JP2017536315A - 熱特性および準化学量論的な中間膜を有する積層体を備えた基板 - Google Patents

Abstract

本発明は、一つの面（１１）が、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する薄膜積層体（１４）で覆われる基板（１０）であり、該積層体が、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースである単一の金属機能膜（１４０）と二つの反射防止コーティング（１２０、１６０）とを有し、前記コーティングがそれぞれ、少なくとも一つの誘電体膜（１２２、１６４）を有し、前記機能膜（１４０）が、二つの反射防止コーティング（１２０、１６０）の間に配置される基板であって、前記反射防止コーティング（１２０、１６０）のうちの少なくとも一つが、０．７５（２ｘ＋ｙ）≦ｚ≦０．９５（２ｘ＋ｙ）であり０．１≦ｘ／ｙ≦２．４の比率を伴う亜鉛とスズの酸化物ＳｎxＺｎyＯzを含み、また２ｎｍ〜２５ｎｍ、さらには２ｎｍ〜１２ｎｍの物理的な厚さを有する中間膜を有することを特徴とする基板に関する。【選択図】図１

Description

本発明は、シャーシ構造によって一つにまとめて保持される、ガラス基板タイプの少なくとも二つの基板を有する複層グレージングユニットに関しており、前記グレージングユニットは、外部空間と内部空間との間の仕切りを実現するものであり、該グレージングユニットの中には、少なくとも一つのガスの中間層が二つの基板の間に配置されている。

既知の方法では、基板のうちの一つは、ガスの中間層と接触している内側面が、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースである単一の金属機能膜と二つの反射防止コーティングとを有する、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する薄膜積層体で覆われ得、前記コーティングはそれぞれ、少なくとも一つの誘電体膜を有し、前記機能膜は、二つの反射防止コーティングの間に配置されている。

本発明はより詳細には、断熱グレージングユニットおよび／またはサンプロテクショングレージングユニットを製造するためのそのような基板の使用に関する。これらのグレージングユニットは建物に取り付けられるためのものであり得、空気調節のための労力を減少させること、および／または極端な過熱を防ぐこと（いわゆる「ソーラーコントロール」グレージングユニット）、および／または建物において増え続けている多数のガラス面によってもたらされる、外部へ消散するエネルギー量を減少させること（いわゆる「低放射」グレージングユニット）を特に目的としている。

また、これらのグレージングユニットは、例えば電熱グレージングユニットまたはエレクトロクロミックグレージングユニットのような、特定の機能性を有するグレージングユニット内に組み込まれ得る。

そのような特性を基板に付与することで知られているタイプの膜積層体は、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する金属機能膜、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースの金属機能膜を有する。

このタイプの積層体において、機能膜はこのように二つの反射防止コーティングの間に配置されており、該二つの反射防止コーティングは、一般にそれぞれ複数の膜を有し、該複数の膜は、それぞれが窒化物タイプ、特に窒化ケイ素または窒化アルミニウム、または酸化物タイプの誘電体材料製である。光学的観点において、金属機能膜を挟むこれらのコーティングの目的は、この金属機能膜の「反射を防止する」ことである。

ただし阻止コーティングが、一つまたは各々の反射防止コーティングと金属機能膜との間に挿入されることが時としてあり、基板の方向にある機能膜の下に配置される阻止コーティングは、場合によっては行われ得る型押しおよび／または焼入れタイプの高温での熱処理の際に該膜を保護し、また基板とは反対側にある機能膜の上に配置される阻止コーティングは、上方反射防止コーティングの堆積の際、また場合によっては行われ得る型押しおよび／または焼入れタイプの高温での熱処理の際に、場合によっては起こり得る損傷からこの膜を保護する。

本発明はより詳細には、積層体の内部で中間膜を使用すること、および完全な薄膜積層体を放射源、特に赤外放射源を使って処理することに関する。

特に国際公開第２０１０／１４２９２６号により、積層体の吸収性中間膜を準備すること、および低放射積層体の放射率を低減するためまたは光学特性を改善するために積層体の堆積後の処理を行うことが知られている。処理は、金属機能膜の質を改善すること、したがって放射率（シート抵抗に直接結びつくもの）を低減することを可能にし、また吸収性中間膜の使用は、処理中の積層体の吸収を増大させ、処理が短くても効果的になることを可能にする。吸収性中間膜が処理の際に透明になるため、処理後の積層体の光学特性は興味深いものである（高い光線透過を特に得ることができる）。

