JP2018054454A - レンズ測定装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 累進レンズの測定において、容易に遠用部の測定を行い、再現性のよい遠用部の測定結果を取得する。【解決手段】 レンズの光学特性を測定するための測定光学系を用いてレンズの光学特性を測定するレンズ測定装置であって、第１隠しマーク及び第２隠しマークが付与されたレンズの一方の隠しマークを撮像するための第１撮像光学系と、第１撮像光学系で撮像された隠しマークとは異なる隠しマークを撮像するための第２撮像光学系と、を備え、第１撮像光学系のレンズ上での第１撮像領域は、第２撮像光学系のレンズ上での第２撮像領域と、は異なる撮像領域であって、測定光学系は、第１撮像領域と第２撮像領域との間の中心領域に、測定光学系によるレンズ上での測定領域を備える。【選択図】 図１

Description

本開示は、レンズの光学特性を測定するレンズ測定装置に関する。

レンズ測定装置としては、測定光束をレンズに投光し、レンズ及び指標板を通過した測定光束を撮像素子で撮像することによって、レンズの光学特性（例えば、屈折度数等）を測定する測定光学系を備えるレンズメータが知られている（例えば、特許文献１参照）。また、測定光束をレンズに投光し、レンズ及び指標板を通過した測定光束をスクリーンに投影させ、スクリーンに投影された測定光束を撮像素子で撮像することによって、レンズの光学特性を取得し、レンズの加工を行うためのカップの取付け位置を決定する装置が知られている（例えば、特許文献２参照）。

例えば、上記のようなレンズ測定装置において、累進屈折力レンズ（以下、累進レンズと記載）を測定する場合には、検者がレンズをレンズ測定領域に対して移動しながら最適な遠用部を探すアライメント操作を行い、遠用部の測定を行っている。

特開２００８−２４１６９４号公報 特開２０００−０７９５４５号公報

ところで、累進レンズを測定する場合には、検者がレンズをレンズ測定領域に対して移動しながら最適な遠用部を探すアライメント操作を行うため、不慣れな検者にとっては操作が複雑であり、測定に手間がかかっていた。

また、累進レンズを測定する場合には、検者によるレンズの移動の仕方（アライメント操作の仕方）によって、遠用部の測定位置が変化する。例えば、同一の累進レンズであっても、検者によるレンズの移動の仕方によっては、遠用部の測定位置が毎回変化してしまうことがある。このため、再現性のよい遠用部の測定結果を得ることが困難であった。

本開示は、上記問題点の少なくとも１つを鑑み、累進レンズの測定において、容易に遠用部の測定を行うことができるとともに、再現性のよい遠用部の測定結果を取得することができるレンズ測定装置を提供することを技術課題とする。

（１） 本開示の第１態様に係るレンズ測定装置は、レンズの光学特性を測定するための測定光学系を用いてレンズの光学特性を測定するレンズ測定装置であって、第１隠しマーク及び第２隠しマークが付与されたレンズの一方の隠しマークを撮像するための第１撮像光学系と、前記第１撮像光学系で撮像された隠しマークとは異なる隠しマークを撮像するための第２撮像光学系と、を備え、前記第１撮像光学系のレンズ上での第１撮像領域と、前記第２撮像光学系のレンズ上での第２撮像領域と、は異なる撮像領域であって、前記測定光学系は、前記第１撮像領域と前記第２撮像領域との間の中心領域に前記測定光学系によるレンズ上での測定領域を備えることを特徴とする。

本実施例に係るレンズ測定装置における外観の概略構成図である。 未加工の累進レンズを表面側から示す一例の図である。 本実施例に係るレンズ測定装置における光学系を示す図である。 測定光学系と撮像光学系の位置関係を示す図である。 各光学系を直線状に配置した構成の一例を示す図である。 指標板を示す図である。 指標パターン像を示す図である。 再帰性反射部材の構成を示す一例の図である。 本実施例に係るレンズ測定装置における制御系の概略構成図である。 印点機構が待機位置にある状態を説明するための図である。 印点機構が印点位置にある状態を説明するための図である。 累進レンズの測定画面を示す図である。

以下、本開示の実施形態を図面に基づいて説明する。本開示では、レンズ測定装置の一例として、レンズＬＥの光学特性を測定するために用いるレンズメータについて説明する。なお、本開示におけるレンズ測定装置は、レンズの光学特性を測定するための測定光学系と、レンズに施された隠しマークを撮像するための撮像光学系と、を有するものであればよい。つまり、レンズ測定装置としては、光束をレンズに投光し、レンズ及び指標板を通過した光束を撮像素子で撮像することによって、レンズの光学特性を測定する測定光学系を備え、かつ、光束をレンズに投光し、レンズを通過して反射部材に反射された光束を撮像素子で撮像することによって、レンズに施された隠しマークを撮像する撮像光学系を備える、レンズメータであればよい。また、レンズ測定装置としては、上記の測定光学系及び撮像光学系を備えた、レンズＬＥの加工時に装着するカップの取付け位置を決定するために用いるカップ取付け装置であってもよい。

なお、本開示では、レンズメータ１に向かって、奥行き方向（検者からみた前後方向）をＺ方向、奥行き方向に垂直な平面上の水平方向（検者からみた左右方向）をＸ方向、奥行き方向に垂直な平面上の鉛直方向（検者からみた上下方向）をＹ方向として説明する。また、本開示における略平行状態とは、完全な平行状態を含む。また、本開示における略同一とは、完全に同一な状態を含む。

＜概要＞
本実施形態におけるレンズ測定装置（例えば、レンズメータ１）は、レンズの光学特性を測定するための測定光学系（例えば、測定光学系１０）を用いてレンズの光学特性を測定する。例えば、レンズ測定装置は、第１撮像光学系（例えば、第１撮像光学系２０）と、第２撮像光学系（第２撮像光学系３０）を備える。

例えば、第１撮像光学系は、第１隠しマーク及び第２隠しマークが付与されたレンズの一方の隠しマークを撮像する。例えば、第２撮像光学系は、第１撮像光学系で撮像された隠しマークとは異なる他方の隠しマークを撮像する。

例えば、第１撮像光学系のレンズ上での第１撮像領域（例えば、第１撮像領域Ａ２）と、第２撮像光学系のレンズ上での第２撮像領域（例えば、第２撮像領域Ａ３）と、が異なる撮像領域であってもよい。例えば、測定光学系は、第１撮像領域と第２撮像領域との間の中心領域（例えば、中心領域Ｂ）に測定光学系によるレンズ上での測定領域（例えば、測定領域Ａ１）を備えてもよい。

例えば、本実施形態において、累進屈折力レンズ（累進レンズ）を測定する際に、隠しマークに位置合わせした際に、測定光学系の測定領域に遠用部が配置されるため、レンズを容易に遠用部の測定を行うことができる。また、例えば、累進レンズを測定する際に、隠しマークに位置合わせした際に、常時同一の位置で遠用部の測定を行うことができるため、同一のレンズで遠用部の測定を再測定した場合であっても、再現性のよい遠用部の測定結果を取得することができる。

例えば、第１撮像領域と第２撮像領域の配置は、第１撮像領域の第１撮像中心位置（例えば、中心Ｃ２）と、第２撮像領域における第２撮像中心位置（例えば、中心Ｃ３）と、が測定領域における測定中心位置（中心Ｃ１）を中心として対称となる位置に配置されていてもよい。例えば、累進レンズに施された隠しマークを撮像する第１撮像光学系における第１撮像領域の中心位置と、第２撮像光学系における第２撮像領域の中心位置が、光学特性を測定する測定光学系における測定領域の中心位置から対称に配置されていることによって、累進レンズを測定する際に、累進レンズの幾何学中心位置から左右の一定の位置に形成される隠しマークを容易に位置合わせすることができる。

例えば、測定中心位置から第１撮像中心位置までの水平方向における距離及び測定領域中心位置から前記第２撮像中心位置までの水平方向における距離は、レンズの遠用ポイントから隠しマークの中心位置までの水平方向における距離とそれぞれ略同一であるようにしてもよい。例えば、測定光学系における測定領域の中心位置から、第１撮像光学系における第１撮像領域の中心位置までの水平方向における距離が、累進レンズの遠用度数測定ポイントから隠しマークまでの水平方向における距離と略同一であることによって、累進レンズを測定する際に、隠しマークを容易に位置合わせすることができる。また、例えば、測定光学系における測定領域の中心位置から、第２撮像光学系における第２撮像領域の中心位置までの水平方向における距離が、累進レンズの遠用度数測定ポイントから隠しマークまでの水平方向における距離と略同一であることによって、累進レンズを測定する際に、隠しマークを容易に位置合わせすることができる。

例えば、測定光学系は、第１撮像中心位置と第２撮像中心位置を結んだ直線の中心を通る垂線上において垂直方向に所定距離ずれた領域に測定領域を備えるように配置されてもよい。例えば、測定光学系における測定領域が、第１撮像光学系における第１撮像領域の中心位置と、第２撮像光学系における第２撮像領域の中心位置を結んだ直線の中心を通る垂線上において、垂直方向に所定距離ずれて位置することによって、累進レンズの隠しマークを位置合わせした際、測定光学系の測定領域を累進レンズの遠用部に容易に配置することができる。

例えば、所定の距離は、レンズの遠用ポイントからレンズの幾何学中心までの垂直方向における距離と略同一の距離であってもよい。例えば、第１撮像領域の中心位置と、第２撮像領域の中心位置を結んだ直線の中心から、測定光学系の測定領域までの距離が、累進レンズの遠用度数測定ポイントから幾何学中心位置までの垂直方向における距離と略同一であることによって、累進レンズの隠しマークを位置合わせした際、測定光学系の測定領域を累進レンズの遠用度数測定ポイントにより容易に配置することができる。

