板部42bは、平板部42aから、Z方向のうちの第1チップ10側に屈曲している。
第2リード44には、第2チップ20が固定配置されるとともに、外部配線が接続される。第2リード44は、半導体装置100の第2端子100bに相当し、電流経路を形成する。
第2リード44は、X方向と直交する対称面Sを基準に、第1リード42と対称的な形状をなしている。すなわち、第2リード44は、第1リード42に対して面対称な形状をなしている。よって、図2及び図4に示すように、第2リード44は、金属板が屈曲された形成をなしている。図2及び図3では、対称面Sを二点鎖線で示している。
対称面Sは、X方向におけるシャント抵抗30の中心を通っている。シャント抵抗30は、対称面Sを基準に、対称的な形状をなしている。また、第1チップ10は、対称面Sを基準に、第2チップ20と対称的な位置に配置されている。
第2リード44は、厚さ方向がZ方向に沿う平板部44aと、厚さ方向がY方向に沿う平板部44bと、を有している。平板部44aは、表面44cと、Z方向において表面42cと反対の裏面44dと、を有している。表面44c及び裏面42dは、Z方向と直交する平面である。表面44cには、第2チップ20が配置されている。表面44cが裏面10bとはんだ付けされることで、第2リード44が第2チップ20と機械的及び電気的に接続されている。これにより、第2リード44は、第2スイッチング素子22のドレイン電極と接続されている。
第2リード44は、Z方向において第1リード42と等しい位置に配置されている。詳述すると、Z方向において、表面44cの位置が表面42cの位置と等しく、且つ、裏面44dの位置が裏面42dの位置と等しくされている。これにより、Z方向におけるチップ10,20同士の位置が等しくされている。Z方向の投影視において平板部44aは、第2チップ20、固定部34b、連結部38b、及び、中央部36の一部と重なっている。平板部44bは、平板部44aのY方向における一端に連結されている。平板部44bは、平板部44aから、Z方向のうちの第2チップ20側に屈曲している。
平板部42a及び平板部42bには、ねじ90が通るための穴40aが形成されている。穴40aは、XY平面において、略真円形状をなしている。穴40aは、X方向における平板部42a及び平板部44aの間の領域によって形成されている。平板部42aは、平板部44aと対向する側面がX方向において半円状に凹んでいる。同様に、平板部44bは、平板部42aと対向する側面がX方向において半円状に凹んでいる。平板部42a,44aの側面における凹みによって、穴40aが形成されている。
Z方向の投影視において、穴40aは、第1チップ10、第2チップ20、及び、シャント抵抗30と重ならない位置に形成されている。本実施形態では、Z方向の投影視において穴40aが、中央部36に対してY方向の一方側に形成されている。
以下、XY平面における穴40aの中心を、中心Cと示す。リード42、44の面対称の基準である対称面Sは、中心Cを通る。換言すると、X方向において、対称面Sの位置は、中心Cの位置と等しくされている。本実施形態では、XY平面において、第1チップ10に対する穴40aの中心Cとの最短距離が、第2チップ20に対する中心Cとの最短距離と等しくされている。
リード42,44には、Z方向に貫通する貫通穴42e,44eが形成されている。貫通穴42e,44e内にモールド樹脂60が配置されることで、リードフレーム40及びモールド樹脂60の接続強度が向上する。また、表面42c,44cの穴40aの周縁及び貫通穴42e,44eの開口付近には、溝が形成されている。この溝にモールド樹脂60が配置されることで、リードフレーム40及びモールド樹脂60の接続強度が向上する。また、リード42,44は、X方向の両端面から突出する突起42f,44fを有している。この突起42f,44fによるアンカー効果により、リードフレーム40及びモールド樹脂60の接続強度が向上する。
ピン46は、一端がボンディングワイヤ50を介して第1チップ10、第2チップ20、又は、シャント抵抗30に接続され、他端が外部配線と接続される。本実施形態においてリードフレーム40は、9つのピン46を有している。なお、ピン46の数は9つに限定されない。
ピン46は、第1リード42のY方向における平板部42bと反対側、第2リード44のY方向における平板部44bと反対側、及び、中央部36のY方向における穴40aと反対側に、配置されている。9つのピン46は、X方向に並んでいる。
ピン46は、屈曲した棒状をなしており、Y方向に延びる柱部46aと、Z方向に延びる柱部46bと、を有している。柱部46aにおける一端は、ボンディングワイヤ50に接続されている。柱部46aは、ボンディングワイヤ50と接続された一端と反対の他端が柱部46bと連結されている。柱部46bは、Z方向のうちの平板部42bが平板部42aから延びる方向と等しい方向に、柱部46aから延びている。柱部46bは、外部配線と接続される。
