JP2018034257A - ドレッサー - Google Patents
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Abstract
【課題】厚さ精度が高く、効率よく均一なドレッシングが可能であり、また、従来よりも軽量なドレッサーを提供する。【解決手段】両面研磨装置の上下研磨布をドレッシングするためのダイヤモンド砥粒を固着したダイヤプレートを具備するドレッサーであって、内リングと、内リングよりも直径が大きく、内リングの外側に内リングと同心円状に配置され、内リングに連結する連結部を有する外リングと、内リングと外リングとの間に配置され、内リングの外周部と外リングの内周部によって側面を保持され、厚さが内リングと外リングよりも厚いダイヤプレートと、を具備し、ダイヤプレートが、内リングの外周部と外リングの内周部に、ダイヤプレートの厚さ方向に非固定で保持されたものであることで、ダイヤプレートの厚さ方向に浮動可能なものであることを特徴とするドレッサー。【選択図】 図1
Description
本発明は、両面研磨装置の研磨布用のドレッサーに関する。
従来、シリコンウェーハの製造では、シリコン単結晶インゴットをスライスしてシリコンウェーハを作製した後、このウェーハに対して面取り、ラッピング、エッチング等の各工程が順次なされ、次いで少なくともウェーハの一主面を鏡面化する研磨が施される。この研磨工程では、ウェーハの片面を研磨する片面研磨装置のほか、ウェーハの両面を同時に研磨する両面研磨装置が用いられることがある。
両面研磨装置としては、通常、ウレタンパッドなどからなる研磨布がそれぞれに貼付された上定盤と下定盤を具備し、図6に示すように、両面研磨装置100の中心部にはサンギヤ101が、外周部にはインターナルギヤ102がそれぞれ配置された遊星歯車構造を有するものが用いられている。半導体ウェーハWを研磨する場合には、キャリア103に形成されたウェーハ保持孔104の内部に半導体ウェーハWを挿入・保持し、その上方から研磨スラリーを半導体ウェーハWに供給し、上下の定盤を回転させながら上定盤と下定盤の対向する研磨布を半導体ウェーハWの表裏両面に押し付けるとともに、キャリア103をサンギヤ101とインターナルギヤ102との間で自転公転させることで各半導体ウェーハWの両面を同時に研磨することができる。
両面研磨装置はウェーハの両面を同時に研磨することができる一方、同じ研磨布を用いて研磨を続けているとウェーハ形状が徐々に変化してしまうという問題がある。これは主に研磨布の寿命に起因しており、研磨布の圧縮率の変化や目詰まり等が影響し、使用頻度が増えるにつれウェーハ形状が異なるようになる。そこで、このようなウェーハ形状の変化を防ぐため、研磨布表面のドレッシングが定期的にあるいは常時行われている。
ドレッサーとしては、例えば、特許文献1のように、円盤状のベース部の外周部に、ステンレス鋼板上にダイヤモンドを電着した複数の扇形部材から成るダイヤ電着プレートを配置したものを用いることができる。ダイヤ電着プレートの複数の扇形部材は、ベース部の外周部の表面上にネジによって取り外し可能に設置されており、これによってダイヤ電着プレートがベース部の外周部にリング状に設置されたものを使用できる。このダイヤ電着プレートのダイヤモンド砥粒を研磨布に摺接させることで、研磨布表面を荒らすことができ、また、目詰まりを除去できる。
またその他にも、図7のようにベース部201をリング状にし、該ベース部の上表面に直接ダイヤモンドを電着し(ダイヤ電着部202)、ダイヤ電着部202をリング状に配置したドレッサー200なども使用できる。
例えば、特許文献1のような従来のドレッサーでは、ダイヤ電着プレートをベース部の外周部の表面上にネジで固定する際に、ベース部の面精度、及び、ネジでベース部に取り付ける精度が必要であった。即ち、これらの精度が悪いと、ドレッサーのドレス面の面精度が悪化し、ダイヤモンド砥粒の一部が研磨布の表面に接触せずにドレッシングの効率が落ちたり、均一にドレッシングができなかったりするという問題があった。