例えば、第１撮像光学系は、第１光源（例えば、光源１１）と、第１反射部材（例えば、第１反射部材２７）と、第１撮像素子（例えば、第１撮像素子２６）と、を有してもよい。この場合、例えば、第１撮像光学系は、第１光源から出射された光を所定の位置の配置されたレンズの表面側から照射し、レンズを通った光を第１反射部材で反射して再びレンズを通過させ、再びレンズを通過した光を第１撮像素子によって受光することで前記第１隠しマークを撮像してもよい。

例えば、第２撮像光学系は、第２光源（例えば、光源１１）と、第２反射部材（例えば、第２反射部材３７）と、第２撮像素子（例えば、第２撮像素子３６）と、を有し、第２光源から出射された光を所定の位置の配置されたレンズの表面側から照射し、レンズを通った光を第２反射部材で反射して再びレンズを通過させ、再びレンズを通過した光を第２撮像素子によって受光することで前記第２隠しマークを撮像するようにしてもよい。例えば、第１反射部材によって第１光源が反射され、第１撮像素子が累進レンズの所定の位置を撮像することによって、第１隠しマークをより検出しやすくすることができる。また、例えば、第２反射部材によって第２光源が反射され、第２撮像素子が累進レンズの所定の位置を撮像することによって、第２隠しマークをより検出しやすくすることができる。

例えば、第１撮像光学系と、第２撮像光学系と、は、少なくとも一部の光学部材が兼用される光学系であってもよい。この場合、例えば、少なくとも、第１撮像素子と第２撮像素子とが別途それぞれ設けられる構成であってもよい。また、例えば、第１撮像光学系と、第２撮像光学系と、は、別途それぞれ設けられる構成であってもよい。

例えば、測定光学系は、ノーズピース（例えば、ノーズピース４）上に配置されたレンズの光学特性を測定するための測定光学系であって、ノーズピース内を測定光学系の光軸が通過するようにしてもよい。この場合、例えば、第１撮像領域及び第２撮像領域は、ノーズピースの外部に配置されていてもよい。例えば、第１撮像光学系における第１撮像領域と、第２撮像光学系における第２撮像領域が、ノーズピースの外部に配置されていることによって、累進レンズの隠しマークを撮像するための撮像光学系に妨げられることなく、測定光学系によってレンズの光学特性を測定することができる。

なお、例えば、レンズ測定装置は、印点機構（例えば、印点機構９）を備えてもよい。例えば、印点機構は、第１印点部材（例えば、第１印点部材８５ａ）と、第２印点部材（例えば、第２印点部材８５ｂ）と、第３印点部材（例えば、第３印点部材８５ｃ）と、を備えてもよい。例えば、第１印点部材は、第１隠しマーク位置又は第２隠しマークの一方を規定する第１の印点を施してもよい。例えば、第２印点部材は、第１隠しマーク位置又は第２隠しマークの他方を規定する第２の印点を施してもよい。例えば、第３印点部材は、第３の印点を施してもよい。

例えば、第１印点部材の第１印点軸（例えば、第１印点軸Ｓ１）は、第１の印点を施す際に第１撮像中心位置と交わってもよい。例えば、第２印点部材の第２印点軸（例えば、第１印点軸Ｓ２）は、第２の印点を施す際に第２撮像中心位置と交わってもよい。例えば、第３印点部材の第３印点軸（例えば、第３印点軸Ｓ３）は、第３の印点を施す際に測定中心位置と交わってもよい。例えば、第１撮像領域の中心位置に交わる第１の印点と、第２撮像領域の中心位置に交わる第２の印点と、測定領域の中心位置に交わる第３の印点と、を施すことが可能な印点部材であることによって、累進レンズの第１隠しマークと、第２隠しマーク上と、遠用度数測定ポイントに、容易に印点を施すことができる。

＜実施例＞
以下、本開示の実施例を図面に基づいて説明する。図１はレンズメータ１の外観略図である。例えば、レンズメータ１は、ディスプレイ（モニタ）２、入力用スイッチ３、ノーズピース４、レンズ押え５、レンズテーブル６、レバー７、ＲＥＡＤスイッチ８、印点機構９等を備える。なお、本実施例におけるレンズメータ１の構成はこれに限定されない。本実施例におけるレンズメータ１は、少なくとも、後述する測定光学系１０と、第１撮像光学系２０と、第２撮像光学系３０を備えていればよい。

例えば、ディスプレイ２には、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）を用いる。なお、本実施例においては、ディスプレイ２としてＬＣＤを用いる構成を例に挙げて説明するがこれに限定されない。例えば、ディスプレイ２としては、有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイやプラズマディスプレイを用いる構成でもよい。
例えば、ディスプレイ２はタッチパネルである。すなわち、本実施例においては、ディスプレイ２が操作部（コントローラ）として機能する。もちろん、ディスプレイ２はタッチパネル式でなくともよい。また、例えば、ディスプレイ２は、複数のディスプレイを併用する構成でもよい。

例えば、ディスプレイ２は、入力された操作指示に応じた信号を、後述する制御部７０（図９参照）に出力する。もちろん、ディスプレイ２と操作部は別に設けられた構成でもよい。例えば、操作部としては、マウス、ジョイスティック、キーボード、携帯端末等の少なくともいずれかを用いる構成が挙げられる。

例えば、ディスプレイ２には各種の情報が表示される。例えば、各種の情報とは、レンズの光学特性（例えば、球面度数Ｓ、柱面度数Ｃ、乱視軸角度Ａ、プリズム量Δ等）等である。また、例えば、レンズメータ１を用いて累進レンズの光学特性を測定した場合には、累進レンズに施された隠しマーク（すなわち、後述する第１隠しマークＭ１及び第２隠しマークＭ２）等が表示される。

例えば、入力用スイッチ３は、レンズメータ１に各種の処理を実行させるための信号を入力する際に使用する。例えば、各種の処理とは、測定モードの切り換え等である。例えば、本実施例では、入力用スイッチ３がディスプレイ２の画面上において電子的に表示される。すなわち、入力用スイッチ３は、ディスプレイ２の画面をタッチすることによって操作できる。なお、入力用スイッチ３の構成については本実施例に限定されない。例えば、入力用スイッチ３は、ディスプレイカバー２ａ等に設置してもよい。

例えば、ノーズピース４は、レンズを載置するための載置台である。例えば、レンズ押え５は、レンズを上方から押さえて安定に保持するためのものである。例えば、レンズテーブル６は、眼鏡フレームに枠入れされたレンズの光学特性を測定する際に用いる。例えば、レンズテーブル６には、眼鏡フレームにおける左右リムの下端を当接させる。例えば、レバー７は、レンズテーブル７を前後方向（Ｚ方向）に移動させるためのものである。例えば、ＲＥＡＤスイッチ８は、レンズの光学特性を読み取る際に使用する。例えば、印点機構９は、レンズに印点を施すためのものである。なお、印点機構９については後ほど詳しく説明する。

例えば、本実施例におけるレンズメータ１は、後述する累進レンズの隠しマークＭ（図２参照）を検出することができる。また、例えば、本実施例におけるレンズメータ１は、後述する累進レンズの遠用度数測定ポイント１００（図２参照）における光学特性を容易に測定することができる。そこで、まずは累進レンズの特徴について説明する。なお、本実施例におけるレンズメータ１は、累進レンズ以外のレンズについて光学特性を測定することも可能である。

図２は未加工の累進レンズＬＥを表面側（凸面側）から示す一例の図である。例えば、累進レンズＬＥには、遠用度数測定ポイント１００、遠用アイポイント１０１、近用度数測定ポイント１０２、近用アイポイント１０３等が設定されている。これらの設定位置及び設定領域は、累進レンズＬＥの表面にプリントマークとして印刷されている。また、例えば、累進レンズＬＥには、隠しマークＭが施されている。

例えば、累進レンズＬＥの遠用度数は、遠用度数測定ポイント１００において測定される。例えば、遠用度数測定ポイント１００の中心位置Ｃは、遠用アイポイント１０１から上方向に所定の距離（例えば、４ｍｍ）だけ離れて位置している。例えば、遠用アイポイント１０１は、眼鏡装用者の瞳孔位置を一致させるために用いる。すなわち、眼鏡装用者が正面視をした際の視線が、遠用アイポイント１０１を通過するように処方される。また、例えば、遠用アイポイント１０１は、累進レンズＬＥにおける幾何学中心位置Ｏ（言い換えると、累進レンズＬＥの中心位置Ｏ）から上方向に所定の距離（例えば、２ｍｍ）だけ離れて位置している。例えば、累進レンズＬＥの近用度数は、近用度数測定ポイント１０２において測定される。例えば、近用アイポイント１０３は、累進レンズＬＥにおける幾何学中心位置Ｏから下方向に所定の距離だけ離れて位置している。例えば、近用アイポイント１０３と遠用アイポイント１０１間の左右方向（水平方向）における距離は、累進レンズの近用部における内寄せ量を示している。また、近用アイポイント１０３と遠用アイポイント１０１間の上下方向（垂直方向）における距離は、累進レンズの累進帯長を示している。

例えば、隠しマークＭとしては、累進レンズＬＥの種類、加入度数、屈折率、累進帯長等を表す図示なき記号や数値が表示される。例えば、隠しマークＭは、第１隠しマークＭ１と、第２隠しマークＭ２と、からなる。例えば、第１隠しマークＭ１及び第２隠しマークＭ２は、累進レンズＬＥの幾何学中心位置Ｏに対して左右方向（水平方向）に施されている。例えば、本実施例において、第１隠しマークＭ１は、累進レンズＬＥの幾何学中心位置Ｏから右方向に１７ｍｍ離れた位置に形成される。また、例えば、本実施例において、第２隠しマークＭ２は、累進レンズＬＥの幾何学中心位置Ｏから左方向に１７ｍｍ離れた位置に形成される。すなわち、本実施例において、第１隠しマークＭ１及び第２隠しマークＭ２は、累進レンズＬＥの幾何学中心位置Ｏを中心として左右対称に形成されている。