しかしながらこの解決案は、特定の用途については完全に満足すべきものではなく、というのも、処理用電力が高いこと、および／または継続時間が比較的長いこと（すなわち、放射源の下を通過する、一般的には一定である基板の速度が遅いこと）が時として必要とされるからである。

国際公開第２００７／１０１９６４号の先行技術により、機能膜より下方の反射防止コーティングが混合酸化物製、好ましくは亜鉛とスズの混合酸化物製の非結晶性誘電体平滑膜を含む、単層機能膜の薄膜積層体がさらに公知である。

この膜が誘電体であるということは、その材料が、吸収性ではないように十分酸化されることが求められているということを意味する。

国際公開第２０１０／１４２９２６号 国際公開第２００７／１０１９６４号

本発明の目的は、単一機能膜を有する膜積層体の新しいタイプ、すなわち低いシート抵抗（つまり低い放射率）、高い光線透過率を処理後に有する積層体を開発すること、ならびに処理がより低い電力で、および／またはより速い速度で実現され得るよう開発することによって、先行技術の不都合の解決に至ることである。

本発明はこのように、その最も広い意味において、一つの面が、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する薄膜積層体で覆われている、請求項１による基板を目的としている。この積層体は、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースである単一の金属機能膜と二つの反射防止コーティングとを有し、前記コーティングはそれぞれ、少なくとも一つの誘電体膜を有し、前記機能膜は、二つの反射防止コーティングの間に配置されている。

本発明によると、前記反射防止コーティングのうちの少なくとも一つは、０．７５（２ｘ＋ｙ）≦ｚ≦０．９５（２ｘ＋ｙ）であり０．１≦ｘ／ｙ≦２．４の比率を伴う亜鉛とスズの酸化物Ｓｎ_xＺｎ_yＯ_zを含み、また２ｎｍ〜２５ｎｍ、さらには２ｎｍ〜１２ｎｍの物理的な厚さを有する中間膜を有する。

中間膜は、準化学量論的な亜鉛とスズの混合酸化物をこのように有し、またこの混合酸化物は吸収性である。

本発明の趣旨において、中間膜が亜鉛とスズの酸化物を有するということは、これら二つの元素が該膜の金属元素の９８〜１００重量％を占めるということ、すなわち、中間層を堆積するためにターゲット金属が使用されるのであればターゲット金属の金属元素の９８〜１００重量％を占めるということを意味する。また、該膜が、例えばアルミニウムおよび／またはアンチモンなどの単数または複数の金属元素を、ターゲットの伝導を改善するためのドーパントとして、または不純物として有し得ることも考えられる。

実際、Ｓｎ_xＺｎ_yＯ_zを含みかつ準化学量論的なそのような膜が、十分に酸化されるために金属膜より少ない酸素供給を必要とすること、また該膜が処理前に誘発した吸収の増大が、処理によって消失することが発見された。この酸素は、隣接する一つまたは二つの誘電体膜によって、および／または処理の雰囲気内に存在する酸素によって、処理の際に該膜に供給される。

こうして、処理が中間膜の温度の上昇を引き起こすために必要とされる電力は、１．５〜３の係数で割ることができ、かつ／または処理速度は、生産性を高めるために１．２〜２．５の係数で増すことができる。

処理後、積層体は、全ての酸化物膜が安定した化学量論を有する、型押し、焼入れ、または焼きなましの高温熱処理を受けた積層体の特性を有するが、しかし基板は、型押し、焼入れ、または焼きなましの高温熱処理を受けた基板の状態を示さない。