また、ベース部の表面にダイヤモンドを電着したドレッサーは、以下のように、ダイヤモンドの電着作業においてドレッサーが歪み、面精度が悪化してしまっていた。即ち、ダイヤモンドの電着作業では、ダイヤモンドの電着の前処理としてブラスト処理など行い、その後、ベース部201にダイヤモンド砥粒を電着していた。しかしながら、このような手法でダイヤモンドの電着を行うと、図8の(b)、(c)のように、電着の前処理及び電着において電着部以外のベース部201などにも応力がかかるため、結果として、ドレッサー全体の歪みが大きくなってしまっていた。
さらに、このような従来のドレッサーでは、電着作業などによる面精度の悪化を抑制するために、ベース部の歪みが小さくなるようにベース部を厚くしていたが、これによってドレッサーが重くなり、ドレッサーの取り扱いが困難であるという問題もあった。
本発明は前述のような問題に鑑みてなされたもので、厚さ精度が高く、効率よく均一なドレッシングが可能であり、また、従来よりも軽量なドレッサーを提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明は、両面研磨装置の上定盤と下定盤にそれぞれ貼り付けられた研磨布をドレッシングするためのダイヤモンド砥粒を固着したダイヤプレートを具備するドレッサーであって、内リングと、該内リングよりも直径が大きく、前記内リングの外側に前記内リングと同心円状に配置され、前記内リングに連結する連結部を有する外リングと、前記内リングと前記外リングとの間に配置され、前記内リングの外周部と前記外リングの内周部によって側面を保持され、厚さが前記内リングと前記外リングよりも厚い前記ダイヤプレートと、を具備し、前記ダイヤプレートが、前記内リングの外周部と前記外リングの内周部に、前記ダイヤプレートの厚さ方向に非固定で保持されたものであることで、前記ダイヤプレートの厚さ方向に浮動可能なものであることを特徴とするドレッサーを提供する。
このようなドレッサーでは、ダイヤプレートの側面を内リング及び外リングで保持しているため、ダイヤプレートが内リング及び外リングの厚さ精度の影響を受け難く、ドレス面の面精度が悪化しにくい。また、ダイヤプレートが厚さ方向に浮動可能であることで、研磨布の表面形状(定盤形状)への追従性が向上する。よって、本発明のドレッサーは、高効率で均一なドレッシングが可能なものとなる。また、本発明のドレッサーは、主に、環状で中空の内外のリングによって、ダイヤプレートを側面から保持する構成であり、また、このような構成であれば内外のリングを薄くできるため、ドレッサーの厚みそのものを薄く設計することができ、従来のドレッサーよりも軽量となり、取り扱いやすいものとなる。
このとき、前記内リングの外周部、該内リングの外周部に対向する前記ダイヤプレートの側面、前記外リングの内周部、及び、該外リングの内周部に対向する前記ダイヤプレートの側面が凹形状又は凸形状のいずれかの形状を有し、前記凹形状に対して前記凸形状が前記ダイヤプレートの厚さ方向に遊びを有するように噛合していることで、前記内リングの外周部と前記外リングの内周部によって、前記ダイヤプレートが厚さ方向に浮動可能なように保持されたものであることが好ましい。
このようにして、ダイヤプレートを厚さ方向に非固定で保持でき、ダイヤプレートの厚さ方向に浮動可能なものとできる。
また、前記ダイヤプレートが、ステンレス鋼板上にダイヤモンドを電着した複数の扇形部材から成り、該複数の扇形部材のそれぞれが前記内リングと前記外リングとの間に設置されることで、リング状に配置されたものであることが好ましい。
このようなダイヤプレートを具備するドレッサーであれば、より効率よく、より均一なドレッシングができる。
また、前記ダイヤプレートの平坦度及び平行度は0.02mm以下であることが好ましい。
ダイヤプレートの平坦度及び平行度が0.02mm以下であれば、より確実に、効率よく均一なドレッシングができる。
また、前記内リング及び前記外リングが、ステンレス鋼(SUS)又は樹脂からなるものであることが好ましい。