上記のように、累進レンズＬＥは、幾何学中心位置Ｏから上方向及び左右方向にそれぞれ所定の距離だけ離れた位置に、遠用アイポイント１０１及び隠しマークＭが位置する。従って、累進レンズＬＥに施された隠しマークＭの位置を基準とすれば、幾何学中心位置Ｏや遠用アイポイント１０１等の位置を特定することができる。

図３はレンズメータ１の光学系を示す図である。例えば、本実施例における光学系は、測定光学系１０と、第１撮像光学系２０と、第２撮像光学系３０と、を備える。例えば、本実施例におけるレンズメータ１は、第１撮像光学系２０と、第２撮像光学系３０と、の２つの撮像光学系を備えることによって、レンズ上の異なる領域をそれぞれ撮像することができる。

例えば、測定光学系１０は、レンズＬＥの光学特性を測定するための光学系である。例えば、第１撮像光学系２０は、第１隠しマークＭ１及び第２隠しマークＭ２が施された累進レンズＬＥにおいて、一方の隠しマーク（例えば、第１隠しマークＭ１）を撮像するための光学系である。例えば、第２撮像光学系３０は、第１隠しマークＭ１及び第２隠しマークＭ２が施された累進レンズＬＥにおいて、他方の隠しマーク（例えば、第２隠しマークＭ２）を撮像するための光学系である。なお、第１撮像光学系２０及び第２撮像光学系３０は、第１隠しマークＭ１と第２隠しマークＭ２のどちらを撮像する構成であってもよい。

例えば、測定光学系１０は、光源１１、コリメーティングレンズ１２、ハーフミラー１３、ハーフミラー１４、指標板１５、撮像素子１６、絞り１８等を備える。例えば、測定光学系１０における光軸Ｌ１は、ノーズピースの開口４ａの平面に対して垂直な関係となる。例えば、光軸Ｌ１は、ノーズピースの開口４ａの中心を通過する。例えば、ノーズピースの開口４ａは、直径８ｍｍの円形である。例えば、光源１１は、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）で構成される。例えば、光源１１は、光軸Ｌ１上に配置される。例えば、指標板１５は、後述する測定指標４０（図６参照）を有する。例えば、指標板１５は、レンズメータ本体１の保持部材１７によって保持される。例えば、撮像素子１６は、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）を用いて構成される。

例えば、測定光学系１０において、光軸Ｌ１上に配置された光源１１から照射された光束は、絞り１８とコリメーティングレンズ１２を介して平行光束となり、ハーフミラー１３及びハーフミラー１４を通過してレンズＬＥへと投光される。さらに、レンズＬＥを透過した光束は、ノーズピースの開口４ａと、指標板１５が有する測定指標４０（図６参照）と、を通過する。例えば、撮像素子１６は、測定光束が測定指標４０を通過することによって形成された指標パターン像を撮像する。

例えば、測定光学系１０においては、光源１１から照射された光束が、ハーフミラー１３によって、ハーフミラー１４に向かう光束と、ハーフミラー２３に向かう光束と、に分岐される。ハーフミラー２３に向かった光束は、ハーフミラー２３によって反射されて、後述する第１撮像光学系２０の光軸Ｌ２に一致する。また、光源１１から照射された光束は、ハーフミラー１４によって、ノーズピースの開口４ａに向かう光束と、後述するハーフミラー３４に向かう光束と、に分岐される。ハーフミラー３４に向かった光束は、ハーフミラー３４に反射されて、後述する第２撮像光学系３０の光軸Ｌ３に一致する。

例えば、第１撮像光学系２０は、第１反射部材２７、ハーフミラー２４、ハーフミラー２３、コンデンサレンズ２２、絞り２５、撮像素子２６、等を備える。例えば、第１撮像光学系２０における光軸Ｌ２は、累進レンズＬＥに施された一方の隠しマーク（例えば、第１隠しマークＭ１）位置に対して垂直な関係となるように配置される。例えば、第１撮像素子２６は、ＣＣＤを用いて構成される。例えば、第１反射部材２７は、ノーズピース４に載置したレンズＬＥの表面側から入射した光束を反射する。

例えば、第１撮像光学系２０において、光源１１から照射された光束は、絞り１８とコリメーティングレンズ１２を介して平行光束となり、ハーフミラー１３及びハーフミラー２３にそれぞれ反射された後、光軸Ｌ２に一致する。この光束は、ハーフミラー２４を介してレンズＬＥに投光されると、第１反射部材２７によって反射され、レンズＬＥ、ハーフミラー２４、ハーフミラー２３を通過し、コンデンサレンズ２２と絞り２５を介して、第１撮像素子２６に撮像される。すなわち、例えば、第１撮像光学系２０は、光源１１から照射され、ハーフミラー１３、ハーフミラー２３、ハーフミラー２４を経由して、レンズＬＥに照射された光束を、第１反射部材２７、ハーフミラー２４、ハーフミラー２３、コンデンサレンズ２２、絞り２５を介して撮像素子２６で撮像する。例えば、第１撮像素子２６は、累進レンズＬＥに施された第１隠しマークＭ１を撮像する。

なお、本実施例では、第１撮像光学系２０にハーフミラー２４を設置している。例えば、ハーフミラー２４は、光源１１から照射され、ハーフミラー１３及びハーフミラー２３によって反射されて光軸Ｌ２に一致した光束を第１反射部材２７に向かう光束と、光軸Ｌ２の光路外に向かう光束とに分岐する。例えば、光路外に向かった光束は、図示無き光吸収部材（例えば、光束を吸収する黒色の部材等）によって吸収される。これによって、第１撮像光学系２０の第１撮像素子２６が撮像する光束の量と、後述する第２撮像光学系３０の第２撮像素子３６が撮像する光束の量と、を等量に合わせることができる。

なお、本実施例においては、ハーフミラー２４を設定することで、第１撮像素子２６が撮像する光束の量と第２撮像素子３６が撮像する光束の量とを一致させる構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。例えば、第１撮像素子２６及び第２撮像素子３６の撮像結果をディスプレイ２の画面上に表示させる際に、第１撮像素子２６及び第２撮像素子３６の撮像結果が同一の明るさで観察できるように、輝度値の調整を行う構成であってもよい。

例えば、第２撮像光学系３０は、第２反射部材３７、ハーフミラー３４、コンデンサレンズ３２、絞り３５、第２撮像素子３６等を備える。例えば、第２撮像光学系３０における光軸Ｌ３は、累進レンズに施された他方の隠しマーク（例えば、第２隠しマークＭ２）位置に対して垂直な関係となるように配置される。例えば、第２撮像素子３６は、ＣＣＤを用いて構成される。例えば、第２反射部材３７は、ノーズピース４に載置したレンズＬＥの表面側から入射した光束を反射する。

例えば、第２撮像光学系３０において、光軸Ｌ１上に配置された光源１１から照射された光束は、絞り１８とコリメーティングレンズ１２を介して平行光束となり、ハーフミラー１３を通過して、ハーフミラー１４及びハーフミラー３４にそれぞれ反射された後、光軸Ｌ３に一致する。この光束がレンズＬＥに投光されると、第２反射部材３７によって反射され、レンズＬＥとハーフミラー３４を通過し、コンデンサレンズ３２と絞り３５を介して、第２撮像素子３６に撮像される。すなわち、例えば、第２撮像光学系３０は、光源１１から照射され、ハーフミラー１３、ハーフミラー１４、ハーフミラー３４を経由して、レンズＬＥに照射された光束を、第２反射部材３７、ハーフミラー３４、コンデンサレンズ３２、絞り３５を介して撮像素子３６で撮像する。例えば、第２撮像素子３６は、累進レンズＬＥに施された第２隠しマークＭ２を撮像する。

例えば、第２撮像光学系３０においては、光源１１から照射され、ハーフミラー１３を通過した光束が、ハーフミラー１４によって、ハーフミラー３４に向かう光束と、ノーズピースの開口４ａに向かう光束と、に分岐される。ハーフミラー３４に向かった光束は、ハーフミラー３４に反射されて、光軸Ｌ３に一致する。

なお、本実施例では、レンズＬＥの光学特性を測定するためにレンズＬＥに光束を照射するための測定光学系１０の光源１１と、隠しマークＭを撮影するためにレンズＬＥに光束を照射する光源と、が兼用される構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。例えば、これらの光源は、別途それぞれ設けられる構成としてもよい。この場合、例えば、レンズＬＥの光学特性を測定するため測定光学系１０と、第１隠しマークＭ１を撮像するための投光光学系と、第２隠しマークＭ２を撮像するための投光光学系と、がそれぞれ設けられる構成としてもよい。また、例えば、上記各光学系の内、二つの光学系が兼用される構成としてもよい。

なお、本実施例では、測定光学系１０と、第１撮像光学系２０と、第２撮像光学系３０と、におけるレンズやミラー等をそれぞれ別に設けているがこれに限定されない。これらのレンズやミラー等は、それぞれの測定光学系及び撮像光学系において、少なくとも一部の部材を兼用する構成としてもよい。

なお、本実施例では、第１撮像光学系２０における第１反射部材２７と、第２撮像光学系３０における第２反射部材３７と、をそれぞれ別に設ける構成としたがこれに限定されない。第１反射部材２７と第２反射部材３７が兼用される構成であってもよい。例えば、第１反射部材２７と第２反射部材３７は、光軸Ｌ２における光束と、光軸Ｌ３における光束と、を反射できる構成であればよい。この場合には、例えば、反射部材を、ノーズピース４を中心として周囲を覆うような円盤形状とすれば、第１撮像光学系２０における第１反射部材と、第２撮像光学系３０における第２反射部材と、を１つの反射部材で兼用することができる。また、例えば、反射部材を四角形状としても、第１反射部材と第２反射部材と、を１つの反射部材で兼用することができる。なお、反射部材の形状については本実施例に限定されない。本実施例における反射部材には、種々の形状を適用することができる。