本発明による前記中間膜は、積層体の最終膜ではない。すなわち、積層体が上に位置する基板の前記面から最も離れた積層体の膜ではない。

本発明の趣旨での「コーティング」とは、コーティング内に単一の膜または異なる材料の複数の膜があり得ることを理解しなければならない。

通例通り、本発明の趣旨での「誘電体膜」とは、その性質の観点から、膜の材料が「非金属」であること、すなわち金属ではないことを理解しなければならない。本発明の文脈において、この用語は、可視光波長域（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）の全範囲に渡って５以上であるｎ／ｋ比率を有する材料を示す。

本発明の趣旨での「吸収性膜」とは、膜が、可視光波長域（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）の全範囲に渡って０．５より大きい平均係数ｋを有し、また１０^-6Ω・ｃｍより高い固体状態での電気抵抗率（文献において知られている通りのもの）を有する材料であることを理解しなければならない。

ｎが、所定の波長での材料の実際の屈折率を示すこと、また係数ｋが、所定の波長での屈折率の虚部を示すことが喚起される。ｎ／ｋ比率は、ｎについて、およびｋについて、同一の所定の波長で計算される。

本発明による中間膜は、上記の趣旨での吸収性膜である。

本明細書において示される屈折率の値は、通例通り５５０ｎｍの波長で測定される値である。

本発明の趣旨での「〜ベースの膜」とは、膜が、言及される材料を５０原子％より多く含むことを理解しなければならない。

本発明の特定の一つのバージョンにおいて、前記中間膜は、０．５５≦ｘ／ｙ≦０．８３の比率を伴う、亜鉛とスズの酸化物Ｓｎ_xＺｎ_yＯ_zを含む。

特定の一つのバージョンにおいて、前記中間膜は亜鉛とスズの酸化物Ｓｎ_xＺｎ_yＯ_zから成り、いかなる他の元素も含まない。

前記中間膜は、好ましくは、基板の方向にある、前記金属機能膜の下に配置される前記反射防止コーティング内に、窒化物ベースの誘電体膜の上に直接かつ酸化亜鉛を含む湿潤膜の下に直接位置し、窒化物ベースの前記誘電体膜は、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍの物理的な厚さを有し、好ましくは窒化ケイ素Ｓｉ₃Ｎ₄ベースである。

および／または、前記中間膜は、基板とは反対側にある、機能膜より上方の反射防止コーティング内に、前記機能膜の上に直接位置する上方阻止コーティングの上に好ましくは直接位置し得る。

前記金属機能膜の物理的な厚さは、好ましくは６ｎｍ〜１６ｎｍ間のこれらの値を含んだ値に含まれるものであり、かつ５％未満の放射率に達することを目的とするものである。

本発明の特定の別の一バージョンにおいて、機能膜は、機能膜と機能膜より下方の誘電体コーティングとの間に配置される下方阻止コーティングの上に直接堆積され、かつ／または機能膜は、機能膜と、機能膜および下方阻止コーティングより上の誘電体コーティングとの間に配置される上方阻止コーティングの下に直接堆積され、かつ／または上方阻止コーティングは、０．２ｎｍ≦ｅ’ ≦２．５ｎｍのような物理的な厚さｅ’を有するニッケルまたはチタンベースの薄膜を含む。

本発明の別の特定の一つのバージョンにおいて、基板から最も離れた膜である、上方誘電体コーティングの最後の膜は、好ましくは準化学量論的に堆積される酸化物ベースであり、特に酸化チタン（ＴｉＯ_x）ベースである。

積層体はこのように、好ましくは準化学量論的に堆積される最後の膜（英語で「ｏｖｅｒｃｏａｔ」）、すなわち保護膜を有し得る。この膜は、堆積後の積層体において、化学量論的に大部分が酸化された状態である。

本発明は、一つの面が、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースである単一の金属機能膜と二つの反射防止コーティングを有する、本発明にかかる赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する薄膜積層体で覆われている、基板の獲得方法にさらに関しており、該方法は以下の工程を順番に含む：
−特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースである単一の金属機能膜と二つの反射防止コーティングを有する、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する本発明による薄膜積層体の、前記基板の一つの面への堆積、次いで
−好ましくは酸素を含む雰囲気においての、放射源、特に赤外放射源を使った、前記薄膜積層体の処理。