内リング及び外リングがSUS製であればドレッサーの強度をより向上できる。また、内リング及び外リングが樹脂製であればより低コストでより軽量なドレッサーとなる。
また、前記両面研磨装置が、保持孔に半導体ウェーハを保持したキャリアを、サンギヤとインターナルギヤとの間で自公転させることで、前記半導体ウェーハの表裏両面を同時に研磨する遊星運動方式の両面研磨装置であり、前記外リングが、外周面に外歯が周設されたものであり、該外歯を前記サンギヤと前記インターナルギヤとに噛合できるものであることが好ましい。
このようなドレッサーであれば、外歯を両面研磨装置のサンギヤとインターナルギヤに噛合させて自公転させることで、定盤の全面を効率よく均一にドレッシングできる。
本発明のドレッサーは高効率で均一なドレッシングが可能なものである。また、本発明のドレッサーは従来のドレッサーよりも軽量で、取り扱いやすく、作業性を向上できるものである。
以下、本発明について実施の形態を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
まず、本発明のドレッサーについて図1〜4を参照して説明する。図1に示すように、本発明のドレッサー1は、内リング2と、内リング2よりも直径が大きく、内リング2の外側に内リング2と同心円状に配置され、内リングに連結する連結部4を有する外リング3とを具備する。内リング2は、図2に示すように、上内リング2a、下内リング2bが上下に重ね合わされて固定されたものであってもよい。例えば、図3のように、外リング3と、外リング3の内周部に位置し、下内リング2bに連結する連結部4と、内リング2の一部を構成する下内リング2bとが一体となったベースリングを用意し、図4のように、ベースリングの下内リング2b上に上内リング2aをボルトなどで固定することで外リング3と内リング2を形成したものであってもよい。なお、図4には下内リング2bを具備するベースリングを例示したが、ベースリングは上内リング2aを具備していても良く、これに下内リング2bをボルトで固定してもよい。
また、ドレッサー1は、図2のように、両面研磨装置の上定盤と下定盤にそれぞれ貼り付けられた研磨布をドレッシングするためのダイヤモンド砥粒6を固着したダイヤプレート5を具備し、このダイヤプレート5は、内リング2と外リング3との間に配置される。また、ダイヤプレート5は、内リング2の外周部と外リング3の内周部によって側面を保持されており、厚さが内リング2と外リング3よりも厚い。
ダイヤプレート5を図1のように複数設置する場合、ダイヤモンド砥粒6が固着してある面(図2では上面)がすべて同じ方向となるようにダイヤプレート5を配置しても良いし、ダイヤモンド砥粒6が固着してある面が上面となるダイヤプレート5とダイヤモンド砥粒6が固着してある面が下面となるダイヤプレート5とを、交互に並べて配置してもよい。なお、図2では、ダイヤモンド砥粒6がダイヤプレート5の上面にのみ固着されているが、本発明のドレッサー1は、ダイヤモンド砥粒6がダイヤプレート5の上面と下面の両面に固着されていてもよい。
さらに、本発明のドレッサー1では、ダイヤプレート5が、内リング2の外周部と外リング3の内周部に、ダイヤプレート5の厚さ方向に非固定で保持されているため、ダイヤプレート5がその厚さ方向に浮動可能である。
このような構成は、より具体的には、内リング2の外周部、内リング2の外周部に対向するダイヤプレート5の側面、外リング3の内周部、及び、外リング3の内周部に対向するダイヤプレート5の側面が凹形状又は凸形状のいずれかの形状を有し、凹形状に対して凸形状がダイヤプレート5の厚さ方向に遊びを有するように噛合していることで、内リング2の外周部と外リング3の内周部によって、ダイヤプレート5が厚さ方向に浮動可能なように保持された構成とすることができる。このような構成の一例について、図2を参照して、より具体的に説明する。