例えば、本実施例における第１反射部材２７及び第２反射部材３７には、光束の入射方向と反射方向が略平行となる再帰性反射部材を用いることが好ましい（再帰性反射部材についての詳細は後述する）。なお、本実施例では、反射部材として再帰性反射部材を用いる構成を例に挙げて説明をするがこれに限定されない。本実施例における反射部材は、入射光を反射させることが可能な部材であればよい。すなわち、例えば、反射部材としては、入射光の散乱作用を高めるスクリーン等を用いることもできる。なお、本実施例では、撮像素子によってレンズＬＥの表面側を撮像する構成としているが、撮像素子によってレンズＬＥの裏面側を撮像する構成とするのであれば、反射部材を用いなくてもよい。
以下、上記の光学系によって測定が行われる測定領域及び上記光学系によって撮像される撮像領域について説明する。図４は、測定光学系１０と、第１撮像光学系２０と、第２撮像光学系３０と、の位置関係を示す図である。例えば、本実施例では、測定領域Ａ１と、第１撮像領域Ａ２と、第２撮像領域Ａ３と、を備える。

例えば、測定領域Ａ１は、測定光学系１０によって測定可能な領域を示している。すなわち、測定領域Ａ１は、測定光学系１０の測定範囲を示している。例えば、測定領域Ａ１は、測定光学系１０の光軸Ｌ１を中心として所定の範囲に形成される。
例えば、第１撮像領域Ａ２は、第１撮像光学系２０によって撮像可能な領域を示している。すなわち、第１撮像領域Ａ２は、第１撮像光学系２０の撮像範囲を示している。例えば、第１撮像領域Ａ２は、第１撮像光学系２０の光軸Ｌ２を中心として所定の範囲に形成される。

例えば、第２撮像領域Ａ３は、第２撮像光学系３０によって撮像可能な領域を示している。すなわち、第２撮像領域Ａ３は、第２撮像光学系３０の撮像範囲を示している。例えば、第２撮像領域Ａ３は、第２撮像光学系３０の光軸Ｌ３を中心として所定の範囲に形成される。

例えば、測定領域Ａ１は、第１撮像領域Ａ２と、第２撮像領域Ａ３と、の間にある領域（中心領域Ｂ）内に位置する。例えば、本実施例において、測定領域Ａ１は、中心領域Ｂ内に位置されるとともに、第１撮像領域Ａ２及び第２撮像領域Ａ３と領域が重ならない位置（言い換えると、第１撮像光学系２０及び第２撮像光学系３０がノーズピース４の外部）に配置される。もちろん、測定領域Ａ１は、中心領域Ｂ内に位置されるとともに、第１撮像領域Ａ２及び第２撮像領域Ａ３と少なくとも一部の領域が重なって配置されるようにしてもよい。

なお、本実施例では、第１撮像領域Ａ２の第１撮像中心位置Ｃ２から第２撮像領域Ａ３の第２撮像中心位置心Ｃ３までの領域を中心領域Ｂとする。もちろん、中心領域Ｂはこれに限定されない。例えば、中心領域Ｂは、第１撮像領域Ａ２の右端から第２撮像領域Ａ３の左端までの領域としてもよい。また、例えば、中心領域Ｂは、第１撮像領域Ａ２の左端から第２撮像領域Ａ３の右端までの領域としてもよい。

例えば、本実施例において、測定領域Ａ１は、ノーズピースの開口４ａと略同一径（直径８ｍｍの円形）である。例えば、本実施例において、第１撮像領域Ａ２は、所定の径（例えば、直径２ｃｍの円形）をもつ領域である。また、例えば、本実施例において、第２撮像光学系３０によって撮像される第２撮像領域Ａ３は、所定の径（例えば、直径２ｃｍの円形）をもつ領域である。

なお、本実施例においては、第１撮像領域Ａ２と、第２撮像領域Ａ３とを、それぞれ直径２ｃｍの円形領域としたがこれに限定されない。例えば、第１撮像領域Ａ２と第２撮像領域Ａ３の大きさは、いずれも累進レンズに施された隠しマークＭを撮像することが可能な大きさであればよい。つまり、第１撮像領域Ａ２と第２撮像領域Ａ３の大きさとしては、累進レンズに施された隠しマークＭよりも広ければよい。

本実施例において、例えば、第１撮像領域Ａ２の第１撮像中心位置（以下、中心と記載）Ｃ２と、第２撮像領域Ａ３における第２撮像中心位置（以下、中心と記載）Ｃ３と、が測定領域Ａ１における測定中心位置（以下、中心と記載）Ｃ１を中心として対称となる位置に配置されている。本実施例において、例えば、測定領域Ａ１の中心Ｃ１は、ノーズピースの開口４ａの中心位置に一致する。すなわち、測定領域Ａ１の中心Ｃ１は、測定光学系１０の光軸Ｌ１と一致する。本実施例において、例えば、第１撮像領域Ａ２の中心Ｃ２は、第１撮像光学系２０の光軸Ｌ２と一致する。本実施例において、例えば、第２撮像領域Ａ３の中心Ｃ３は、第２撮像光学系３０の光軸Ｌ３と一致する。

なお、例えば、本実施例においては、測定光学系１０の測定領域Ａ１と、第１撮像光学系２０の第１撮像領域Ａ２と、第２撮像光学系３０の第２撮像領域Ａ３と、を三角形状に配置している。すなわち、第１撮像光学系２０の光軸Ｌ２と第２撮像光学系３０の光軸Ｌ３を結んだ直線上に、測定光学系１０の光軸Ｌ１が位置しない配置となっている。

本実施例においては、累進レンズをノーズピース４に配置して位置合わせが行われた場合に、累進レンズの遠用度数測定ポイント１００が測定領域Ａ１内に、隠しマークＭが第１撮像領域Ａ２内に、第２撮像領域Ａ３内に、それぞれ配置されるように各光学系の配置が設定されている。すなわち、累進レンズにおける遠用度数測定ポイント１００と隠しマークＭの位置との配置関係と、測定領域Ａ１、第１撮像領域Ａ２、第２撮像領域Ａ３の配置関係と、が類似するように各光学系が配置されている。

例えば、第１撮像光学系２０と第２撮像光学系３０は、累進レンズＬＥの幾何学中心Ｏに対して水平方向（左右方向）に配置される。すなわち、第１撮像光学系２０と第２撮像光学系３０は、幾何学中心Ｏを中心として左右に形成される隠しマークＭの位置に配置される。また、例えば、測定光学系１０は、累進レンズＬＥの幾何学中心Ｏに対して垂直方向（上下方向）に配置される。すなわち、測定光学系１０は、幾何学中心Ｏを中心として上下方向の少なくともいずれかの方向に形成される遠用度数測定ポイント１００の位置に配置される。なお、測定光学系１０は、累進レンズＬＥの幾何学中心Ｏに対して、上方向と下方向のどちらに配置されていてもよい。

以下、各光学系の配置についてより詳細に説明する。例えば、本実施例において、測定領域Ａ１の中心Ｃ１が第１撮像領域Ａ２の中心Ｃ２と、第２撮像領域Ａ３の中心Ｃ３と、を結んだ線分の中央（すなわち、累進レンズＬＥの幾何学中心位置Ｏ）を通る垂線上において、垂直方向（例えば、本実施例においては上方向）に所定の距離だけ離れた位置に配置されるように、測定光学系１０が配置される。

例えば、所定の距離は、累進レンズＬＥの幾何学中心位置Ｏから、遠用度数測定ポイント１００の中心位置Ｃまでの垂直方向における距離（例えば、８ｍｍ）である。言い換えると、測定領域Ａ１の中心Ｃ１から、累進レンズＬＥにおける幾何学中心位置Ｏまでの垂直方向における距離は、累進レンズＬＥにおける遠用度数測定ポイント１００の中心Ｃから、幾何学中心位置Ｏまでの垂直方向における距離と略同一に設定されている。

例えば、本実施例において、第１撮像領域Ａ２の中心Ｃ２は、累進レンズＬＥの幾何学中心位置Ｏから右方向に所定の距離だけ離れて位置するように、第１撮像光学系２０が配置されている。例えば、所定の距離は、累進レンズＬＥの幾何学中心位置Ｏから、第１隠しマークＭ１までの距離（すなわち、１７ｍｍ）である。累進レンズＬＥにおける幾何学中心位置Ｏの上方向には、遠用度数測定ポイント１００が位置している。従って、第１撮像領域Ａ２の中心Ｃ２から測定領域Ａ１の中心Ｃ１までの水平方向における距離は、累進レンズＬＥにおける第１隠しマークＭ１から遠用度数測定ポイント１００の中心までの水平方向における距離と略同一となる。

例えば、本実施例において、第２撮像領域Ａ３の中心Ｃ３は、累進レンズＬＥの幾何学中心位置Ｏから左方向に所定の距離だけ離れて位置するように、第２撮像光学系３０が配置されている。例えば、所定の距離は、累進レンズＬＥの幾何学中心位置Ｏから、第２隠しマークＭ２までの距離（すなわち、１７ｍｍ）である。従って、第２撮像領域Ａ３の中心Ｃ３から測定領域Ａ１の中心Ｃ１までの水平方向における距離は、累進レンズＬＥにおける第２隠しマークＭ２から遠用度数測定ポイント１００の中心までの水平方向における距離と略同一となる。