０．７５（２ｘ＋ｙ）≦ｚ≦０．９５（２ｘ＋ｙ）であり０．１≦ｘ／ｙ≦２．４の比率を伴う亜鉛とスズの酸化物Ｓｎ_xＺｎ_yＯ_zを含み、また２ｎｍ〜２５ｎｍ、さらには２ｎｍ〜１２ｎｍの物理的な厚さを有する本発明による膜の、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースの単一の金属機能膜と二つの反射防止コーティングとを有する、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する、本発明による薄膜積層体の中間膜としての利用を想定することが、さらに可能である。

本発明は、シャーシ構造によって一つにまとめて保持される少なくとも二つの基板を有する複層グレージングユニットにさらに関しており、前記グレージングユニットは、外部空間と内部空間との間の仕切りを実現するものであり、該グレージングユニットの中には、少なくとも一つのガスの中間層が二つの基板の間に配置され、一つの基板は本発明によるものである。

好ましくは、少なくとも二つの基板を有する複層グレージングユニット、または少なくとも三つの基板を有する複層グレージングユニットの単一の基板のみが、ガスの中間層と接触している内側面で、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する本発明による薄膜積層体によって覆われている。

本発明によるグレージングユニットは、本発明による積層体を備える基板を少なくとも包含するが、該積層体は場合によっては少なくとも別の一つの基板に結びついている。各基板は、クリアであるかまたは着色されていてよい。少なくとも基板のうちの一つは特に、全体が着色されたガラス製であってよい。着色タイプの選択は、製造完了後のグレージングユニットに求められる光線透過レベル、および／または比色定量アスペクトに依るであろう。

本発明によるグレージングユニットは積層構造を有することができ、該積層構造は、少なくとも一つの熱可塑性ポリマーフィルムによって少なくとも二つのガラスタイプの硬質基板を特に結びつけて、ガラス／薄膜積層体／シート（単数または複数）／ガラス／ガスの中間層／ガラスシートのタイプの構造を示す。ポリマーは特に、ポリビニルブチラールＰＶＢ、エチレン酢酸ビニルＥＶＡ、ポリエチレンテレフタレートＰＥＴ、ポリ塩化ビニルＰＶＣベースであり得る。

有利には本発明はこのように、透明基板上に堆積された状態で、放射源を使った処理後に、８０％を超える高い可視光線透過率Ｔ_L、および４オームパースクエア未満の低いシート抵抗を有する、単層機能膜の薄膜積層体を実現することができ、処理は、より低い電力を必要とするものであり、かつ／またはより速く実現することができるものである。

有利には、放射源を使った処理とは、基板と積層体から成るセット全体の高温熱処理ではない。つまり基板は、放射源を使ったこの処理によって熱処理されない（型押し、焼入れ、または焼きなましではない）。

本発明の詳細および有利な特徴は、以下のような添付の図面を使って説明される、後続の非限定例から明らかになる。

本発明による単層機能膜の積層体であって、機能膜は、下方阻止コーティングの上に直接、また上方阻止コーティングの下に直接堆積され、積層体は、放射源を使った処理が図示されている。 単層機能膜の積層体を組み入れる二重グレージングユニットの一解決案。

これらの図において、様々な膜または様々な構成要素の厚さ間の比は、それらの読み取りを容易にするために厳密には順守されていない。

図１は、透明なガラス基板１０の一つの面１１の上に堆積される、本発明による単層機能膜の積層体１４の構造を示しており、該構造において、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースの単一機能膜１４０は、二つの反射防止コーティングの間、すなわち基板１０の方向にある、機能膜１４０の下に位置する下方反射防止コーティング１２０と、基板１０とは反対側にある、機能膜１４０の上に配置される上方反射防止コーティング１６０との間に配置されている。

これらの二つの反射防止コーティング１２０、１６０はそれぞれ、少なくとも一つの誘電体膜１２２、１２４、１２８また１６２、１６４を有する。

場合によっては、一方では機能膜１４０は、下方反射防止コーティング１２０と機能膜１４０との間に配置される下方阻止コーティング１３０の上に直接堆積され得、また他方では機能膜１４０は、機能膜１４０と上方反射防止コーティング１６０との間に配置される上方阻止コーティング１５０の下に直接堆積され得る。