図2の場合、ダイヤプレート5より厚さが薄い内リング2の外周部が凹形状であり、内リング2の外周部に対向するダイヤプレート5の側面が凸形状である。そしてこれらの凹凸が、ダイヤプレート5の厚さ方向に遊びを有するように噛合している。同様に、ダイヤプレート5より厚さが薄い外リング3の内周部が凸形状であり、外リング3の内周部に対向するダイヤプレート5の側面が凹形状であり、これらの凹凸がダイヤプレート5の厚さ方向に遊びを有するように噛合している。これらの構成によってダイヤプレート5をその厚さ方向に浮動可能な状態にできる。なお、本発明では、内リング2の外周部とこれに対向するダイヤプレート5の側面のいずれか一方が凹形状で、他方が凸形状であればよく、図2の態様のみに限定されることはない。これは、外リング3の内周部とこれに対向するダイヤプレート5の側面の関係についても同様である。例えば、内リング2の外周部が凸形状で、これに対向するダイヤプレート5の側面が凹形状であってもよく、外リング3の内周部が凹形状で、これに対向するダイヤプレート5の側面が凸形状であってよい。
このように、内外のリング2、3によって、ダイヤプレート5が側面を保持されたドレッサー1であれば、ダイヤプレート5のダイヤモンド砥粒6を固着したドレス面が内外のリング2、3の厚さ精度の影響を受けないため、従来のようなダイヤプレートの支持部材(ベース部など)によるドレス面の面精度の悪化が起きない。また、浮動可能なダイヤプレート5はドレッシングの際に、両面研磨装置の研磨布表面の形状に追従して動くことができる。そのため、ドレッシングの効率向上(研磨布の厚さ変化量の向上)及び均一な荒さでドレッシングが可能である。また、従来のように支持部材上にダイヤプレートを貼り付けたものではないため、歪みを抑えるために内外のリング2、3の厚さを厚くする必要がない。従って、ドレッサー1が軽量となり、取り扱いやすいものとなる。
また、本発明のドレッサー1は、ダイヤプレート5が、ステンレス鋼板上にダイヤモンドを電着した、図1のような複数の扇形部材から成ることが好ましく、複数の扇形部材のそれぞれが内リング2と外リング3との間に設置されることで、リング状に配置されたものであることが好ましい。ここで、本発明における「扇形」とは、図1に示すように、リング形状のダイヤプレート5を外周方向で分割したような形状であることを意味する。すなわち、複数の扇形部材を組み合わせることでリング形状のダイヤプレート5を形成できる。ダイヤプレート5が、複数の扇形部材に分割されたものであれば、1つ1つの扇形部材の面積を小さくできる。面積の小さい扇形部材は、ダイヤモンド砥粒の電着処理によるステンレス鋼板の応力変化量も小さく、平坦度が高いため、ドレス面の面精度が高いドレッサー1となる。また、本発明のドレッサー1は、ダイヤプレートの交換が容易な構造であるため、例えば、扇形部材のダイヤモンド砥粒に不具合が見つかった場合などに、問題のある扇形部材のみ外して容易に交換可能である。
また、特に、ダイヤプレート5の平坦度及び平行度は0.02mm以下であることが好ましい。これによって、ドレッシングの効率のさらなる向上及びより均一なドレッシングが可能なドレッサー1となる。
また、内リング2及び外リング3が、ステンレス鋼又は樹脂からなるものであってもよい。内リング及び外リングがSUS製であればドレッサーの強度がより高くなる。また、内リング及び外リングが樹脂製であればより低コストで金属汚染もないとともに、より軽量なドレッサーとなる。
また、本発明のドレッサー1において、外リング3が、外周面に外歯7が周設されたものであり、外歯7をサンギヤとインターナルギヤとに噛合できるものであることが好ましい。例えば、図6のような遊星運動方式の両面研磨装置100は、保持孔に半導体ウェーハWを保持したキャリア103を、サンギヤ101とインターナルギヤ102との間で自公転させることで、半導体ウェーハWの表裏両面を同時に研磨可能な構成を有している。ドレッサー1の外リング3の外歯7がサンギヤ101とインターナルギヤ102とに噛合できるものであれば、サンギヤ101とインターナルギヤ102によって自公転させることで容易に研磨布の全面をドレッシング可能なドレッサーとなる。
