JPH065079Y2 - 研摩装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案は、上下の両定盤の間に被研摩物を挟み両面同時
に研摩加工を行う研摩装置に関する。

［従来の技術］ 内周刃形または外周刃形の切断機によって薄く切断され
たウエハーなどの被研摩物の板厚、平行度、平面度を充
分な形状精度を得るために、一般に被研摩物は異物によ
る傷、チッピングを防ぐように鋳鉄、錫などの金属材よ
りなり表面が格子状あるいは同心円状の溝を設けた定盤
で挾まれ、カーボランダムなどの砥粒の水溶液を研摩材
として研摩が行われている。

従来の研摩装置では、第５図及び第６図に示すように、
被研摩物３は、架台９との間で定盤回転軸１３を軸とし
て回転する基板６の上に載せられた下定盤２内で定盤回
転軸１３により回転する太陽ギヤ７と架台９の周辺に固
定されているインターナルギヤ８との間で噛合するキャ
リア４内で保持されている。また被研摩物３は固定軸１
２で固定された研摩剤供給リング１０に固着されている
支持杆１１によって固定された上定盤１の下面に接して
いる。

今、定盤回転軸１３を矢印Ａの方向に回転させると、第
６図に示す如く、下定盤２は同方向に、太陽ギヤ７は矢
印ｂのように回転し、したがって、キャリア４と被研摩
物３は矢印ｃのように自転しながら、矢印ｄの方向に公
転する。研摩剤供給リング１０に供給される研摩液はゴ
ム管５を経て上定盤１から被研摩物３に供給され、被研
摩物３は上下両定盤１，２に挾まれ、圧力と４方向の回
転が与えられ両面同時に研摩される。

［考案が解決しようとする課題］ 従来の研摩装置は、上下の定盤の加工面には同じピッチ
の同心円状、または格子状の溝が刻まれているので、長
時間の研摩作業中上定盤１と下定盤２に加わる圧力分布
および周速の違いにより上下両定盤１，２にうねりが生
じ加工面が凸状または凹状に変化する。したがって加工
された被研摩物３の平面度、平行度が低下し、定期的な
定盤の修正が必要である。この修正作業のためにはキャ
リア４、被研摩物３を取り出し鋳鉄製の修正リングによ
り公転方向を変えるなどの手段によって定盤のうねりを
修正するが、この修正時間は加工時間に比べ長く、加工
能率が悪い欠点がある。

［課題を解決するための手段］ 本考案の研摩装置は、第１の加工面を有する上定盤と、
第２の加工面を有し該第２の加工面を上記第１の加工面
に対向させて配置された下定盤とを含み、上記第１の加
工面に該加工面の中心を中心とする複数の円形の溝が同
心円状に刻設され、上記第２の加工面に該加工面の中心
を中心とする複数の円形の溝が同心円状に刻設され、上
記第１の加工面と上記第２の加工面の間に被研摩物を配
し、該被研摩物を自転させながら公転移動させて該被研
摩物を上記第１及び第２の加工面により研摩する研摩装
置において、上記第１の加工面に同心円状に刻設された
複数の溝のピッチは、上記第１の加工面の内、摩耗を受
け易いリング状の部分で長く、該部分よりも摩耗を受け
難いリング状の部分で短くなっており、同様に上記第２
の加工面に同心円状に刻設された複数の溝のピッチは、
上記第２の加工面の内、摩耗を受け易いリング状の部分
で長く、該部分よりも摩耗を受け難いリング状の部分で
短くなっていることを特徴とする。

［作用］ 本考案の研摩装置の場合、上定盤の第１の加工面の研摩
作業により凹状になり易い部分、即ち、摩耗を受け易い
リング状の部分では、同心円状の溝のピッチが大きくな
っているので、溝と溝の間の加工面が広く、その分、単
位面積当りの荷重が小さくなるので摩耗し難くなる。一
方、上定盤の第１の加工面の研摩作業により凸状になり
易い部分、即ち、摩耗を受け難い部分では、同心円状の
溝のピッチが小さくなっているので、溝と溝の間の加工
面が狭く、その分、単位面積当りの荷重が大きくなるの
で摩耗し易くなるが、結果として、この部分の摩耗度
は、摩耗を受け易いリング状の部分の摩耗度と略同じに
なり、この結果、上定盤の第１の加工面の平面度が保た
れる。