下方阻止膜および／または上方阻止膜は、金属の形態で堆積されまた金属膜のようであるにも拘らず、実際には酸化膜であるということがあり、というのは、それらの機能（特に上方阻止膜について）のうちの一つが、積層体が堆積する間に酸化して機能膜を保護することだからである。

金属機能膜の上に位置する反射防止コーティング１６０は、面１１から最も離れた積層体の膜である、最終膜１６８で終わる。

図２で示されるように、単層機能膜の積層体が、二重グレージングユニット構造の複層グレージングユニット１００において使用されるとき、このグレージングユニットは、シャーシ構造９０によって一つにまとめて保持され、ガスの中間層１５によって互いに分離されている二つの基板１０、３０を有する。

グレージングユニットは、外部空間ＥＳと内部空間ＩＳとの間の仕切りをこのように実現する。

積層体は、面２（建物内に入り込む太陽光の入射方向を考慮して建物の最も外部側のシートの上、かつガスの層の方に向けられているその面の上）に位置づけされ得る。

図２は、ガスの中間層１５と接触している基板１０の内側面１１の上に位置づけられる薄膜積層体１４の、面２へのこの位置づけを示しており（建物内に入り込む太陽光の入射方向は、二重矢印で示されている）、基板１０のもう一方の面９は、外部空間ＥＳと接触している。

しかしながら、二重グレージングユニットのこの構造において、基板のうちの一つが積層構造を有することもまた検討され得る。

二つの例が、図１で示される積層体構造に基づいて実現された。

これらの二つの例について、機能膜１４０より下の反射防止コーティング１２０は、三つの誘電体膜１２２、１２４、１２８を有し、積層体の第一の膜であり面１１と接触している膜１２２は、中屈折率の膜である。該膜は、窒化物Ｓｉ₃Ｎ₄：Ａｌ製であり、８質量％のアルミニウムをドープされたターゲット金属から堆積される。該膜は、１．９〜２．１、ここで正確には２．０である屈折率を有する。

第二の誘電体膜１２６は、以下でより詳細に記述される中間膜である。

反射防止コーティング１２０の第三の誘電体膜は、金属機能膜１４０の真下に配置される湿潤膜１２８である。

例において、下方阻止コーティング１３０はない。

これらの例について、反射防止膜１２８は「湿潤膜」と呼ばれる。というのも該膜は、ここでは銀製である金属機能膜１４０の結晶化を改良することを可能にするからであり、これにより、その伝導率は向上する。この反射防止膜１２８は、アルミニウムをドープされた酸化亜鉛ＺｎＯ：Ａｌ製である（２質量％のアルミニウムをドープされた亜鉛から成るターゲット金属から堆積される）。

例において、上方阻止コーティング１５０が存在する。

上方反射防止コーティング１６０は、アルミニウムをドープされた酸化亜鉛ＺｎＯ：Ａｌ製である誘電体膜１６２（湿潤膜１２８のために用いられるターゲットと同一のターゲットから、同じ条件において堆積される）、次に誘電体膜１２２と同じ材料での、中屈折率の誘電体膜１６４を含む。

この誘電体コーティング１６０は、特に酸化物ベースのとりわけ酸素が化学量論未満である、任意の保護膜１６８で終わり得る。

以降の全ての例について、膜の堆積条件は以下の通りである。

堆積膜は、このように４つのカテゴリに分類されることができる：
ｉ−可視光波長域の全範囲に渡って５より大きいｎ／ｋ比率を有する、反射防止性／誘電性の材料製膜、すなわちＳｉ₃Ｎ₄：Ａｌ製、ＴｉＯ₂製、ＺｎＯ：Ａｌ製の膜、
ｉｉ−可視光波長域の全範囲に渡って０．５より大きい平均係数ｋと、１０^-6Ω・ｃｍより高い、固体状態での電気抵抗率とを有する吸収性材料製、すなわちＴｉＯ_x製およびＳｎ_xＺｎ_yＯ_z製の中間膜、
ｉｉｉ−赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する材料製すなわちＡｇ製の金属機能膜、
ｉｖ−積層体を堆積する際に機能膜をその性質の変更から保護することを目的とする上方阻止膜および下方阻止膜であり、
それらの光学特性およびエネルギー特性への影響は一般に認められていない。

