JP2018053371A - スパッタリングターゲット接合体及びこれを用いた成膜方法 - Google Patents
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Abstract
Description
この対策としては、ターゲットの相対密度をほぼ100%にすることにより、ターゲットの内部空孔をなくすことが求められる。
結晶粒が大きくなる原因としては、高温で長時間保持して焼結させることが考えられる。ターゲットの相対密度を高めるためには、高温で長時間焼結する必要があるが、結晶粒の成長を抑制する観点からは、焼結温度を必要以上に高く、また、焼結時間を必要以上に長くするべきではない。
このような観点から、特許文献1には、原料粉の融点より50〜200℃低温で1〜3時間保持するホットプレスにより、Cu−Ga合金焼結体スパッタリングターゲットを製造する方法が記載されている。
また、上記特許文献7に記載されたような方法でも、ターゲットの側面又はバッキングプレートと金属箔又は板との間に空隙を生ずる場合があり、該空隙に入り込んだスパッタ粒子は容易に剥離するため、これがパーティクル発生の原因となる。
このような接合体によれば、その側面がスパッタされやすくなるため、この部分にターゲット表面からのスパッタ粒子が付着して堆積したものが剥離することによるパーティクルの発生が低減される。
このような構成であれば、スパッタリングの際にプラズマがターゲットの側面から入り込み、バッキングプレートの露出部がスパッタされた場合であっても、ターゲット成分以外の物質が基板上に飛散して薄膜が汚染されることがより一層防止される。
このような成膜によれば、ターゲットの寿命の初期から末期を通じてパーティクルの発生が少ないため、高品質な薄膜を形成することができる。
また、本発明に係る成膜方法によれば、上記のような本発明に係るスパッタリングターゲット接合体を用いることにより、スパッタリング法により基板上に形成される薄膜の品質及び製造効率の向上を図ることができる。
本発明に係るスパッタリングターゲット接合体は、図1に示したように、スパッタリングターゲット1がこれを保持するバッキングプレート2上に接合されているものである。スパッタリングターゲット1及び前記バッキングプレート2はいずれも、焼結体からなり、かつ、比誘電率が2〜1500の誘電体である。
このような接合体であれば、全体が誘電体であることから、該接合体の側面が負に帯電し、側面付近に存在するプラズマの密度はターゲット表面ほど高くはないものの、側面がスパッタされやすくなる。このため、ターゲット側面にターゲット表面でスパッタされたスパッタ粒子が付着して堆積し、これが剥離してパーティクルとなって被処理基板上に飛散することが抑制される。
比誘電率が2〜1500の溶射材を用いて、ターゲットの側面又はバッキングプレートの表面に溶射皮膜を形成する場合も、ターゲットの上部側面がスパッタされやすくなるが、溶射皮膜自体が剥離しやすくなるため、これがパーティクル発生の原因となるおそれがある。
これに対して、本発明のような接合体とすれば、溶射皮膜のように、その剥離によるパーティクルが発生することはない。
これに対して、本発明においては、ターゲットとバックプレートを個別の焼結体として作製し、これらを接合することにより、簡便かつ均質な接合体を得ることができる。
また、ターゲットの形状は、バッキングプレートと同様に、通常は平板状であり、バッキングプレートよりもサイズが小さい。
比誘電率が2未満である場合、該スパッタリングターゲット接合体が誘電体であることによるスパッタ粒子のターゲット側面への付着及び堆積の抑制効果が十分に得られず、パーティクル発生の抑制効果が十分に得られない。一方、比誘電率が1500を超える焼結体を工業的に製造することは極めて困難であり、実用的でない。
焼結方法は、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレス法、常圧焼結法、熱間等方圧加圧法(HIP法)、放電プラズマ焼結法(SPS法)等により、所望の焼結体を得ることができる。
このような構成でも、本発明のパーティクル発生の抑制効果を得ることができる。
[実施例1]
マグネシアからなるターゲットと同一材質からなるバッキングプレートとをインジウムにより接合した図1に示すようなスパッタリングターゲット接合体を作製した。
この接合体を用いてスパッタリングを行った。基板としてシリコンウェーハを用い、アルゴンガス雰囲気下、前記シリコンウェーハ上に膜厚0.8nmのマグネシア薄膜を形成した。
実施例1において、バッキングプレートの材質をアルミナに変更して、それ以外は実施例1と同様にして、スパッタリングターゲット接合体を作製し、これを用いてスパッタリングを行った。
実施例1において、バッキングプレートの材質を銅に変更して、それ以外は実施例1と同様にして、スパッタリングターゲット接合体を作製し、これを用いてスパッタリングを行った。
ターゲット部分及びバッキングプレート部分のいずれの材質もマグネシアである一体型ターゲットを作製し、これを用いて、実施例1と同様にしてスパッタリングを行った。
一方、バッキングプレートを通常使用されている銅にした場合(比較例1)は、ターゲット寿命の中期から末期にかけて、基板上のパーティクル数が増加した。
また、マグネシア製の一体型ターゲット(比較例2)では、ターゲット寿命の末期において、基板上のパーティクル数がやや増加する傾向が見られた。
2 バッキングプレート
3 補強材
Claims (2)
- スパッタリングターゲットに前記スパッタリングターゲットを保持するバッキングプレートが接合され、
前記スパッタリングターゲット及び前記バッキングプレートは同一材質からなり、いずれも、焼結体からなり、かつ、比誘電率が2〜1500の誘電体であることを特徴とするスパッタリングターゲット接合体。 - 請求項1に記載のスパッタリングターゲット接合体を用いて、前記スパッタリングターゲットをスパッタすることにより基板表面に成膜することを特徴とする成膜方法。
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