3つのピン46は、ボンディングワイヤ50を介して電気的及び機械的に第1チップ10と接続されている。ピン46と第1チップ10とを電気的に中継するボンディングワイヤ50は、一端が柱部46aに接続され、他端が第1チップ10の表面10aに形成された電極に接続されている。
第1チップ10と接続された3つのピン46のうちの1つは、制御端子100cに相当し、第1スイッチング素子12のゲートと接続されている。制御端子100cに相当するピン46は、柱部46bによって、第1スイッチング素子12のオンオフ状態を制御する制御部と接続される。制御部は、ピン46及びボンディングワイヤ50を介して第1スイッチング素子12のゲートに制御信号を送信する。第1チップ10と接続された3つのピン46のうちの残り2つのピン46は、第1チップ10に形成された第1スイッチング素子12以外の素子等と接続されている。
4つのピン46は、ボンディングワイヤ50を介して電気的及び機械的に第2チップ20と接続されている。ピン46と第2チップ20とを電気的に中継するボンディングワイヤ50は、一端が柱部46aに接続され、他端が第2チップ20の表面20aに形成された電極に接続されている。
第2チップ20と接続された4つのピン46のうちの1つは、制御端子100dに相当し、第2スイッチング素子22のゲートと接続されている。制御端子100dに相当するピン46は、柱部46bによって、制御部と接続される。制御部は、ピン46及びボンディングワイヤ50を介して第2スイッチング素子22のゲートに制御信号を送信する。第2チップ20と接続された4つのピン46のうちの残り3つのピン46は、第2チップ20に形成された第2スイッチング素子22以外の素子等と接続されている。
2つピン46は、センス端子100e,100fに相当し、ボンディングワイヤ50を介して電気的及び機械的にシャント抵抗30と接続されている。この2つのピン46のうちの一方はボンディングワイヤ50を介して抵抗体32の一端側に接続され、他方はボンディングワイヤ50を介して抵抗体32の他端側に接続されている。なお、シャント抵抗30と接続されるボンディングワイヤ50は、中央部36のうちの抵抗体32以外の部分であって、中央部36に近い部分に接続されている。
センス端子100e,100fに相当するピン46は、柱部46bによって、電流検出部と接続される。電流検出部は、ボンディングワイヤ50及びピン46を介して、抵抗体32の両端電圧を検出する。
なお、リード42、44とチップ10,20とを接続するはんだ、及び、チップ10,20とシャント抵抗30とを接続するはんだとしては、加熱後にフレックス残渣が残らないはんだを採用している。これによれば、フラックス残渣によってボンディングワイヤ50の接続が阻害されるのを抑制できる。
モールド樹脂60は、第1チップ10、第2チップ20、シャント抵抗30、及び、リードフレーム40を一体的に封止している。これにより、モールド樹脂60は、第1チップ10、第2チップ20、シャント抵抗30、及び、リードフレーム40を保持している。
モールド樹脂60は、Z方向と直交する一面60aと、Z方向において一面60aと反対の底面60bとを有している。一面60aは、Z方向において、シャント抵抗30に対してチップ10,20と反対側で、シャント抵抗30と離れた位置にある。なおモールド樹脂60は、対称面Sを基準に対称的な形状とされている。
底面60bは、Z方向において、裏面42d,44dと等しい位置、又は、裏面42d,44dよりも僅かに一面60aから離れた位置にある。これにより、図3及び図5に示すように、裏面42d,44dは、モールド樹脂60から露出している。図5では、裏面42d,44dの形状を明確にするために、裏面42d,44dにハッチングを施している。
第1リード42は、平板部42aの一部、及び、平板部42bの全体がモールド樹脂60から露出している。これにより、平板部42bは、外部配線と接続可能となる。第2リード44は、平板部44aの一部、及び、平板部44bの全体がモールド樹脂60から露出している。これにより、平板部44bは、外部配線と接続可能となる。ピン46は、柱部46aの一部、及び、柱部46bの全体がモールド樹脂60から露出している。これにより、柱部46bは、外部配線と接続可能となる。
モールド樹脂60には、ねじ90が通るための貫通穴60cが形成されている。この貫通穴60cは、モールド樹脂60をZ方向に貫通している。XY平面において、貫通穴60cの直径は、穴40aの直径よりも小さくされている。
絶縁シート70は、電気絶縁材料を用いて形成されている。絶縁シート70は、リードフレーム40とヒートシンク80との間に介在し、リードフレーム40とヒートシンク80とを電気的に絶縁する。絶縁シート70は、厚さ方向がZ方向に沿う平板形状をなしている。絶縁シート70は、裏面42d、裏面44d、及び、底面60bに接触配置されている。なお絶縁シート70は、対称面Sを基準に対称的な形状とされている。