銀は、可視光波長域の全範囲に渡って０より大きく５未満であるｎ／ｋ比率を有するが、しかし固体状態でのその電気抵抗率が、１０^-6Ω・ｃｍ未満であることが確認された。

二つの例において、薄膜積層体は、ＳＡＩＮＴ−ＧＯＢＡＩＮ社によって供給される、商標Ｐｌａｎｉｌｕｘの厚さ４ｍｍのクリアなソーダ石灰ガラス製の基板の上に堆積される。

これらの二つの例について、
−εは、式：ε＝０．０１０６Ｒに従って、オームパースクエアで測定される積層体のシート抵抗Ｒから算出される、垂直放射率を示す
−Ａ_Lは、２度視野でのＤ６５光源によって測定される、％表示での可視吸光度を示す、
−Ａ₉₈₀は、２度視野でのＤ６５光源によって測定される、特に９８０ｎｍの波長で測定される、％表示での吸光度を示す、
−Ｔ_Lは、２度視野でのＤ６５光源によって測定される、％表示での可視光線透過率を示す、
−ＦＳは、日射透過率、すなわち入射する太陽エネルギーの全てに対する、グレージングユニットを通過して建物内に入り込む太陽エネルギーの全ての割合をパーセント表示で示すものであり、この率は、積層体を備える基板が、４−１６−４の構造（Ａｒ９０％）を有する二重グレージングユニット内に組み込まれると考えて、すなわち各々の厚さが４ｍｍである二枚のガラス製基板が、１６ｍｍの厚さを有するアルゴン９０％および空気１０％から成るガスの層によって分離されていると考えて、計算される。

二つの例が、図１に示される積層体構造であるが下方阻止コーティング１３０のないものにしたがって実現された。

以下の表１は、二つの例の膜のそれぞれの、ナノメートルでの幾何学的な厚さまたは物理的な厚さ（つまり光学上の厚さではない）を示す。

以下の表２は、それぞれ処理前（ＢＴ）および処理後（ＡＴ）の、それぞれ放射率、二つの吸光度および光線通過率については単一の基板１０のみが考えられるときの、また日射透過率ＦＳについては図２のように、基板が二重グレージングユニットの面２、Ｆ２に取り付けられるときの、これらの二つの例の主な光学特性およびエネルギー特性を要約している。

このように、本発明による例２の光学特性およびエネルギー特性は、参照例１の特性とほぼ同一である。

二つの例について、積層体の処理は、全ての膜の堆積後に積層体をダイオードレーザーカーテン２０の下で通過させることからなり、ダイオードは、図１を参照すると積層体の上に位置づけされ、また積層体に向かって発光する（発光は垂直な黒い矢印で示されている）。ダイオードは、９８０ｎｍの波長で発光し、それぞれのダイオードは、１２ｍｍの長さかつ４５μｍの幅で発光する。

しかしながら、完全な積層体で覆われた基板の通過速度は、例１については１１ｍ／分であるのに対し、一方例２については２２ｍ／分である。

前記金属機能膜１４０の下に配置される前記誘電体コーティング１２０内に位置する中間膜が、放射源、特に赤外放射源を使った完全な積層体の後処理によって「再び酸化される」ことができることは、特に驚くべきことである。

上記の例の場合におけるように、この中間膜が、１０〜５０ｎｍの物理的な厚さを有する窒化物ベースの誘電体膜の上に直接、また酸化亜鉛を含む湿潤膜の下に直接あるとき、そのときこの中間膜は、国際公開第２００７／１０１９６４号内で開示されているような平滑効果をさらに有することができる。