上記のような構成によって、累進レンズＬＥに施された隠しマークＭの撮像と、累進レンズＬＥの遠用度数測定ポイント１００における光学特性の測定と、を同時に行うことができる。より詳細には、例えば、検者は累進レンズＬＥをノーズピース４に配置する。例えば、検者はノーズピース４に載置した累進レンズＬＥを移動させて、第１隠しマークＭ１が第１撮像光学系２０の光軸Ｌ２上に一致するように、かつ、第２隠しマークＭ２が第２撮像光学系３０の光軸Ｌ３上に一致するように位置合わせをする。例えば、第１隠しマークＭ１と第２隠しマークＭ２が第１撮像光学系２０の光軸Ｌ２と第２撮像光学系３０の光軸Ｌ３と一致されることで、累進レンズＬＥの遠用度数測定ポイント１００が測定光学系１０の光軸Ｌ１上に一致する。このため、検者は、隠しマークＭの位置合わせを行うだけで、累進レンズＬＥにおける遠用度数の測定を容易に行うことができる。また、例えば、本実施例においては、累進レンズＬＥの隠しマークＭを位置合わせすれば、遠用度数測定ポイント１００が常に測定光学系１０の光軸Ｌ１上に一致するため、同一レンズについて遠用度数を何度測定しても、測定結果を再現よく取得することができる。

なお、本実施例では、累進レンズＬＥに施された隠しマークＭの位置に、第１撮像領域の中心Ｃ２及び第２撮像領域の中心Ｃ３が配置される構成としたがこれに限定されない。例えば、累進レンズＬＥに施された隠しマークＭの位置には、必ずしも撮像領域の中心が配置されなくてもよい。すなわち、累進レンズＬＥに施された隠しマーク位置は、第１撮像領域Ａ２内及び第２撮像領域Ａ３内に配置される構成であってもよい。

なお、例えば、本実施例においては、測定光学系１０と、第１撮像光学系２０と、第２撮像光学系３０と、を三角形状に配置する構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。例えば、これらの測定光学系と撮像光学系は、それぞれが水平方向に並び、直線状に配置される構成であってもよい。このような場合には、累進レンズＬＥに施された隠しマークＭを撮像した後に、累進レンズＬＥあるいは測定光学系１０を垂直方向に所定の距離だけ移動させ、累進レンズＬＥの遠用度数測定ポイント１００における光学特性を測定してもよい。

以下、これらの測定光学系と撮像光学系は、それぞれが水平方向に並び、直線状に配置される構成についてより詳細に説明する。例えば、図５は各光学系を直線状に配置した構成の一例を示す図である。例えば、測定光学系１０の光軸Ｌ１と、第１撮像光学系２０の光軸Ｌ２と、第２撮像光学系３０の光軸Ｌ３と、が水平方向に直線状に配置される構成としてもよい。この場合に、例えば、測定光学系１０における測定領域Ａ１の中心Ｃ１（測定光学系１０の光軸Ｌ１）が、累進レンズＬＥの幾何学中心位置Ｏと一致するように配置する構成としてもよい。

なお、上記のような構成の場合、例えば、第１撮像領域Ａ２内及び第２撮像領域Ａ３内に、累進レンズＬＥに施された隠しマークＭを位置合わせしても、累進レンズＬＥの遠用度数測定ポイント１００は、幾何学中心位置Ｏの垂直方向にずれた位置に位置することになるため、測定領域Ａ１内に累進レンズＬＥの遠用度数測定ポイント１００が配置されない。

そこで、例えば、レンズメータ１に、測定光学系１０あるいは累進レンズＬＥを垂直方向に移動させるための移動機構を備える構成とすることで、測定領域Ａ１内に累進レンズＬＥの遠用度数測定ポイント１００が配置されるようにしてもよい。なお、この場合、例えば、累進レンズＬＥあるいは測定光学系１０の移動は、自動で行われる構成としてもよいし、検者が手動で行う構成としてもよい。

例えば、上記のような移動を自動で行う場合には、累進レンズＬＥの隠しマークＭが、第１撮像領域Ａ２内と第２撮像領域Ａ３内に一致したことを検知する検知手段を設けてもよい。このような構成を備えていれば、後述する制御部７０は、累進レンズに施された隠しマークＭの位置合わせが完了したか否かを判断することができる。

例えば、累進レンズＬＥあるいは測定光学系１０の移動を自動で行う場合、制御部７０は、隠しマークＭの位置合わせの完了に基づいて、自動的に測定光学系１０あるいは累進レンズＬＥを垂直方向に移動させる。これによって、測定領域Ａ１内に累進レンズＬＥの遠用度数測定ポイント１００が配置される。

より詳細には、例えば、検者が隠しマークＭを位置合わせすると、検知手段によって、第１撮像領域Ａ２と第２撮像領域Ａ３のそれぞれに、第１隠しマークＭ１と第２隠しマークＭ２が一致したことが検知される。例えば、後述する制御部７０は、移動機構を駆動して、測定光学系１０を図５の上方向（検者からみた手前方向）に所定の距離（例えば、８ｍｍ）だけ移動させる。これによって、累進レンズＬＥの遠用度数測定ポイント１００が、測定光学系１０の測定領域Ａ１内に入って位置合わせされ、遠用度数を測定することができる。なお、本実施例では、測定光学系のみが移動する構成を例に挙げて説明したが、測定光学系と撮像光学系が一体的に移動する構成であってもよい。

また、累進レンズＬＥあるいは測定光学系１０の移動を手動で行う場合、例えば、検者が隠しマークＭを位置合わせすると、検知手段によって、第１撮像領域Ａ２と第２撮像領域Ａ３のそれぞれに、第１隠しマークＭ１と第２隠しマークＭ２が一致したことが検知される。例えば、検者は、第１隠しマークＭ１と第２隠しマークＭ２が一致したことを確認し、図示無き移動スイッチを選択することによって、後述する制御部７０は、移動機構を駆動して、累進レンズＬＥを図５の下方向（検者からみた奥方向）に所定の距離（例えば、８ｍｍ）だけ移動させる。これによって、累進レンズＬＥの遠用度数測定ポイント１００が、測定光学系１０の測定領域Ａ１内に入って位置合わせされ、遠用度数を測定することができる。

なお、例えば、上記のような移動を手動で行う場合には、ディスプレイ２の画面上に、レンズＬＥの移動方向を示すガイド表示がなされてもよい。例えば、ガイド表示は、累進レンズＬＥに施された隠しマークＭの位置合わせが完了すると、後述する制御部７０によって、ディスプレイ２の画面上に表示される。検者は、ガイド表示に従って累進レンズＬＥを移動させ、累進レンズＬＥの遠用度数測定ポイント１００を、測定光学系１０の測定領域Ａ１内に一致させる。これによって、累進レンズＬＥの遠用度数を測定することができる。

なお、本実施例では、測定光学系と撮像光学系を直線状に配置した際に、測定光学系１０あるいは累進レンズＬＥを移動させる構成としたがこれに限定されない。本実施例では、測定光学系１０によって、累進レンズＬＥにおける遠用度数測定ポイント１００の光学特性を測定できればよい。すなわち、例えば、累進レンズＬＥの遠用度数測定ポイント１００が、測定光学系１０における測定領域Ａ１内に入るのであれば、測定光学系１０あるいは累進レンズＬＥを移動させない構成であってもよい。この場合、例えば、測定光学系１０の測定領域Ａ１を広く設定した構成を用いてもよい。

図６は指標板を示す図である。例えば、指標板１５には多数の測定指標４０が形成されている。例えば、測定指標は、中心孔４１と、小孔４２と、からなる。例えば、中心孔４１は指標板１５の中央に位置する。例えば、中心孔４１は直径０．４ｍｍの円形状である。例えば、小孔４２は等間隔（例えば、０．５ｍｍ間隔）かつ格子状に配置される。例えば、小孔４２は直径０．２ｍｍの円形状である。例えば、指標板１５には、光源１１から照射された光束が投光される。このため、測定指標を通過した光束によって、後述する指標パターン像５０が形成される。例えば、測定光学系１０の撮像素子１６は、この指標パターン像を撮像する。撮像素子１６によって撮像される指標パターン像は、測定指標４０がグリッド状に配置されているために、グリッド状のパターン形状を示す。なお、本実施例においては、測定指標４０をグリッド状に配置する構成を例に挙げて説明するがこれに限定されない。例えば、測定指標４０は、非等間隔に配置してもよい。また、例えば、測定指標４０は、放射状に配置してもよいし、同心円状に配置してもよい。この場合には、撮像素子１６によって、放射状または同心円状の指標パターン像５０が撮像される。

図７は指標パターン像５０を示す図である。図７（ａ）は０Ｄ基準状態の指標パターン像５０を示す図である。図７（ｂ）はレンズをノーズピース４上に載置した状態における指標パターン像５０の一例を示す図である。例えば、レンズＬＥをノーズピース４上に載置していない「０Ｄ基準」状態の指標パターン像５０は、レンズＬＥにおける光学特性の演算に使用される。例えば、「０Ｄ基準」状態の指標パターン像５０は、後述する制御部７０の不揮発性メモリ７１に記憶されている。

例えば、指標パターン像５０は、中心孔の像５１と、小孔の像５２と、で形成される。例えば、中心孔の像５１は、中心孔の像５１と、小孔の像５２と、の位置関係を把握するための基準指標である。つまり、中心孔の像５１を用いることによって、０Ｄ基準状態の指標パターン像５０に形成されたある小孔の像５２ａが、ノーズピース４にレンズＬＥを載置したことによって変化した指標パターン像５０に形成された小孔の像のいずれに該当するのかを特定することができる。なお、本実施例では、指標板１５の中央に１つの基準指標（中心孔）を配置する構成としたがこれに限定されない。本実施例における基準指標は、他の測定指標（小孔）との区別が可能なものであればよい。すなわち、基準指標の個数、形状、位置等は、本実施例とは異なっていてもよい。

