JP2018035355A - モノマー、ポリマー、及びフォトレジスト組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】式(I)で表される構造を含むポリマー、及び該ポリマーを含むフォトレジスト。
(X及びX’は夫々独立してリンカー;RはH又は非水素置換基;A及びBは夫々独立してH又はF;R’及びR’’は夫々独立して、H又は非水素置換基;R’及びR’’のうちの少なくとも1つは、Rが水素であるとき、ハロゲン又はハロゲン置換基以外の非水素置換基)
【選択図】なし
Description
X及びX’は同じか、または異なるリンカーであり、
Rは、水素または非水素置換基であり、
A及びBはそれぞれ独立して、水素またはフッ素であり、
R’及びR’’はそれぞれ独立して、水素または非水素置換基であり、
R’及びR’’のうちの少なくとも1つは、Rが水素であるとき、ハロゲンまたはハロゲン置換基以外の非水素置換基である。
X及びX’は、同じか、または異なるリンカーであり、
Rは、水素または非水素置換基であり、
A及びBはそれぞれ独立して、水素またはフッ素であり、
R’及びR’’はそれぞれ独立して、水素または非水素置換基であり、
R’及びR’’のうちの少なくとも1つは、Rが水素であるとき、ハロゲンまたはハロゲン置換基以外の非水素置換基である。
X、X’、及びX’’はそれぞれ、同じか、または異なるリンカーであり、
A’、B’、及びC’はそれぞれ独立して、水素またはフッ素であり、
R’、R’’、及びR’’’はそれぞれ独立して、水素または非水素置換基である。
Yは、水素または任意に置換されたアルキルであり、
X及びX’は、同じか、または異なるリンカーであり、
Rは、水素または非水素置換基であり、
A’、B’、及びC’はそれぞれ独立して、水素またはフッ素であり、
R’及びR’’はそれぞれ独立して、水素または非水素置換基であり、
R’及びR’’のうちの少なくとも1つは、Rが水素であるとき、ハロゲンまたはハロゲン置換基以外の非水素置換基である。式(III)中、Yは、好適に水素、または任意に置換されたメチルを含む任意に置換されたC1−3アルキルである。式(IIB)のある特定の好ましいポリマーにおいて、R’、R’’、及びR’’’はそれぞれ独立して、水素、非ハロゲン化アルキル、またはヘテロアルキルである。式(IIB)の追加のある特定の好ましいポリマーにおいて、X、X’、及びX’’のうちの少なくとも2つが異なるか、または他の好ましいポリマーにおいて、XX’及びX’’のうちの少なくとも2つが同じであってもよい。式(IIB)の様々な好ましいポリマーにおいて、XX’及びX’’のうちの少なくとも1つ、2つ、またはそれぞれが化学結合または−CH2−である。
好ましい実施形態では、フォトレジスト組成物は、酸不安定基を含む1つ以上の第2のポリマーまたはマトリクスポリマー(第1のポリマーとは異なる)を含む。酸不安定基は、酸の存在下で脱保護反応を容易に受ける化学的部分である。フォトレジスト組成物の層の一部としての第2のポリマーまたはマトリクスポリマーは、リソグラフィ処理中、特に、ソフトベーク、活性化放射への露光、及び露光後ベーク後、光酸及び/または熱酸発生剤から発生した酸との反応の結果として、本明細書に記載される現像剤中の溶解度の変化を受ける。これは、酸不安定基の光酸誘発開裂に起因し、第2のポリマーの極性の変化を引き起こす。酸不安定基は、例えば、第3級アルキルカーボネート、第3級アルキルエステル、第3級アルキルエーテル、アセタール、及びケタールから選択され得る。好ましくは、酸不安定基は、第2のマトリクスポリマーのエステルのカルボキシル酸素に共有結合した第3級非環状アルキル炭素または第3級脂環式炭素を含有する、エステル基である。そのような酸不安定基の開裂は、カルボン酸基の形成をもたらす。好適な酸不安定基を含有する単位としては、例えば、t−ブチル(メタ)アクリレート、1−メチルシクロペンチル(メタ)アクリレート、1−エチルシクロペンチル(メタ)アクリレート、1−イソプロピルシクロペンチル(メタ)アクリレート、1−プロピルシクロペンチル(メタ)アクリレート、1−メチルシクロへキシル(メタ)アクリレート、1−エチルシクロへキシル(メタ)アクリレート、1−イソプロピルシクロへキシル(メタ)アクリレート、1−プロピルシクロへキシル(メタ)アクリレート、t−ブチルメチルアダマンチル(メタ)アクリレート、エチルフェンキル(メタ)アクリレートなどの酸に不安定な(アルキル)アクリレート単位、ならびに脂環式及び非環状(アルキル)アクリレートを含む他の環式が挙げられる。