JP2018048621A - ベーンポンプ装置 - Google Patents
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Description
吸込口と吐出口に通じるカム室を形成しているカムリングと、上記カム室内で回転するロータと、上記ロータから進退可能に径方向に突出するベーンと、上記ベーンの後部に面する背面室を有するベーンポンプと、
上記ベーンの後部に面する背面室に流体を供給するベーンポンプでない副ポンプと
を備えることを特徴としている。
上記副ポンプは、所定回転速度よりも遅い回転速度において、上記ベーンポンプよりも高い圧力を発生する。
上記副ポンプは、ギアポンプである。
上記ベーンポンプと上記副ポンプとは同軸に連結されている。
上記背面室に、上記副ポンプの吐出口と上記ベーンポンプの吐出口とを切換接続する切換弁を備える。
上記切換弁は、上記ベーンポンプの吐出流体の圧力が一定圧力以上になると、上記背面室に上記ベーンポンプの吐出口を接続するシーケンス弁である。
上記ベーンポンプの吐出流体の圧力を検出する圧力センサと、
上記副ポンプの吐出ラインに接続された電磁リリーフ弁と、
上記圧力センサが一定圧力以上の圧力を検出すると、上記電磁リリーフ弁を制御して上記副ポンプを無負荷、または、低負荷運転をするコントローラと
を備える。
図1に示すように、この第1実施形態のベーンポンプ装置は、ベーンポンプ1と、ベーンポンプでない副ポンプの一例としてのギアポンプ2と、このギアポンプ2を駆動する原動機の一例としてのモータ3と、圧力制御部の一例としてのリリーフ弁5とを備えている。
図2はこの発明の第2実施形態のベーンポンプ装置の回路図であり、図1に示す第1実施形態のベーンポンプ装置とは、シーケンス弁50を有する点のみが異なる。したがって、図2において、図1の構成要素と同一構成要素については、図1の構成要素と同一参照番号を付してそれらの詳しい説明は省略する。
図3はこの発明の第3実施形態のベーンポンプ装置の回路図であり、図2に示す第2実施形態のベーンポンプ装置とは、ベーンポンプ1と副ポンプ2とを同軸に直結している点のみが異なる。したがって、図3において、図2の構成要素と同一構成要素については、図2の構成要素と同一参照番号を付してそれらの詳しい説明は省略する。
図4はこの発明の第4実施形態のベーンポンプ装置の回路図であり、図3に示す第3実施形態のベーンポンプ装置とは、リリーフ弁5に代えて電磁リリーフ弁65を用い、ベーンポンプ1の吐出ライン52の圧力を検出する圧力センサ71と、この圧力センサ71から吐出ライン52の圧力を表す信号を受けて電磁リリーフ弁65を制御するコントローラ75を備えている点のみが異なる。
2 副ポンプ、ギアポンプ
11 カムリング
12 ロータ
13 ベーン
16 カム室
30 背面室
50 切換弁、シーケンス弁
65 電磁リリーフ弁
71 圧力センサ
T 吸込口
P 吐出口
Claims (7)
- 吸込口(T)と吐出口(P)に通じるカム室(16)を形成しているカムリング(11)と、上記カム室(16)内で回転するロータ(12)と、上記ロータ(12)から進退可能に径方向に突出するベーン(13,13,…)と、上記ベーン(13,13,…)の後部に面する背面室(30,30,…)を有するベーンポンプ(1)と、
上記ベーン(13,13,…)の後部に面する背面室(30,30,…)に流体を供給するベーンポンプでない副ポンプ(2)と
を備えることを特徴とするベーンポンプ装置。 - 請求項1に記載のベーンポンプ装置において、
上記副ポンプ(2)は、所定回転速度よりも遅い回転速度において、上記ベーンポンプ(1)よりも高い圧力を発生することを特徴とするベーンポンプ装置。 - 請求項1に記載のベーンポンプ装置において、
上記副ポンプ(2)は、ギアポンプ(2)であることを特徴とするベーンポンプ装置。 - 請求項1から3のいずれか1つに記載のベーンポンプ装置において、
上記ベーンポンプ(1)と上記副ポンプ(2)とは同軸に連結されていることを特徴とするベーンポンプ装置。 - 請求項1から4のいずれか1つに記載のベーンポンプ装置において、
上記背面室(30)に、上記副ポンプ(2)の吐出口と上記ベーンポンプ(1)の吐出口(P)とを切換接続する切換弁(50)を備えることを特徴とするベーンポンプ装置。 - 請求項5に記載のベーンポンプ装置において、
上記切換弁は、上記ベーンポンプ(1)の吐出流体の圧力が一定圧力以上になると、上記背面室(30)に上記ベーンポンプ(1)の吐出口(P)を接続するシーケンス弁(50)であることを特徴とするベーンポンプ装置。 - 請求項5または6に記載のベーンポンプ装置において、
上記ベーンポンプ(1)の吐出流体の圧力を検出する圧力センサ(71)と、
上記副ポンプ(2)の吐出ラインに接続された電磁リリーフ弁(65)と、
上記圧力センサ(71)が一定圧力以上の圧力を検出すると、上記電磁リリーフ弁(65)を制御して上記副ポンプ(2)を無負荷、または、低負荷運転をするコントローラ(75)と
を備えることを特徴とするベーンポンプ装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2020133633A (ja) * | 2019-02-13 | 2020-08-31 | ハンオン システムズ バート ホンブルク ゲーエムベーハー | ドライサンプを備える冷却潤滑システム |
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2016
- 2016-09-23 JP JP2016186146A patent/JP6702117B2/ja active Active
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JP7108249B2 (ja) | 2019-02-13 | 2022-07-28 | ハンオン システムズ バート ホンブルク ゲーエムベーハー | ドライサンプを備える冷却潤滑システム |
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