下定盤の第２の加工面についても同様である。

［実施例］ 第１図は本考案の第１の実施例による研摩装置に用いら
れている下定盤の断面図である。

下定盤２は、被研摩物３と接して研摩加工が行われる第
２の加工面１４を有する。尚、上定盤１（第５図参照）
の加工面を第１とし、下定盤２の加工面１４を第２とす
る。

下定盤２の加工面１４には、この加工面１４の中心を中
心とすると複数の円形の溝１６が同心円状に刻設れさて
いる。各溝１６の断面は、Ｖ字状に成っている。

複数の溝１６のピッチは、加工面１４の内、摩耗を受け
易いリング状の部分で長く、この部分より摩耗を受け難
いリング状の部分で短くなっている。本実施例の場合、
下定盤２の中心部１５のリング状部分が、摩耗を受け易
い部分と成っており、この部分の溝１６のピッチが長く
成っている。一方、下定盤２の外周部１７のリング状部
分が、摩耗を受け難い部分と成っており、この部分の溝
１６のピッチは、短く成っている。

一般に、摩耗を受け易い部分及び摩耗を受け難い部分
は、上定盤或いは下定盤の直径、重量、配置状態等で異
なるので、研摩装置の機種によって、摩耗を受ける易い
部分、摩耗を受け難い部分の現れ方が異なってくる。こ
れら摩耗を受け易い部分、摩耗を受け難い部分を見極め
るには、同心円状の溝が一定のピッチで刻設されている
上定盤及び下定盤を用意し、これらの定盤で実際に研摩
作業を行って摩耗の状況を見れば良い。

尚、上定盤１は、下定盤２と同構成であるので説明を省
略する。

第２図は本考案の第２の実施例による研摩装置に用いら
れている下定盤の断面図である。

本実施例の場合、加工面１４の中心部１５が、摩耗を受
け難い部分と成っており、外周部１７が摩耗を受け易い
部分と成っている。従って、加工面１４の中心部１５
で、溝１６のピッチが短く成っており、加工面１４の外
周部で、溝１６のピッチが長く成っている。

第３図は本考案の第３の実施例による研摩装置に用いら
れている下定盤の断面図である。

本実施例の場合、ｍで示すリング状の部分が、摩耗を受
け難い部分と成っており、ｎで示す部分が摩耗を受け易
い部分と成っている。従って、加工面１４の中心部及び
外周部で、溝１６のピッチが短く成っており、加工面１
４の中心部と外周部の間で、溝１６のピッチが長く成っ
ている。

第４図は本考案の第４の実施例による研摩装置に用いら
れている下定盤の断面図である。

本実施例の場合も、ｍで示すリング状の部分が、が摩耗
を受け難い部分と成っており、ｎで示す部分が摩耗を受
け易い部分と成っている。従って、加工面１４の中心部
及び外周部で、溝１６のピッチが長く成っており、加工
面１４の中心部と外周部の間で、溝１６のピッチが短く
成っている。

［考案の効果］ 本考案の研摩装置は、加工面の摩耗を受け易い部分では
同心円状の溝のピッチを長くし、摩耗を受け難い部分で
は同心円状の溝のピッチを短くしているので、この加工
面が凹状或いは凸状の変形することがなく、加工面が常
に変面に保たれる。従って、本考案の研摩装置は、平行
度、平面度共に高精度に被研摩物を研摩することができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の第１の実施例による研摩装置に用いら
れている下定盤の断面図、第２図は本考案の第２の実施
例による研摩装置に用いられている下定盤の断面図、第
３図は本考案の第３の実施例による研摩装置に用いられ
ている下定盤の断面図、第４図は本考案の第４の実施例
による研摩装置に用いられている下定盤の断面図、第５
図は従来の研摩装置の一例の断面図、第６図は同従来例
の要部の平面図である。 １……上定盤、２……下定盤、３……被研摩物、４……
キャリア、５……ゴム管、６……基板、７……太陽ギ
ヤ、８……インターナルギヤ、９……架台、１０……研
摩剤供給リング、１３……定盤回転軸、１４……加工
面、１５……中心部、１６……溝、１７……外周部。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】第１の加工面を有する上定盤と、第２の加
   工面を有し該第２の加工面を上記第１の加工面に対向さ
   せて配置された下定盤とを含み、上記第１の加工面に該
   加工面の中心を中心とする複数の円形の溝が同心円状に
   刻設され、上記第２の加工面に該加工面の中心を中心と
   する複数の円形の溝が同心円状に刻設され、上記第１の
   加工面と上記第２の加工面の間に被研摩物を配し、該被
   研摩物を自転させながら公転移動させて該被研摩物を上
   記第１及び第２の加工面により研摩する研摩装置におい
   て、上記第１の加工面に同心円状に刻設された複数の溝
   のピッチは、上記第１の加工面の内、摩耗を受け易いリ
   ング状の部分で長く、該部分よりも摩耗を受け難いリン
   グ状の部分で短くなっており、同様に上記第２の加工面
   に同心円状に刻設された複数の溝のピッチは、上記第２
   の加工面の内、摩耗を受け易いリング状の部分で長く、
   該部分よりも摩耗を受け難いリング状の部分で短くなっ
   ていることを特徴とする研摩装置。