絶縁シート70には、ねじ90が通る貫通穴が形成されている。絶縁シート70の貫通穴は、Z方向に延びて、モールド樹脂60の貫通穴60cと連通している。絶縁シート70のリードフレーム40及びモールド樹脂60と反対側には、ヒートシンク80が配置されている。
ヒートシンク80は、チップ10,20の熱を外部に放熱するものである。ヒートシンク80は、金属材料を用いて形成されている。ヒートシンク80は、各辺がX方向、Y方向、又は、Z方向に沿う立方体形状をなしている。ヒートシンク80は、絶縁シート70との接触面80aを有している。接触面80aは、Z方向と直交する平面である。チップ10,20の熱は、リード42,44及び絶縁シート70を介してヒートシンク80に伝達され、ヒートシンク80から外部に放熱される。
ヒートシンク80には、ねじ90と締結されるねじ穴が形成されている。ヒートシンク80のねじ穴は、接触面80aからZ方向に所定深さを有して形成されている。ヒートシンク80のねじ穴は、モールド樹脂60の貫通穴60c、及び、絶縁シート70の貫通穴と連通している。なおヒートシンク80は、対称面Sを基準に対称的な形状とされている。
ねじ90は、モールド樹脂60、絶縁シート70、ヒートシンク80を互いに固定するものである。ねじ90は、モールド樹脂60の貫通穴60c及び絶縁シート70の貫通穴を通って、ヒートシンク80のねじ穴に締結されている。ねじ90の頭部は、座金92を介してモールド樹脂60の一面60aに配置されている。
ねじ90は、リードフレーム40及びモールド樹脂60を絶縁シート70及びヒートシンク80側に押し付けている。これにより、リードフレーム40及びモールド樹脂60と、絶縁シート70と、の間には、隙間が形成されていない。また、絶縁シート70と、ヒートシンク80と、の間にも、隙間が形成されていない。
次に、上記した半導体装置100の効果について説明する。
本実施形態では、チップ10,20同士が、電流経路に流れる電流を検出するためのシャント抵抗30によって接続されている。これによれば、チップ10,20同士を接続する配線とは別にシャント抵抗30が設けられている構成に較べて、配線を省略できる。したがって、半導体装置100の部品点数が増大するのを抑制できる。
本実施形態では、リード42,44の裏面42d,44dがモールド樹脂60から露出している。これによれば、裏面42d,44dがモールド樹脂60に覆われた構成に較べて、チップ10,20の熱が裏面42d,44dから放熱され易い。したがって、チップ10,20が高温になるのを効果的に抑制できる。
本実施形態においてリード42,44は、チップ10,20の並び方向と直交する対称面Sを基準に、互いに対称的な形状をなしている。すなわち、第1チップ10の放熱経路である第1リード42の形状が、第2チップ20の放熱経路である第2リード44と対称的な形状とされている。これによれば、第1チップ10から第1リード42への放熱量が、第2チップ20から第2リード44への放熱量と近くできる。したがって、チップ10,20のうちの一方が他方に較べて高温になるのを抑制できる。
本実施形態では、絶縁シート70がリードフレーム40及びヒートシンク80を電気的に絶縁しつつ、ヒートシンク80がチップ10,20の熱を放熱している。これによれば、半導体装置100が絶縁シート70及びヒートシンク80を備えない構成に較べて、チップ10,20が高温になるのを効果的に抑制できる。
ところで、リードフレーム40、絶縁シート70、及び、ヒートシンク80が接着材を介して互いに固定された構成としてもよい。この場合には、チップ10,20の熱は、伝熱経路として接着材を通る。これに対して本実施形態において、リードフレーム40、絶縁シート70、及び、ヒートシンク80は、互いにねじ締結されている。これによれば、チップ10,20の熱は、リード42,44から絶縁シート70へ直接伝達されるとともに、絶縁シート70からヒートシンク80へ直接伝達される。したがって、チップ10,20の熱がヒートシンク80へ伝達され易く、チップ10,20が高温になるのを効果的に抑制できる。
リード42,44がねじ90によってヒートシンク80側へ押し付けられているため、リード42,44のうちのねじ90が通る穴40aに近い部分ほどヒートシンク80へ伝熱し易い。これに対し本実施形態では、XY平面においてチップ10,20の穴40aの中心Cに対する最短距離が、互いに等しくされている。これにより、第1チップ10から第1リード42への放熱量を、第2チップ20から第2リード44への放熱量と近くできる。したがって、チップ10,20のうちの一方が高温となるのを効果的に抑制できる。
本実施形態において、リード42,44同士の面対称の基準となる対称面Sは、穴40aの中心Cを通っている。これによれば、第1リード42のうちのヒートシンク80へ特に放熱し易い部分の形状が、第2リード44のうちのヒートシンク80へ特に放熱し易い部分と対称的な形状とされる。したがって、チップ10,20からリード42,44への放熱量を互いに近くでき、チップ10,20のうちの一方が他方に較べて高温となるのを効果的に抑制できる。
(その他の実施形態)