例えば、レンズＬＥをノーズピース４上に載置すると、光源１１から照射された光束が、レンズＬＥによって屈折される。このため、撮像素子１６が撮像する指標パターン像５０は、レンズの屈折に応じて変化する。例えば、球面度数のみを有するレンズＬＥを載置した場合における指標パターン像５０は、０Ｄ基準状態の指標パターン像に対して、円形状かつ等距離に拡大あるいは縮小する。例えば、レンズＬＥの球面度数は、このような指標パターン像５０の拡大量あるいは縮小量に基づいて求められる。例えば、後述する制御部７０は、０Ｄ基準状態を示す指標パターン像５０に対して、レンズＬＥを載置した状態における指標パターン像５０の変化量を求めることによって、レンズＬＥの光学特性を演算する。なお、指標パターン像を用いてレンズＬＥの光学特性を測定する方法については、周知の技術（特開２００８−２４１６９４号公報）を参照することができる。

また、例えば、後述する制御部７０は、撮像素子１６が撮像した指標パターン像５０を解析することによって、レンズＬＥの複数の位置における屈折度数を１度に測定している。このため、制御部７０は、レンズＬＥにおいて測定したそれぞれの位置について、１度に光学特性を演算している。例えば、レンズＬＥの光学特性は、指標パターン像５０を形成する小孔の像５２のうち、隣接する４個（少なくとも３個）の小孔像を１組として算出することができる。あるいは、３×３個、４×４個、または５×５個等の小孔像を１組として算出することもできる。なお、指標パターン像を用いてレンズＬＥの光学特性を測定する方法についても、周知の技術（特開２００８−２４１６９４号公報参照）を参照することができる。

なお、本実施例では、中心孔４１及び小孔４２によって測定指標４０を形成する構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。例えば、測定指標は、光源から照射された光束を透過させる透光部と、光源から照射された光束を遮光する遮光部と、によって形成することもできる。この場合には、例えば、透光部がグリッド状のパターンとなるように、指標板に対して透光部と遮光部を配置する。なお、例えば、透光部と遮光部は、指標板にコーティング等を施すことによって形成することが可能である。

図８は再帰性反射部材の構成を示す一例の図である。例えば、再帰性反射部材６０は、厚さ１００μｍほどの板である。例えば、再帰性反射部材６０は、微細なガラス小球６１、反射膜６２、光透過カバー６３、基板６４等を備える。例えば、再帰性反射部材６０へ入射した入射光Ｔ１は、光透過カバー６３を通過し、ガラス小球６１によって屈折され、ガラス小球６１の球面付近の１点で焦点を結ぶ。この入射光Ｔ１は、反射膜６２によって反射されて、反射光Ｔ２となる。反射光Ｔ２は、ガラス小球６１によって再度屈折され、入射光Ｔ１と略平行となって元の方向に反射される。なお、再帰性反射部材６０の構成については本実施例に限定されない。本実施例における再帰性反射部材は、光束を入射方向と略同一方向に反射することが可能であればよい。すなわち、再帰性反射部材の構成としては、ガラス小球に限らず、マイクロコーナーキューブやマイクロプリズム等が用いられたものを使用することができる。

例えば、本実施例における再帰性反射部材６０は、図示なきモータ等によって高速で移動する。これによって、再帰性反射部材におけるガラス小球や反射膜の分布がばらついているために生じる反射ムラを均一にすることができる。なお、再帰性反射部材６０の移動は、種々の移動の仕方で移動する構成を適用することができる。例えば、再帰性反射部材６０の移動は、回転移動であってもよいし、直線移動であってもよいし、楕円状に移動する構成であってもよい。また、本実施例においては、再帰性反射部材６０を移動させる構成を例に挙げて説明したが、再帰性反射部材６０は移動させない構成としてもよい。

図９はレンズメータ１における制御系の概略構成図である。例えば、制御部７０は、レンズメータ１の装置全体を統括及び制御する。例えば、制御部７０には、ディスプレイ２、ＲＥＡＤスイッチ８、不揮発性メモリ７１等が接続される。また、例えば、制御部７０には、測定光学系１０における光源１１と撮像素子１６、第１撮像光学系２０における第１撮像素子２６、第２撮像光学系３０における第２撮像素子３６等が接続される。

例えば、制御部７０は、ＣＰＵ（プロセッサ）、ＲＡＭ、ＲＯＭ等を備える。例えば、制御部のＣＰＵは、各種の演算処理（例えば、レンズの光学特性等の演算処理等）を行う。例えば、制御部７０のＲＡＭは、各種の情報を一時的に記憶する。例えば、制御部７０のＲＯＭには、ＣＰＵが実行するプログラムや初期値等が記憶されている。なお、制御部７０は、複数の制御部（つまり、複数のプロセッサ）によって構成されていてもよい。

例えば、本実施例における制御部７０は、撮像素子１６が撮像したレンズＬＥの指標パターン像５０を画像処理することによって、各小孔の像５２の位置を検出し、レンズの光学特性を演算する。また、例えば、本実施例における制御部７０は、第１撮像素子２６及び第２撮像素子３６が撮像したレンズ像を画像処理することによって、レンズに施された隠しマークＭ（すなわち、第１隠しマークＭ１及び第２隠しマークＭ２）等を検出する。
例えば、不揮発性メモリ７１は、電源の供給が遮断されても記憶内容を保持できる非一過性の記憶媒体である。例えば、不揮発性メモリ７１としては、ハードディスクドライブ、フラッシュＲＯＭ、ＵＳＢメモリ等を使用することができる。例えば、不揮発性メモリ７１には、レンズの０Ｄ基準状態における指標パターン像５０や、光学特性の測定結果等が記憶される。

図１０は印点機構９が待機位置にある状態を説明するための図である。図１０（ａ）は、印点部材が待機位置にある状態を右側面から示した図である。図１０（ｂ）は、印点部材が待機位置にある状態を正面から示した図である。例えば、印点機構９は、アーム８０、印点支基８１、レバー８２、中継部材８３、基台８４、印点部材８５等を備える。例えば、アーム８０は、図示なきスライド機構によって、レンズメータ１の上下方向（Ｙ方向）に移動する。例えば、アーム８０の一端は印点支基８１に取り付けられている。例えば、印点支基８１は、その内部に図示なきバネを備える。例えば、印点支基８１は、図示なきバネの力によって常に一回転方向に付勢される。このため、印点機構９は常に待機位置にある状態となっている。例えば、印点支基８１にはレバー８２が固定される。また、例えば、印点支基８１には中継部材８３が固定される。例えば、中継部材８３には基台８４が固定される。例えば、中継部材８３は、印点支基８１の軸を中心として一体的に回転する。例えば、基台８４には、印点部材８５が取り付けられている。

例えば、印点部材８５は、先端にインクペンまたはインクペン先をもつ。また、例えば、印点部材８５は、その内部にインクボトルをもつ。例えば、印点部材８５は、第１印点部材８５ａと、第２印点部材８５ｂと、第３印点部材８５ｃと、を備える。例えば、第１印点部材８５ａと第２印点部材８５ｂは、第３印点部材８５ｃを中心として水平方向において直線状に配置される。また、例えば、第３印点部材８５ｃは、第１印点部材８５ａと第２印点部材８５ｂを結ぶ直線の中心から所定の距離（例えば、８ｍｍ）だけ垂直かつ下方向（図１０（ａ）の待機位置における下方向）に配置される。

図１１は印点機構９が印点位置にある状態を説明するための図である。図１１（ａ）は、印点部材が印点位置にある状態を右側面から示した図である。図１１（ｂ）は、印点部材が印点位置にある状態を正面から示した図である。例えば、印点部材が印点位置にある状態では、第１印点部材８５ａの第１印点軸Ｓ１が、第１撮像光学系２０における第１撮像領域Ａ２の中心Ｃ２と交わるように、第１印点部材８５ａが配置される。第１撮像領域Ａ２の中心Ｃ２には光軸Ｌ２が通っているため（図４参照）、第１印点軸Ｓ１は、光軸Ｌ２と一致する。これによって、累進レンズＬＥ上における第１隠しマークＭ１または第２隠しマークＭ２の一方（例えば、第１隠しマークＭ１）の位置に印点を施すことができる。

また、例えば、印点部材が印点位置にある状態では、第２印点部材８５ｂの第２印点軸Ｓ２が、第２撮像光学系３０における第２撮像領域Ａ３の中心Ｃ３と交わるように、第２印点部材８５ｂが配置される。第２撮像領域Ａ３の中心Ｃ３には光軸Ｌ３が通っているため（図４参照）、第２印点軸Ｓ２は、光軸Ｌ３と一致する。これによって、累進レンズＬＥ上における第１隠しマークＭ１または第２隠しマークＭ２の他方（例えば、第２隠しマークＭ２）の位置に印点を施すことができる。

また、例えば、印点部材が印点位置にある状態では、第３印点部材８５ｃの第３印点軸Ｓ３が、測定光学系１０における測定領域Ａ１の中心Ｃ１と交わるように、第３印点部材８５ｃが配置される。測定領域Ａ１の中心Ｃ１には光軸Ｌ１が通っているため（図４参照）、第３印点軸Ｓ３は、光軸Ｌ１と一致する。これによって、累進レンズＬＥ上における遠用度数測定ポイント１００の位置に印点を施すことができる。

例えば、本実施例においては、検者がレバー８２を後方に倒すことによって、印点支基８１、中継部材８３、基台８４、印点部材８５等が一体的に回転し、印点機構９は図１０に示す待機位置から図１１に示す印点位置になる。印点位置では、第１印点部材８５ａのペン先が下方を向き、光軸Ｌ２上に配置される。また、第２印点部材８５ｂのペン先が下方を向き、光軸Ｌ３上に配置される。また、第３印点部材８５ｃのペン先が下方を向き、光軸Ｌ１上に配置される。さらに、この状態から、検者がレバー８２を下方に押し下げることによって、アーム８０、印点支基８１、中継部材８３、基台８４、印点部材８５等が一体的に下方へ移動し、印点部材のペン先がレンズＬＥに当接して、印点が施される。例えば、第１印点部材８５ａは、累進レンズＬＥ上に第１の印点を施す。例えば、第２印点部材８５ｂは、累進レンズＬＥ上に第２の印点を施す。例えば、第３印点部材は、累進レンズＬＥ上に第３の印点を施す。

