JP2018016863A - めっき物、およびめっき物の製造方法 - Google Patents

めっき物、およびめっき物の製造方法 Download PDF

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正和 ▲高▼橋
Masakazu Takahashi
淳 平山
Atsushi Hirayama
淳 平山
瑞基 矢頭
Mizuki Yato
瑞基 矢頭
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Abstract

【課題】指紋などの脂分等が付着した場合に、その拭き取りなどによる除去が容易な艶消しのめっき物を得る。【解決手段】樹脂基材101等の基材上にサテンニッケルめっき層106、および3価クロムめっき層108が形成された樹脂成形品100等のめっき物は、3価クロムめっき層108の表面における平面部分の面積割合が87%以上、3価クロムめっき層108の表面における凹部の最長寸法が8.8μm以下、および3価クロムめっき層108の表面における各凹部の最長寸法の平均が8.0μm以下の少なくともいずれかである。【選択図】図1

Description

本発明は、樹脂基材等に艶消し状の3価クロムめっき層が形成されためっき物、およびめっき物の製造方法に関するものである。
樹脂基材等に艶を抑えた金属皮膜を形成する技術として、例えばサテンニッケルめっき層等の艶消しニッケルめっき層と3価クロムめっき層とを組み合わせる技術が知られている(例えば、特許文献1参照。)。また、サテン状のめっき皮膜を得る方法として、めっき液中で有機エマルジョンを形成する添加剤を用いてめっきを行う方法が知られている(例えば、特許文献2参照。)。
特開2013−142188号公報 特開昭59−232298号公報
上記のような艶消し状のめっきにおいては、例えば所望のいわゆる黒味感(SCT)やサテン感(SCE)を得るために、種々のめっき条件が設定される。
本願発明者は、種々のめっき条件を試みる中で、表面が清浄な状態での外観だけでなく、例えば指紋などの脂分等が付着した場合に、その拭き取りが容易であるかも、めっき物の特性として評価され得ることに気づいた。ここで、従来、艶消しニッケルめっき層と組み合わせて6価クロムめっき層を形成する手法が用いられていたことがあるが、その場合には、上記のような脂分の拭き取り性等について特に着目されていなかった。これは、6価クロムの場合には、結晶構造の相違から脂分の拭き取り性等が問題となりにくい程度であったためと想定された。
本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、指紋などの脂分等が付着した場合に、その拭き取りなどによる除去が容易なめっき物を得ることを目的としている。
上記の目的を達成するために、
本発明は、
基材上にサテンニッケルめっき層、および3価クロムめっき層が形成されためっき物であって、
上記3価クロムめっき層の表面における平面部分の面積割合が87%以上、
上記3価クロムめっき層の表面における凹部の最長寸法が8.8μm以下、および
上記3価クロムめっき層の表面における各凹部の最長寸法の平均が8.0μm以下の少なくともいずれかであることを特徴とする。
これにより、艶消し状のめっきであっても、指紋などの脂分等が付着した場合に、その拭き取りなどによる除去を容易にできる。
また、本発明は、
基材上にサテンニッケルめっき層、および3価クロムめっき層が形成されためっき物を製造するめっき物の製造方法であって、
上記3価クロムめっき層の表面における平面部分の面積割合が87%以上、
上記3価クロムめっき層の表面における凹部の最長寸法が8.8μm以下、および
上記3価クロムめっき層の表面における各凹部の最長寸法の平均が8.0μm以下の少なくともいずれかになるように、上記サテンニッケルめっき層を形成する薬液に含まれる乳化物を含む薬液の量を設定することを特徴とする。
これにより、上記のような指紋などの脂分等の拭き取りなどが容易なめっき物を容易に製造することができる。
本発明では、めっき物に指紋などの脂分等が付着した場合に、その除去を容易にすることができる。
樹脂成形品100の構成を模式的に示す縦断面図である。
以下、本発明の実施形態として、樹脂基材上にめっき層が形成されためっき物である樹脂成形品の例を図面に基づいて詳細に説明する。
樹脂成形品100は、図1に示すように樹脂基材101上に、銅めっき層102、半光沢ニッケルめっき層103、トリニッケルめっき層104、光沢ニッケルめっき層105、サテンニッケルめっき層106、マイクロポーラスニッケルめっき層107、および3価クロムめっき層108が順に形成されて成っている。
上記各めっき層は、それぞれめっき液を用いた電気めっきにより形成される。特に、サテンニッケルめっき層106は、めっき液として例えば硫酸ニッケル、塩化ニッケル、ホウ酸、および光沢補助剤に加えて、所定量のサテン感増強添加剤としての乳化物(油分)を含む薬液を混合したものが用いられる。これによって、図1に模式的に示すように表面に凹凸を有するサテンニッケルめっき層106が形成される。そこで、その後に形成される3価クロムめっき層108の表面にも微小な凹凸が形成され、いわゆる漆黒調サテンめっきを得ることができる。
上記サテンニッケルめっき層106を形成する際の乳化物を含む薬液は、配合量を種々設定することにより、例えば下記(表1)に示すような3価クロムめっき層108の表面の性状を得ることができる。
Figure 2018016863
すなわち、乳化物を含む薬液の配合量に応じて、3価クロムめっき層108の表面における平面部分の面積割合、凹部の最長寸法、および各凹部の最長寸法の平均がそれぞれ異なり、3価クロムめっき層108の表面における平面部分の面積割合が87%以上、凹部の最長寸法が8.8μm以下、または各凹部の最長寸法の平均が8.0μm以下であれば、良好な拭き取り性が得られた。なお、これらの平面部分の面積割合、凹部の最長寸法、および各凹部の最長寸法の平均は、ある程度の相関を有していると考えられるが、脂分等が拭き取られるメカニズムは、凹部に入り込んだ脂分等が除去されることである点を考えると、少なくとも何れかの条件が満足されていれば、良好な指紋等の拭き取り効果を得ることができると考えられる。
ここで、上記平面部分の面積割合の上限値、凹部の最長寸法の下限値、および各凹部の最長寸法の平均の下限値は、拭き取り性の点では特に限定されず、所望の艶消し効果が得られる範囲であればよい。また、脂分の除去に関しては、完全に拭き取られて除去されるのに限らず、拭き取られたと視認できる程度に除去(分散等も含む)されることを意味する。
なお、乳化物を含む薬液以外の成分の種類や配合量、また、他のめっき層の有無や形成方法は特に限定されず、所望のいわゆる黒味感やサテン感が得られるように種々設定されればよい。
(その他の事項)
なお、上記実施形態として説明しためっき構成は一例であり、本発明の技術思想を逸脱しない範囲で、例えばさらに不働態化処理、不導体化処理を施すなどしてもよい。
100 樹脂成形品
101 樹脂基材
102 銅めっき層
103 半光沢ニッケルめっき層
104 トリニッケルめっき層
105 光沢ニッケルめっき層
106 サテンニッケルめっき層
107 マイクロポーラスニッケルめっき層
108 3価クロムめっき層