アセタール及びケタール酸不安定基は、酸素原子と結合されるために、カルボキシル基またはヒドロキシル基などのアルカリ可溶性基の末端において水素原子の代わりに置換され得る。酸が発生されるとき、酸は、アセタール型解離性溶解抑制基が結合される、アセタールまたはケタール基と酸素原子との間の結合を開裂する。例示的なそのような酸不安定基は、例えば、米国特許第US6,057,083号、同第US6,136,501号、及び同第US8,206,886号、ならびに欧州特許公開第EP01008913A1号及び同第EP00930542A1号に記載される。糖誘導体構造の一部としてのアセタール及びケタール基もまた好適であり、その開裂は、例えば、米国特許出願第US2012/0064456A1号に記載されるようなヒドロキシル基の形成をもたらす。
実施例1.モノマー1の合成
パートA:モノマー前駆体の合成
実施例7:ポリマー2の合成
ポリマー3をモノマー1で合成するために、開始剤の量が0.31gであったことを除いて、実施例7の手順を繰り返した。ポリマー3の平均分子量及び多分散性はそれぞれ、8.2K及び1.63であった。したがって、ポリマー3は、分子量及び多分散性の差を除いて、上記の実施例7に示されるポリマー2と同じ構造を有する。
ポリマー4をモノマー1で合成するために、開始剤の量が0.32gであったことを除いて、実施例7の手順を繰り返した。ポリマー4の平均分子量及び多分散性は選択的に5.4K及び1.46であった。したがって、ポリマー4は、分子量及び多分散性の差を除いて、上記の実施例7に示されるポリマー2と同じ構造を有する。
ポリマー5を合成するために、モノマー1を実施例2のモノマー2に置き換えたことを除いて、実施例7の手順を繰り返した。ポリマー5の平均分子量及び多分散性はそれぞれ、10.6K及び1.76であった。
ポリマー6を合成するために、モノマー1を実施例3のモノマー3に置き換えたことを除いて、実施例7の手順を繰り返した。ポリマー6の平均分子量及び多分散性はそれぞれ、10.0K及び1.61であった。
ポリマー7を合成するために、モノマー1を実施例5のモノマー5に置き換えたことを除いて、実施例7の手順を繰り返した。ポリマー7の平均分子量及び多分散性は選択的に7.0K及び1.44であった。
以下の表1に指定されるポリマーのスピンコーティング層に対して、水接触角(WCA)を評価した。表1中、ポリマー1〜7は、上記の実施例7〜12の同名のポリマーに対応する。Burnett et al.,J.Vac.Sci.Techn.B,23(6),2721−2727ページ(November/December 2005)に開示される手順に一般的に従って、いくつかの水接触角:静的、後退、前進、摺動、及び傾斜を評価した。以下の表1に記載される結果は、本発明のポリマー及びフォトレジスト組成物の両方が、ポリマー及びフォトレジスト組成物の両方に対して64、65、66、67、68、69、70、71、72、0、もしくは75を上回る後退水接触角、及び/または20度未満の摺動水接触角など、装置製造業者が望むような所望の水の角度を達成するように調製され得ることを示す。
実施例14:フォトレジストAの調製
250mLのPP瓶中で2.338gのメチルアダマンチルメチルアクリレート/α−ガンマブチロラクトン/ヒドロキシアダマンチルメチルアクリレート(約9,0000重量平均分子量、実施例14で上記に示されるポリマー構造)、0.343gのTPS−PFBuS、0.035gのトリオクチルアミン、0.175gのポリマー2(PGMEA中48.1重量%)、48.509gのPGMEA、及び48.600gのHBMを混合することによって、フォトレジスト組成物(本明細書において、フォトレジストBと指定される)を調製した。PP瓶を室温で6時間振った。