なお、本実施例においては、印点部材８５は、各印点部材（第１印点部材８５ａ、第２印点部材８５ｂ、第３印点部材８５ｃ）の配置関係が固定されている構成を用いているがこれに限定されない。例えば、本実施例における印点機構９は、印点部材８５を前後方向（Ｚ方向）にスライドさせるための移動機構を備えていてもよい。

例えば、本実施例では、第１印点部材８５ａと第２印点部材８５ｂをスライド移動させることによって、第１印点部材８５ａと第２印点部材８５ｂを結ぶ直線の中央に第３印点部材８５ｃを配置させることができる。すなわち、第１印点部材８５ａと第２印点部材８５ｂをスライド移動させることによって、第１印点部材８５ａと、第２印点部材８５ｂと、第３印点部材８５ｃと、が水平方向において直線状に配置することができる。

例えば、検者は印点機構９をスライドさせていない状態の場合に、検者がレバー８２を後方に倒し、さらにレバー８２を押し下げることによって、累進レンズＬＥの第１隠しマークＭ１と、第２隠しマークＭ２と、遠用度数測定ポイント１００に印点を施すことができる。また、例えば、検者は印点機構９をスライドさせた状態の場合に、検者がレバー８２を後方に倒し、さらにレバー８２を押し下げることによって、遠用度数測定ポイント１００と、その左右の水平方向に印点を施すことができる。なお、例えば、第１印点部材８５ａと第２印点部材８５ｂをスライド移動させた場合に、単焦点レンズの幾何学中心位置（光学中心位置）に印点を施すこともできる。

なお、本実施例においては、印点部材８５のうち、第１印点部材８５ａと第２印点部材８５ｂが移動する構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。例えば、印点部材８５の移動は、第３印点部材８５ｃが前後方向にスライドする構成であってもよい。また、印点機構９の全体を前後方向にスライドさせることによって、第１印点部材８５ａと、第２印点部材８５ｂと、第３印点部材８５ｃのすべてが前後方向にスライドする構成であってもよい。この場合、例えば、第１印点部材８５ａと、第２印点部材８５ｂと、第３印点部材８５ｃは、直線状に配置されていてもよい。

なお、本実施例では、第１印点部材８５ａと第２印点部材８５ｂのみを直線状に配置する構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。例えば、第１印点部材８５ａと、第２印点部材８５ｂと、第３印点部材８５ｃは、予めすべてが直線状に配置された構成であってもよい。この場合には、例えば、印点機構９の全体が前後方向に移動するスライド構成を設けておけば、累進レンズＬＥが有する隠しマークＭと、遠用度数測定ポイント１００に印点を施すことが可能であり、本実施例と同様の効果を得ることができる。

なお、本実施例では、印点機構９として、第１印点部材８５ａと、第２印点部材８５ｂと、第３印点部材８５ｃの３つの印点部材を設ける構成としたがこれに限定されない。例えば、印点機構９に予め第４印点部材を備えた構成としてもよい。このような場合には、例えば、第１印点部材と、第２印点部材と、第３印点部材に加え、第４印点部材を累進レンズの幾何学中心位置Ｏに一致させるように配置する。検者は、この状態でレバー８２を操作することによって、累進レンズＬＥが有する隠しマークＭと、遠用度数測定ポイント１００に印点を施すと同時に、累進レンズＬＥの幾何学中心位置Ｏにも印点を施すことができる。また、印点機構９に第４印点部材を備えた構成では、第１の印点と、第２の印点と、第４印点部材によって施される第４の印点と、が水平方向において直線状に配置されるため、第１印点部材と、第２印点部材と、第４印点部材を移動させる機構を設けることによって、単焦点レンズの幾何学中心位置（光学中心位置）に印点を施すこともできる。

上記のような構成を備えるレンズメータ１を用いて、累進レンズＬＥの光学特性を測定する動作について説明する。例えば、検者は累進レンズＬＥをノーズピース４上に載置する。より詳しくは、検者は、累進レンズの表面に印刷されたプリントマークを参考にして、遠用度数測定ポイント１００が手前側に、近用度数測定ポイント１０２が奥側となるように、累進レンズをノーズピース４上に載置する。

例えば、ディスプレイ２には、図示無き測定モード設定スイッチが表示されている。図示無き測定モード設定スイッチは、レンズメータ１に備えられた測定モードを設定するためのものである。例えば、図示無き測定モード設定スイッチが操作されることによって、測定モードを切り換えることなできる。なお、本実施例における測定モードの切り換えは、検者によって手動で行われる構成であってもよいし、自動的に切り換えられる構成としてもよい。例えば、測定モードとしては、累進レンズの光学特性を測定するための累進レンズ測定モード、単焦点レンズの光学特性を測定するための単焦点レンズ測定モード等を備えてもよい。

例えば、検者は、図示無き測定モード設定スイッチを操作して、累進レンズ測定モードを選択する。検者によって、累進レンズ測定モードの選択がされると、制御部７０は、レンズメータの設定を累進レンズ測定モードに切り換える。また、制御部７０は、累進レンズ測定モードに設定されると、ディスプレイ２の画面上に累進レンズＬＥの光学特性を測定するための測定画面を表示する。また、制御部７０は、累進レンズ測定モードに設定されると、測定光学系１０における光源１１を点灯させる。

例えば、図１２は累進レンズＬＥの測定画面の一例を示す図である。例えば、累進レンズの測定画面９０には、２つの十字マークＫ１とＫ２が表示される。例えば、十字マークＫ１は、第１撮像光学系２０における撮像領域Ａ２の中心Ｃ２（第１撮像光学系２０の光軸Ｌ２）を電子的に表示したものである。例えば、十字マークＫ１は、累進レンズＬＥに施された第１隠しマークＭ１を、光軸Ｌ２に位置合わせするために使用する。例えば、十字マークＫ２は、第２撮像光学系３０における撮像領域Ａ３の中心Ｃ３（第２撮像光学系３０の光軸Ｌ３）を電子的に表示したものである。例えば、十字マークＫ２は、累進レンズＬＥに施された第２隠しマークＭ２を、光軸Ｌ３に位置合わせするために使用する。

また、例えば、累進レンズの測定画面９０には、ノーズピース４上に載置した累進レンズＬＥの一部領域が表示される。累進レンズＬＥの一部領域とは、第１撮像素子２６よって撮像された第１撮像領域Ａ２の範囲内に位置する累進レンズＬＥの領域と、第２撮像素子３６によって撮像された第２撮像領域Ａ３の範囲内に位置する累進レンズＬＥの領域である。従って、第１撮像領域Ａ２の範囲内に、累進レンズＬＥに施された第１隠しマークＭ１がおさまっていれば、測定画面９０に表示される累進レンズの像に、第１隠しマークＭ１が表示される。また、第２撮像領域Ａ３の範囲内に、累進レンズＬＥに施された第２隠しマークＭ２がおさまっていれば、測定画面９０に表示される累進レンズの像に、第２隠しマークＭ２が表示される。例えば、制御部７０は、撮像したレンズ像を画像処理し、レンズ像の中から隠しマークＭを検出する。

例えば、検者は、測定画面９０に表示された第１隠しマークＭ１の像が、十字マークＫ１に一致するように、ノーズピース４上の累進レンズＬＥを移動させる。また、例えば、検者は、測定画面９０に表示された第２隠しマークＭ２の像が、十字マークＫ２に一致するように、ノーズピース４上のレンズＬＥを移動させる。第１隠しマークＭ１の像及び第２隠しマークＭ２の像が、それぞれ十字マークに一致すると、累進レンズＬＥの位置合わせが完了となる。

例えば、本実施例においては、レンズＬＥの位置合わせが完了したとき、累進レンズＬＥの遠用度数測定ポイント１００はノーズピース４上に位置している。また、レンズＬＥの位置合わせが完了したとき、累進レンズＬＥの遠用度数測定ポイント１００は、測定光学系１０における測定領域Ａ１の範囲内におさまっている。

例えば、検者は、隠しマークの像を十字マークの位置に合わせた後で、ＲＥＡＤスイッチ８を押すことによって、累進レンズにおける遠用度数測定ポイント１００の光学特性を測定することができる。検者によってＲＥＡＤスイッチ８が操作されると、制御部７０は光学特性の測定結果をディスプレイ２の画面に表示する。また、制御部７０は、光学特性の測定結果を不揮発性メモリ７１に記憶させる。なお、光学特性の測定、及びディスプレイへの測定結果の表示は、制御部７０が累進レンズＬＥの位置合わせが完了したか否かを判断して、自動的に行われる構成であってもよい。

このようにして、検者は、累進レンズＬＥに施された隠しマークＭの位置合わせを完了させると同時に、累進レンズの遠用度数測定ポイントにおける光学特性を測定することができる。また、この状態で上述の印点機構９を用いることによって、累進レンズＬＥの隠しマーク位置及び遠用度数測定ポイントの位置に印点を施すことができる。

次いで、上記のような構成を備えるレンズメータを用いて、単焦点レンズＬＥの光学特性を測定する動作について説明する。例えば、検者は単焦点レンズＬＥをノーズピース４上に載置し、図示無き測定モード設定スイッチを操作して、単焦点レンズ測定モードを選択する。制御部７０は、レンズメータの設定を単焦点レンズ測定モードに切り換え、ディスプレイ２の画面上に単焦点レンズＬＥの光学特性を測定するための測定画面を表示する。また、制御部７０は、単焦点レンズ測定モードが設定されると、測定光学系１０における光源１１を点灯させる。