上記の図1、2のような本発明のドレッサー1は、例えば、以下のようにして作製できる。図5は、図1の線分A−A’における断面図である。まず、図1、2のようなドレッサー1を作製する場合、図3、4のように、外リング3、連結部4、下内リング2bが一体となったベースリングと、上内リング2aと、ダイヤプレート5とを準備すればよい。また、ダイヤプレート5としては、扇形の板上にダイヤモンド砥粒を電着した複数の扇形部材を準備できる。なお、ダイヤモンド砥粒を電着した扇形部材は、予め、複数の扇形部材間での厚さのばらつきが小さくなるように、厚さに応じて選別しておけば、より高精度なドレッサーを作製できる。
次に、図5の(a)に示すように、ダイヤプレート5の外端を外リングの内周部に噛合する。このとき、噛合部にはダイヤプレート5の厚さ方向に遊びを有する。
次に、図5の(b)に示すように、ダイヤプレート5の内端を上内リング2aと下内リング2bとで上下から挟み込むようにして上内リング2aを取り付け、内リング2の外周部をダイヤプレート5の内端と噛合させる。このとき、噛合部にはダイヤプレート5の厚さ方向に遊びを有する。
次に、図5の(c)に示すように、上内リング2aと下内リング2bとをボルトで留めて固定する。
以上のようにして、内リング2の外周部と外リング3の内周部に、ダイヤプレート5をその厚さ方向に非固定で保持して、ダイヤプレート5を厚さ方向に浮動可能としたドレッサー1を作製できる。
次に、上記のようなドレッサー1を用いて、両面研磨装置の上下の研磨布をドレッシングする方法を説明する。ドレッシングを行うには、ドレッサー1を両面研磨装置の上定盤と下定盤との間に挟んで通常の研磨と同じように装置を稼動させれば、上下研磨布を同時にドレッシングすることができる。この際には、上記のように外リング3の外歯7を、サンギヤ及びインターナルギヤに噛合させておけば、これらのギヤによってドレッサー1は自公転運動しながら、上下の研磨布の全面をドレッシングすることができる。
また、図2のように、ダイヤプレート5の片面にのみダイヤモンド砥粒6が固着され、ダイヤモンド砥粒6が固着してある面がすべて同じ方向となっているドレッサー1を用いる場合には、ドレッサー1を複数個下定盤の上に配置し、一部のドレッサー1をダイヤモンド砥粒6が下定盤方向に向くように設置し、残りをダイヤモンド砥粒6が上定盤方向に向くように設置してからドレッサー1を上下定盤で挟み込むことで、上下研磨布を同時にドレッシングすることができる。
また、ダイヤモンド砥粒6が固着してある面が上下2方向であるドレッサー1を用いて上下研磨布を同時にドレッシングしてもよい。この場合、片面にのみダイヤモンド砥粒6を固着したダイヤプレート5を複数設置し、ダイヤモンド砥粒6が下定盤方向に向くダイヤプレート5と、ダイヤモンド砥粒6が上定盤方向に向くダイヤプレート5とを交互に設置したドレッサー1を用いてもよいし、また、ダイヤプレート5の上下の両面にダイヤモンド砥粒6を固着したドレッサー1を用いてもよい。
以下、本発明の実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
(実施例)
図6のような、両面研磨装置を用いてシリコンウェーハの研磨を行い、研磨バッチ間に、図1、2に示すような本発明のドレッサーで上下研磨布のドレッシングを行った。そして、ドレッシングの研磨布の厚さ変化量、ドレッシング後の研磨布の表面形状測定、及びドレッシング後の研磨布のSi含有量測定を行った。さらに、ドレッシング前後で、研磨したウェーハのフラットネスの変化を評価した。
図6のような、両面研磨装置を用いてシリコンウェーハの研磨を行い、研磨バッチ間に、図1、2に示すような本発明のドレッサーで上下研磨布のドレッシングを行った。そして、ドレッシングの研磨布の厚さ変化量、ドレッシング後の研磨布の表面形状測定、及びドレッシング後の研磨布のSi含有量測定を行った。さらに、ドレッシング前後で、研磨したウェーハのフラットネスの変化を評価した。