Claims (6)

  1. 基材上にサテンニッケルめっき層、および3価クロムめっき層が形成されためっき物であって、
    上記3価クロムめっき層の表面における平面部分の面積割合が87%以上であることを特徴とするめっき物。
  2. 基材上にサテンニッケルめっき層、および3価クロムめっき層が形成されためっき物であって、
    上記3価クロムめっき層の表面における凹部の最長寸法が8.8μm以下であることを特徴とするめっき物。
  3. 基材上にサテンニッケルめっき層、および3価クロムめっき層が形成されためっき物であって、
    上記3価クロムめっき層の表面における各凹部の最長寸法の平均が8.0μm以下であることを特徴とするめっき物。
  4. 請求項1のめっき物であって、
    さらに、上記3価クロムめっき層の表面における凹部の最長寸法が8.8μm以下であることを特徴とするめっき物。
  5. 請求項1、請求項2、および請求項4のうち何れか1項のめっき物であって、
    さらに、上記3価クロムめっき層の表面における各凹部の最長寸法の平均が8.0μm以下であることを特徴とするめっき物。
  6. 基材上にサテンニッケルめっき層、および3価クロムめっき層が形成されためっき物を製造するめっき物の製造方法であって、
    上記3価クロムめっき層の表面における平面部分の面積割合が87%以上、
    上記3価クロムめっき層の表面における凹部の最長寸法が8.8μm以下、および
    上記3価クロムめっき層の表面における各凹部の最長寸法の平均が8.0μm以下の少なくともいずれかになるように、上記サテンニッケルめっき層を形成する薬液に含まれる乳化物を含む薬液の量を設定することを特徴とするめっき物の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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