例えば、単焦点レンズＬＥの測定画面には、単焦点レンズの幾何学中心位置（光学中心位置）を位置合わせするための指標が表示される。この指標は、測定光学系１０における測定領域Ａ１の中心Ｃ１（測定光学系１０の光軸Ｌ１）を電子的に表示したものである。また、単焦点レンズＬＥの測定画面には、単焦点レンズの光学中心位置が電子的に示される。単焦点レンズの光学中心位置は、測定光学系１０によって測定された光学特性に基づいて表示されている。また、単焦点レンズの光学中心位置は、レンズの移動にともない、制御部７０によって表示位置が変更される。例えば、検者は、単焦点レンズの光学中心位置が指標に一致するように、ノーズピース４上のレンズＬＥを移動し、レンズＬＥの位置合わせを完了させる。ここで、検者はＲＥＡＤスイッチ８を押し、単焦点レンズの光学中心位置における光学特性を測定する。検者によってＲＥＡＤスイッチ８が操作されると、制御部７０は光学特性の測定結果をディスプレイ２の画面に表示する。また、制御部７０は、光学特性の測定結果を不揮発性メモリ７１に記憶させる。

このようにして、検者は、単焦点レンズＬＥにおける光学中心位置の位置合わせを完了させ、光学特性を測定することができる。また、この状態において、検者は、上述の印点機構９が備えるスライド機構を操作し、印点部材８５を三角形状から直線状の配置に変更することによって、単焦点レンズの光学中心位置に印点を施すことができる。

なお、単焦点レンズの光学特性を測定する場合には、光源１１からの光束が、第１撮像光学系２０の光軸Ｌ２と第２撮像光学系３０の光軸Ｌ３に一致しないように、遮光板を設ける構成であってもよい。例えば、本実施例では、単焦点レンズの光学特性を測定する場合であっても、第１撮像光学系２０と第２撮像光学系３０によって、単焦点レンズの一部領域が撮像される。第１撮像光学系２０と第２撮像光学系３０は、ノーズピース４の外部に位置するため、測定光学系１０による光学特性の測定には影響しないが、遮光板を設けることによって、単焦点レンズの撮像を防ぐことができる。

なお、本実施例においては、測定光学系１０が、第１撮像光学系２０と第２撮像光学系３０よりも所定の距離だけ手前側に配置される構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。測定光学系１０は、第１撮像光学系２０と第２撮像光学系３０よりも所定の距離だけ奥側に配置されてもよい。この場合には、検者は、遠用度数測定ポイント１００が奥側に、近用度数測定ポイント１０２が手前側に向くように、累進レンズをノーズピース４上に載置すればよい。隠しマークの撮像と、光学特性の測定は、上記と同様の操作によって行うことができる。

なお、本実施例においては、遠用度数測定ポイント１００の中心位置Ｃに、測定光学系１０の光軸Ｌ１が配置される構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。例えば、遠用アイポイント位置に測定光学系１０の光軸Ｌ１が配置される構成であってもよい。

以上説明したように、例えば、本実施例においては、累進レンズを測定する際に、隠しマークに位置合わせした際に、測定光学系の測定領域に遠用部が配置されるため、容易にレンズの遠用部の測定を行うことができる。また、例えば、累進レンズを測定する際に、隠しマークに位置合わせした際に、常時同一の位置で遠用部の測定を行うことができるため、同一のレンズで遠用部の測定を再測定した場合であっても、再現性のよい遠用部の測定結果を取得することができる。

また、例えば、本実施例においては、累進レンズに施された隠しマークを撮像する第１撮像光学系における第１撮像領域の中心位置と、第２撮像光学系における第２撮像領域の中心位置が、光学特性を測定する測定光学系における測定領域の中心位置から対称に配置されていることによって、累進レンズを測定する際に、累進レンズの幾何学中心位置から左右の一定の位置に形成される隠しマークを容易に位置合わせすることができる。

また、例えば、本実施例においては、測定光学系における測定領域の中心位置から、第１撮像光学系における第１撮像領域の中心位置までの水平方向における距離が、累進レンズの遠用度数測定ポイントから隠しマークまでの水平方向における距離と略同一であることによって、累進レンズを測定する際に、隠しマークを容易に位置合わせすることができる。

また、例えば、本実施例においては、測定光学系における測定領域の中心位置から、第２撮像光学系における第２撮像領域の中心位置までの水平方向における距離が、累進レンズの遠用度数測定ポイントから隠しマークまでの水平方向における距離と略同一であることによって、累進レンズを測定する際に、隠しマークを容易に位置合わせすることができる。

また、例えば、本実施例においては、測定光学系における測定領域が、第１撮像光学系における第１撮像領域の中心位置と、第２撮像光学系における第２撮像領域の中心位置を結んだ直線の中心を通る垂線上において、垂直方向に所定距離ずれて位置することによって、累進レンズの隠しマークを位置合わせした際、測定光学系の測定領域を累進レンズの遠用部に容易に配置することができる。

また、例えば、第１撮像領域の中心位置と、第２撮像領域の中心位置を結んだ直線の中心から、測定光学系の測定領域までの距離が、累進レンズの遠用度数測定ポイントから幾何学中心位置までの垂直方向における距離と略同一であることによって、累進レンズの隠しマークを位置合わせした際、測定光学系の測定領域を累進レンズの遠用度数測定ポイントにより容易に配置することができる。

なお、本開示における技術は、本実施例のレンズメータにおいて適用する場合に限定されない。例えば、本実施例におけるレンズメータの測定光学系には、位相差方式によって光学特性を測定するような測定光学系を適用することができる。また、例えば、本実施例におけるレンズメータの測定光学系には、レンズＬＥの広い範囲に亘って光学特性を測定するような測定光学系を適用することもできる（例えば、特表２００２−５３４６６５号公報参照）。

１ レンズメータ
２ ディスプレイ（モニタ）
９ 印点機構
１０ 測定光学系
１１ 光源
１５ 指標板
２０ 第１撮像光学系
３０ 第２撮像光学系
４０ 測定指標
７０ 制御部
７１ 不揮発性メモリ
８５ 印点部材
１００ 遠用度数測定ポイント
１０１ 遠用アイポイント

Claims (8)

1. レンズの光学特性を測定するための測定光学系を用いてレンズの光学特性を測定するレンズ測定装置であって、
   第１隠しマーク及び第２隠しマークが付与されたレンズの一方の隠しマークを撮像するための第１撮像光学系と、
   前記第１撮像光学系で撮像された隠しマークとは異なる隠しマークを撮像するための第２撮像光学系と、
   を備え、
   前記第１撮像光学系のレンズ上での第１撮像領域と、前記第２撮像光学系のレンズ上での第２撮像領域と、が異なる撮像領域であって、
   前記測定光学系は、前記第１撮像領域と前記第２撮像領域との間の中心領域に前記測定光学系によるレンズ上での測定領域を備えることを特徴とするレンズ測定装置。
2. 請求項１のレンズ測定装置において、
   前記第１撮像領域の第１撮像中心位置と、前記第２撮像領域における第２撮像中心位置と、が前記測定領域における測定中心位置を中心として対称となる位置に配置されていることを特徴とするレンズ測定装置。
3. 請求項２のレンズ測定装置において、
   前記測定中心位置から前記第１撮像中心位置までの水平方向における距離及び前記測定領域中心位置から前記第２撮像中心位置までの水平方向における距離は、レンズの遠用ポイントから隠しマークの中心位置までの水平方向における距離とそれぞれ略同一であることを特徴とするレンズ測定装置。
4. 請求項２又は３のレンズ測定装置において、
   前記測定光学系は、前記第１撮像中心位置と前記第２撮像中心位置を結んだ直線の中心を通る垂線上において垂直方向に所定距離ずれた領域に前記測定領域を備えることを特徴とするレンズ測定装置。
5. 請求項４のレンズ測定装置において、
   前記所定の距離は、レンズの遠用ポイントからレンズの幾何学中心までの垂直方向における距離と略同一の距離であることを特徴とするレンズ測定装置。
6. 請求項１〜５のいずれかのレンズ測定装置において、
   前記第１撮像光学系は、第１光源と、第１反射部材と、第１撮像素子と、を有し、前記第１光源から出射された光を所定の位置に配置されたレンズの表面側から照射し、レンズを通った光を前記第１反射部材で反射して再びレンズを通過させ、再びレンズを通過した光を第１撮像素子によって受光することで前記第１隠しマークを撮像し、
   前記第２撮像光学系は、第２光源と、第２反射部材と、第２撮像素子と、を有し、前記第２光源から出射された光を所定の位置に配置されたレンズの表面側から照射し、レンズを通った光を前記第２反射部材で反射して再びレンズを通過させ、再びレンズを通過した光を第２撮像素子によって受光することで前記第２隠しマークを撮像することを特徴とするレンズ測定装置。
7. 請求項１〜６のいずれかのレンズ測定装置において、
   前記測定光学系は、ノーズピース上に配置されたレンズの光学特性を測定するための測定光学系であって、前記ノーズピース内を前記測定光学系の光軸が通過し、
   前記第１撮像領域及び前記第２撮像領域は、前記ノーズピースの外部に配置されていることを特徴とする眼鏡レンズ測定装置。
8. 請求項４又は５のレンズ測定装置において、
   前記第１隠しマーク位置又は前記第２隠しマークの一方を規定する第１の印点を施すための第１印点部材と、前記第１隠しマーク位置又は前記第２隠しマークの他方を規定する第２の印点を施すための第２印点部材と、第３の印点を施すための第３印点部材と、を有する印点機構を備え、
   前記第１印点部材の第１印点軸は、第１の印点を施す際に前記第１撮像中心位置と交わり、
   前記第２印点部材の第２印点軸は、第２の印点を施す際に前記第２撮像中心位置と交わり、
   前記第３印点部材の第３印点軸は、第３の印点を施す際に前記測定中心位置と交わることを特徴とするレンズ測定装置。