RU2733552C2 - Подложка, снабженная тонкослойной системой с термическими свойствами, содержащей по меньшей мере один слой оксида никеля - Google Patents
Подложка, снабженная тонкослойной системой с термическими свойствами, содержащей по меньшей мере один слой оксида никеля Download PDFInfo
- Publication number
- RU2733552C2 RU2733552C2 RU2018123319A RU2018123319A RU2733552C2 RU 2733552 C2 RU2733552 C2 RU 2733552C2 RU 2018123319 A RU2018123319 A RU 2018123319A RU 2018123319 A RU2018123319 A RU 2018123319A RU 2733552 C2 RU2733552 C2 RU 2733552C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- nickel oxide
- functional layer
- specified
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 56
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 45
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 45
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 154
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims abstract description 61
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 61
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 33
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 9
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 claims 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 2
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 15
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 14
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 13
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 11
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 3
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3607—Coatings of the type glass/inorganic compound/metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3613—Coatings of type glass/inorganic compound/metal/inorganic compound/metal/other
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3642—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating containing a metal layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3649—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer made of metals other than silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21K—NON-ELECTRIC LIGHT SOURCES USING LUMINESCENCE; LIGHT SOURCES USING ELECTROCHEMILUMINESCENCE; LIGHT SOURCES USING CHARGES OF COMBUSTIBLE MATERIAL; LIGHT SOURCES USING SEMICONDUCTOR DEVICES AS LIGHT-GENERATING ELEMENTS; LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21K9/00—Light sources using semiconductor devices as light-generating elements, e.g. using light-emitting diodes [LED] or lasers
- F21K9/90—Methods of manufacture
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022466—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/84—Heating arrangements specially adapted for transparent or reflecting areas, e.g. for demisting or de-icing windows, mirrors or vehicle windshields
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
- C03C2218/155—Deposition methods from the vapour phase by sputtering by reactive sputtering
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/153—Constructional details
- G02F1/155—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02167—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
- H01L31/02168—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells the coatings being antireflective or having enhancing optical properties for the solar cells
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение относится к теплоизоляционным и/или солнцезащитным остеклениям и может быть использовано для оснащения как зданий, так и транспортных средств. Техническим результатом является повышение поглощающих и светопропускающих свойств. В частности, предложена прозрачная подложка (30), снабженная на одной главной стороне тонкослойной системой, содержащей по меньшей мере один и даже только один металлический функциональный слой (140), способный отражать инфракрасное и/или солнечное излучение, в частности, на основе серебра или металлического сплава, содержащего серебро, и два просветляющих покрытия (120, 160). Причем каждое из указанных просветляющих покрытий содержит по меньшей мере один диэлектрический слой (122, 126; 162, 168), и указанный функциональный слой (140) расположен между этими двумя просветляющими покрытиями (120, 160). По меньшей мере один слой оксида никеля NixO (155) находится выше и в контакте с функциональным слоем (140) в направлении от указанной подложки (30), и физическая толщина указанного слоя оксида никеля NixO (155) составляет по меньшей мере 0,3 нм, или от 0,6 до 8,0 нм, или же от 1,0 до 5,0 нм. 3 н. и 8 з.п. ф-лы, 3 ил., 3 табл.
Description
Изобретение относится к прозрачной подложке, в частности, из жесткого минерального материала, такого как стекло, причем указанная подложка покрыта тонкослойной системой, содержащей металлический функциональный слой, который может воздействовать на солнечное излучение и/или на инфракрасное излучение с большой длиной волны.
Более конкретно, изобретение относится к применению таких подложек для получения теплоизоляционных и/или солнцезащитных остеклений. Эти остекления могут предназначаться для оснащения как зданий, так и транспортных средств, в частности, чтобы снизить расходы на кондиционирование воздуха, и/или чтобы воспрепятствовать чрезмерному перегреву (так называемые остекления, регулирующие солнечное излучение), и/или чтобы уменьшить количество энергии, рассеиваемой наружу (так называемые низкоизлучательные ("low-e") остекления), что вызвано все возрастающей важностью застекленных поверхностей зданий и кабин транспортных средств.
Кроме того, эти остекления могут быть встроены в оконные стекла, имеющие особые функциональные возможности, как, например, обогреваемее окна или электрохромные окна.
Один известный тип многослойной системы, придающим подложкам такие свойства, образован из металлического функционального слоя, способного отражать инфракрасное и/или солнечное излучение, в частности, металлического функционального слоя на основе серебра или металлического сплава, содержащего серебро.