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態になんら制限されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々変形して実施することが可能である。
上記実施形態では、半導体装置100が絶縁シート70及びヒートシンク80を備える例を示したが、これに限定するものではない。半導体装置100が絶縁シート70及びヒートシンク80を備えない例を採用することもできる。例えば、モールド樹脂60から露出するリード42,44の裏面42d、44dは、半導体装置100の周囲の空気と接触していてもよい。
上記実施形態では、スイッチング素子12,22がMOSFETである例を示したが、これに限定するものではない。例えば、スイッチング素子12,22としてバイポーラトランジスタやIGBTを採用することもできる。また、スイッチング素子12,22は、互いに異なる素子であってもよい。
10…第1チップ、10a…表面、10b…裏面、12…第1スイッチング素子、20…第2チップ、20a…表面、20b…裏面、22…第2スイッチング素子、30…シャント抵抗、32…抵抗体、34a…固定部、34b…固定部、36…中央部、38a…連結部、38b…連結部、40…リードフレーム、40a…穴、42…第1リード、42a…平板部、42b…平板部、42c…表面、42d…裏面、44…第2リード、44a…平板部、44b…平板部、44c…表面、44d…裏面、46…ピン、50…ボンディングワイヤ、60…モールド樹脂、60c…貫通穴、70…絶縁シート、80…ヒートシンク、90…ねじ、100…半導体装置、100a…第1端子、100b…第2端子、100c…制御端子、100d…制御端子、100e…センス端子、100f…センス端子

Claims (7)

  1. 双方向に電流が流れる電流経路に接続されるとともに前記電流経路の一部を形成する半導体装置であって、
    オフ状態にされることで前記電流経路において一方向に電流が流れるのを制限する第1スイッチング素子(12)を有する第1チップ(10)と、
    オフ状態にされることで前記電流経路において前記一方向と反対方向に電流が流れるのを制限する第2スイッチング素子(22)を有する第2チップ(20)と、
    一端が前記第1チップに接続されるとともに他端が前記第2チップに接続されて、前記第1チップと前記第2チップとを中継することで前記電流経路の一部を形成する配線(30)と、
    前記第1チップが固定配置された第1リード(42)と、前記第2チップが固定配置された第2リード(44)と、を有し、前記電流経路を形成するリードフレーム(40)と、
    前記第1チップ、前記第2チップ、前記配線、及び、前記リードフレームを一体的に封止するモールド樹脂(60)と、を備え、
    前記配線は、前記電流経路に流れる電流を検出するための抵抗体(32)を有するシャント抵抗であり、
    前記リードフレームは、前記配線のうちの前記抵抗体の両端に接続され、前記抵抗体による電圧降下を検出するためのセンス端子(100e,100f,46)をさらに有している半導体装置。
  2. 前記第1リードの前記第1チップと反対の面(42d)、及び、前記第2リードの前記第2チップと反対の面(44d)は、前記モールド樹脂から露出している請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記第1リード及び前記第2リードは、前記第1チップと前記第2チップの並び方向と直交する対称面(S)を基準に、互いに対称的な形状をなしている請求項1又は請求項2に記載の半導体装置。
  4. 前記リードフレームに対して前記第1チップ及び前記第2チップと反対側に配置され、前記第1チップ及び前記第2チップの熱を放熱するヒートシンク(80)と、
    前記リードフレームと前記ヒートシンクとの間に介在し、前記リードフレーム及び前記ヒートシンクを電気的に絶縁する絶縁シート(70)と、をさらに備える請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置。
  5. 前記リードフレーム、前記絶縁シート、及び、前記ヒートシンクは、互いにねじ締結されている請求項4に記載の半導体装置。
  6. 前記リードフレームには、ねじ締結されるための穴(40a)が厚さ方向に形成され、
    前記厚さ方向と直交する平面において、前記第1チップ及び前記第2チップは、前記穴の中心(C)に対する最短距離が互いに等しくされている請求項5に記載の半導体装置。
  7. 前記リードフレームには、ねじ締結されるための穴(40a)が厚さ方向に形成され、
    前記第1リード及び前記第2リードは、前記穴の中心(C)を通るとともに前記厚さ方向に沿う対称面(S)を基準に、互いに対称的な形状をなしている請求項5又は請求項6に記載の半導体装置。
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