５６．５：４３．５重量％のＳｎ：Ｚｎ製のターゲットから堆積される中間膜もまたテストされ、類似の結果を得た。

本発明による中間膜が、目的とする酸素の化学量論に達するために必要な酸素を有するセラミックのターゲットから、酸素のない雰囲気において堆積されることもできるし、または目的とする酸素の化学量論に達するために必要な酸素すべては有さないターゲット金属から、酸素のある雰囲気において堆積されることもできることに注目することが重要である。

本発明は、上記部分において例として記述されている。本発明のさまざまな変形例を当業者が実現することができると理解されるが、だからといって請求項によって定義されるような特許範囲を逸脱するわけではない。

１０ 基板
１１ 面
１４ 薄膜積層体
１２０ 反射防止コーティング
１２２ 誘電体膜
１２８ 反射防止膜
１４０ 金属機能膜
１６０ 反射防止コーティング
１６４ 誘電体膜

Claims (6)

1. 一つの面（１１）が、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する薄膜積層体（１４）で覆われている基板（１０）であり、該積層体が、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースである単一金属機能膜（１４０）と二つの反射防止コーティング（１２０、１６０）とを有し、前記コーティングがそれぞれ、少なくとも一つの誘電体膜（１２２、１６４）を有し、前記機能膜（１４０）が、二つの反射防止コーティング（１２０、１６０）の間に配置されている基板であって、前記反射防止コーティング（１２０、１６０）のうちの少なくとも一つが、０．７５（２ｘ＋ｙ）≦ｚ≦０．９５（２ｘ＋ｙ）であり０．１≦ｘ／ｙ≦２．４の比率を伴う亜鉛とスズの酸化物Ｓｎ_xＺｎ_yＯ_zを含み、また２ｎｍ〜２５ｎｍ、さらには２ｎｍ〜１２ｎｍの物理的な厚さを有する中間膜を有することを特徴とする基板。
2. 前記中間膜が、０．５５≦ｘ／ｙ≦０．８３の比率を伴う、亜鉛とスズの酸化物Ｓｎ_xＺｎ_yＯ_zを含むことを特徴とする、請求項１に記載の基板（１０）。
3. 前記中間膜が、前記金属機能膜（１４０）の下に配置される前記誘電体コーティング（１２０）内の、窒化物ベースの誘電体膜の上に直接、また酸化亜鉛を含む湿潤膜の下に直接位置し、前記窒化物ベースの誘電体膜が、１０ｎｍ〜５０ｎｍの物理的な厚さを好ましくは有し、また好ましくは窒化ケイ素Ｓｉ₃Ｎ₄ベースであることを特徴とする、請求項１または２に記載の基板（１０）。
4. 前記中間膜が、機能膜（１４０）より上方の反射防止コーティング（１６０）内の、前記機能膜（１４０）の上に直接位置する上方阻止コーティング（１５０）の上に、好ましくは直接位置することを特徴とする、請求項１から３のいずれか一つに記載の基板（１０）。
5. シャーシ構造（９０）によって一つにまとめて保持される少なくとも二つの基板（１０、３０）を有する複層グレージングユニット（１００）であって、前記グレージングユニットが、外部空間（ＥＳ）と内部空間（ＩＳ）との間の仕切りを実現するものであり、該グレージングユニットの中には少なくとも一つのガスの中間層（１５）が二つの基板の間に配置され、一つの基板（１０）が請求項１から４のいずれか一つに記載のものである、複層グレージングユニット。
6. 一つの面（１１）が、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースである単一金属機能膜（１４０）と二つの反射防止コーティング（１２０、１６０）を有する、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する薄膜積層体（１４）で覆われている基板（１０）の獲得方法であって、以下の工程を順番に含む方法：
   −請求項１から４のいずれか一つに記載の、特に銀ベースまたは銀を含む金属合金ベースの単一の金属機能膜（１４０）と二つの反射防止コーティング（１２０、１６０）を有する、赤外線および／または太陽放射における反射特性を有する薄膜積層体（１４）の、前記基板（１０）の一つの面（１１）への堆積、
   −好ましくは酸素を含む雰囲気における、放射源、特に赤外放射源を用いた前記薄膜積層体（１４）の処理。

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