実施例のドレッサーは、以下のような手順で作製した。即ち、まず、下内リングと外リングとが連結部を介して一体となっているステンレス鋼製のベースリングと、ステンレス鋼製の上内リングと、ステンレス鋼板の片面にダイヤモンド砥粒を固着したダイヤプレートとを準備した。ダイヤプレートは、厚さが1cmのリング状のステンレス鋼板を、8個の扇形状に切り出し、それぞれの表面にダイヤモンド砥粒を電着させて8個の扇形部材を作製した。そして、図5に示した手順で、これらの部材を組み立てて、図1のような本発明のドレッサーを作製した。
このドレッサーの内リングは、厚さが0.3cm、内径が62cm、外径が65cmとなった。また、外リングは、厚さが0.6cm、外径がギヤ先端74cm、ギヤ歯底73cmとなった。このドレッサーの重量は約5kgであり、後述の比較例にて用いた従来のドレッサーの約1/3の重量となった。このような手順で、4個のドレッサーを作製し、ドレッシングに用いた。
また、両面研磨装置としては、不二越機械工業株式会社製の両面研磨機30Bを用いた。
ドレッシングの際には、ドレッサーの外歯歯車をサンギヤ及びインターナルギヤに噛み合わせるようにして設置した。この際、2個のドレッサーはダイヤモンド砥粒が上方を向くように、残りの2個のドレッサーはダイヤモンド砥粒が下方を向くように設置した。その後、上下の定盤を回転させながら上定盤と下定盤の対向する研磨布をドレッサーに押し付けるとともに、ドレッサーをサンギヤとインターナルギヤとの間で自転公転させることで上下の研磨布を同時にドレッシングした。研磨布としては、ウレタン製研磨パッドを用いた。
また、ドレッシングでは、上下定盤の相対回転速度がドレッサーの公転に対して1:1となるように上下定盤及びドレッサーを自公転させた。また、ドレッサーに対する荷重は、研磨時の荷重と同じとし、ドレッシング時間は60分とした。
なお、直径300mmのシリコンウェーハの研磨条件として、荷重150gf/cm2、上下定盤、サンギヤ及びインターナルギヤの回転数はキャリア公転数と上定盤回転数の差、及び下定盤回転数とキャリア公転数の差がともに10rpmになるように、キャリア自転数が2.5rpmになるように設定し加工した。
研磨バッチ間のドレッシング後に、上下研磨布の厚さ変化量、研磨布の表面形状測定、及びドレッシング後の研磨布のSi含有量測定を行った。なお、研磨布の厚さ変化量は、ドレッシング前後の研磨布の厚さから算出した。また、研磨布の表面形状は真直度測定機を用いて測定した。また、研磨布のSi含有量は、SEMで測定した。
その結果、図9に示すように、後述の比較例に比べて実施例のほうが研磨布の厚さの変化量が大きく、研磨布の厚さ変化量は後述の比較例よりも1割向上し、効果的なドレッシングが行われたことがわかった。なお、図9では、研磨布の厚さの変化量として、比較例の研磨布の厚さの変化量を1とした相対値を記載している。また、図10に示すように、実施例では研磨布のSi含有量が比較例よりも1割少なくなり、シリコンウェーハの研磨屑による目詰まりを、比較例よりも十分に除去できたことが分かった。なお、図10では、Si含有量として、比較例のSi含有量を1とした相対値を記載している。
また、シリコンウェーハのフラットネスとして、GBIR(Global Backsurface−referenced Ideal plane/Range)及びROA(Roll Off Amount)をNanometroで測定した。その結果、図11、12に示すように、実施例では、後述の比較例と同等のフラットネスが得られた。
(比較例)
図7のような従来のドレッサーを用いたこと以外、実施例と同様な条件で両面研磨及びバッチ間ドレッシングを行い、実施例と同様にドレッシングの評価及び直径300mmのシリコンウェーハのフラットネスの評価を行った。比較例におけるドレッサーは、リング状のベース部に、ステンレス板上にダイヤモンドを電着した複数の扇形部材から成るダイヤプレートをリング状に8個配置したものとした。このようなドレッサーの重量は約15kgであり、実施例のドレッサーより重くなった。