300mm HMDSプライム処理したシリコンウエハは、AR(商標)26N(Rohm and Haas Electronic Materials)でスピンコーティングされて、TEL CLEAN TRAC LITHIUS i+上で第1の底部反射防止コーティング(BARC)を形成し、205℃で60秒間のベークプロセスが後に続く。
300mm HMDSプライム処理したシリコンウエハは、AR(商標)26N(Rohm and Haas Electronic Materials)でスピンコーティングされて、TEL CLEAN TRAC LITHIUS i+上で第1の底部反射防止コーティング(BARC)を形成し、205℃で60秒間のベークプロセスが後に続く。
Claims (15)
- 以下の式(I)の構造を含むポリマーであって、
X及びX’は、同じか、または異なるリンカーであり、
Rは、水素または非水素置換基であり、
A及びBはそれぞれ独立して、水素またはフッ素であり、
R’及びR’’はそれぞれ独立して、水素または非水素置換基、
R’及びR’’のうちの少なくとも1つは、Rが水素であるとき、ハロゲンまたはハロゲン置換基以外の非水素置換基である、前記ポリマー。 - 前記ポリマーは、以下の式(IIA)の構造を有し、
X及びX’は、同じか、または異なるリンカーであり、
Rは、水素または非水素置換基であり、
A及びBはそれぞれ独立して、水素またはフッ素であり、
R’及びR’’はそれぞれ独立して、水素または非水素置換基であり、
R’及びR’’のうちの少なくとも1つは、Rが水素であるとき、ハロゲンまたはハロゲン置換基以外の非水素置換基である、請求項1に記載のポリマー。 - R’及びR’’はそれぞれ独立して、水素、フッ素、ハロゲン化アルキル、非ハロゲン化アルキル、またはヘテロアルキルである、請求項1に記載のポリマー。
- X及びX’は異なる、請求項1に記載のポリマー。
- X及びX’は同じである、請求項1に記載のポリマー。
- X及びX’のうちの少なくとも1つは、−CH2−である、請求項1に記載のポリマー。
- 以下の式(IIB)の構造を含み、
X、X’、及びX’’はそれぞれ、同じか、または異なるリンカーであり、
A、B、及びCはそれぞれ独立して、水素またはフッ素であり、
R’、R’’、及びR’’’はそれぞれ独立して、水素または非水素置換基である、請求項1に記載のポリマー。 - 前記ポリマーは、アクリレート単位を含む、請求項1に記載のポリマー。
- 前記ポリマーは、以下の式(III)の1つ以上のモノマーの重合によって得られる単位を含み、
Yは、水素または任意に置換されたアルキルであり、
X及びX’は、同じか、または異なるリンカーであり、
Rは、水素または非水素置換基であり、
A及びBはそれぞれ独立して、水素またはフッ素であり、
R’及びR’’はそれぞれ独立して、水素または非水素置換基であり、
R’及びR’’のうちの少なくとも1つは、Rが水素であるとき、ハロゲンまたはハロゲン置換基以外の非水素置換基である、請求項1に記載のポリマー。 - A及びBのうちの少なくとも1つは、フッ素である、請求項1に記載のポリマー。
- 光活性成分及び請求項1に記載のポリマーを含む、フォトレジスト組成物。
- 第2の異なるポリマーをさらに含む、請求項10に記載のフォトレジスト組成物。
- フォトレジスト組成物を処理する方法であって、
基板上に請求項10に記載のフォトレジスト組成物の層を適用することと、
前記フォトレジスト組成物層を活性化放射に露光することと、
前記露光されたフォトレジスト組成物を現像して、フォトレジストレリーフ画像を提供することと、を含む、前記方法。 - 前記フォトレジスト組成物層は、液浸露光される、請求項12に記載の方法。
- 以下の式(I)の構造を含むモノマーであって、
X及びX’同じか、または異なるリンカーであり、
Rは、水素または非水素置換基であり、
A及びBはそれぞれ独立して、水素またはフッ素であり、
R’及びR’’はそれぞれ独立して、水素または非水素置換基であり、
R’及びR’’のうちの少なくとも1つは、Rが水素であるとき、ハロゲンまたはハロゲン置換基以外の非水素置換基である、モノマー。
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