図7のような従来のドレッサーを用いたこと以外、実施例と同様な条件で両面研磨及びバッチ間ドレッシングを行い、実施例と同様にドレッシングの評価及び直径300mmのシリコンウェーハのフラットネスの評価を行った。比較例におけるドレッサーは、リング状のベース部に、ステンレス板上にダイヤモンドを電着した複数の扇形部材から成るダイヤプレートをリング状に8個配置したものとした。このようなドレッサーの重量は約15kgであり、実施例のドレッサーより重くなった。
ドレッシングの評価の結果、図9のように、研磨布の厚さ変化量は実施例よりも少なく、ドレッシング効果が低い結果となった。さらに、図10のように、研磨布のSi含有量は実施例よりも多くなり、シリコンウェーハの研磨屑による目詰まりが、実施例よりも多く残ってしまい、比較例より効果的なドレッシング効果が得られていることが確認できた。
また、実施例と同様に、両面研磨を行った後のシリコンウェーハのフラットネスを調べたところ、図11、12のように実施例と同等のフラットネスであった。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
1…本発明のドレッサー、 2…内リング、2a…上内リング、2b…下内リング、
3…外リング、 4…連結部、 5…ダイヤプレート、 6…ダイヤモンド砥粒、
7…外歯。
3…外リング、 4…連結部、 5…ダイヤプレート、 6…ダイヤモンド砥粒、
7…外歯。
Claims (6)
- 両面研磨装置の上定盤と下定盤にそれぞれ貼り付けられた研磨布をドレッシングするためのダイヤモンド砥粒を固着したダイヤプレートを具備するドレッサーであって、
内リングと、
該内リングよりも直径が大きく、前記内リングの外側に前記内リングと同心円状に配置され、前記内リングに連結する連結部を有する外リングと、
前記内リングと前記外リングとの間に配置され、前記内リングの外周部と前記外リングの内周部によって側面を保持され、厚さが前記内リングと前記外リングよりも厚い前記ダイヤプレートと、
を具備し、
前記ダイヤプレートが、前記内リングの外周部と前記外リングの内周部に、前記ダイヤプレートの厚さ方向に非固定で保持されたものであることで、前記ダイヤプレートの厚さ方向に浮動可能なものであることを特徴とするドレッサー。 - 前記内リングの外周部、該内リングの外周部に対向する前記ダイヤプレートの側面、前記外リングの内周部、及び、該外リングの内周部に対向する前記ダイヤプレートの側面が凹形状又は凸形状のいずれかの形状を有し、前記凹形状に対して前記凸形状が前記ダイヤプレートの厚さ方向に遊びを有するように噛合していることで、前記内リングの外周部と前記外リングの内周部によって、前記ダイヤプレートが厚さ方向に浮動可能なように保持されたものであることを特徴とする請求項1に記載のドレッサー。
- 前記ダイヤプレートが、ステンレス鋼板上にダイヤモンドを電着した複数の扇形部材から成り、該複数の扇形部材のそれぞれが前記内リングと前記外リングとの間に設置されることで、リング状に配置されたものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のドレッサー。
- 前記ダイヤプレートの平坦度及び平行度は0.02mm以下であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のドレッサー。
- 前記内リング及び前記外リングが、ステンレス鋼又は樹脂からなるものであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のドレッサー。
- 前記両面研磨装置が、保持孔に半導体ウェーハを保持したキャリアを、サンギヤとインターナルギヤとの間で自公転させることで、前記半導体ウェーハの表裏両面を同時に研磨する遊星運動方式の両面研磨装置であり、
前記外リングが、外周面に外歯が周設されたものであり、該外歯を前記サンギヤと前記インターナルギヤとに噛合できるものであることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のドレッサー。
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