В тонкослойной системе этого типа функциональный слой находится между двумя просветляющими покрытиями, каждое из которых обычно содержит несколько слоев из диэлектрического материала типа нитрида, в частности, нитрида кремния или алюминия, или типа оксида. С точки зрения оптики, целью этих покрытий, между которыми находится металлический функциональный слой, является "просветлить" этот металлический функциональный слой.
Однако иногда между единственным имеющимся или каждым просветляющим покрытием и металлическим функциональным слоем вводят блокирующее покрытие, и это блокирующее покрытие, находящееся под функциональным слоем в направлении от подложки, защищает его во время возможной высокотемпературной термообработки типа гибки и/или закалки, а блокирующее покрытие, расположенное на функциональном слое на другой стороне от подложки, защищает этот слой от возможного разрушения при осаждении верхнего просветляющего покрытия и во время возможной высокотемпературной термообработки типа гибки и/или закалки.
Известно, например, из европейской патентной заявки EP 718250, что диэлектрический слой, называемый смачивающим, на основе оксида цинка, находящийся непосредственно под металлическим функциональным слоем на основе серебра, в направлении от несущей подложки, облегчает достижение надлежащего кристаллографического состояния металлического функционального слоя, обеспечивая одновременно преимущество выдерживать высокотемпературную термообработку гибки, закалки.
Кроме того, в этом документе раскрывается благоприятный эффект присутствия слоя, осажденного в металлической форме непосредственно на и в контакте с функциональным слоем на основе серебра, для защиты функционального слоя при осаждении других слоев сверху и во время высокотемпературной термообработки. Специалистам этот тип слоя известен под общим названием "блокирующий слой" или "блокатор".
Кроме того, из международной патентной заявки WO 2010/142926 известны различные решения для осуществления мгновенного нагрева ("flash heating" по-английски) тонкослойной системы, содержащей один или несколько функциональных слоев на основе серебра. Обработка путем мгновенного нагрева позволяет повысить качество металлического функционального слоя и, тем самым, уменьшить излучательную способность (которая напрямую связана с поверхностным сопротивлением), а использование промежуточного поглощающего слоя позволяет повысить поглощающую способность тонкослойной системы при обработке, чтобы она была короткой, но эффективной. Так как промежуточный поглощающий слой становится прозрачным при обработке, оптические характеристики тонкослойной системы после обработки будут выгодными (в частности, можно получить повышенное светопропускание).
Целью изобретения является устранить недостатки прежнего уровня техники, разработав новый тип тонкослойной системы с единственным функциональным слоем или с несколькими функциональными слоями, причем эта система должна иметь сниженное поверхностное сопротивление (и, следовательно, сниженную излучательную способность) после одной или нескольких высокотемпературных термообработок типа гибки, и/или закалки, и/или отжига, и/или мгновенного нагрева.
Неожиданно было обнаружено, что присутствие слоя оксида никеля в такой тонкослойной системе имеет очень благоприятное влияние на уменьшение поверхностного сопротивления системы, в случае, когда этот слой оксида никеля находится в прямом контакте и ниже металлического функционального слоя на основе серебра.
Таким образом, объектом изобретения в его самом широком смысле является прозрачная подложка по пункту 1 формулы. Эта подложка снабжена на одной главной стороне тонкослойной системой, содержащей по меньшей мере один и даже только один металлический функциональный слой, способный отражать инфракрасное и/или солнечное излучение, в частности, на основе серебра или металлического сплава, содержащего серебро, и два просветляющих покрытия, причем каждое из указанных просветляющих покрытий содержит по меньшей мере один диэлектрический слой, причем указанный функциональный слой расположен между этими двумя просветляющими покрытиями, по меньшей мере один слой оксида никеля NixO, находится выше и в контакте с функциональным слоем в направлении от указанной подложки, и физическая толщина указанного слоя оксида никеля NixO по меньшей мере 0,3 нм, или от 0,6 до 8,0 нм, или же от 1,0 до 5,0 нм.
Под "металлическим слоем" в контексте настоящего изобретения следует понимать, что слой не содержит ни кислорода, ни азота.
Под "покрытием" в контексте настоящего изобретения следует понимать, что в покрытии может содержаться единственный слой или несколько слоев из разных материалов.
Под "нахождением в контакте" в контексте изобретения понимается, что между рассматриваемыми двумя слоями не имеется никаких других слоев.
Выражение "на основе" в контексте изобретения следует понимать, что обозначенный так элемент или материал присутствует в рассматриваемом слое в количестве более 50 ат.%.
Предпочтительно, имеющийся единственный или несколько функциональных металлических слоев, способных отражать инфракрасное и/или солнечное излучение, являются сплошными слоями.
Действительно, согласно изобретению, слой оксида никеля NixO не содержит никаких других элементов, кроме Ni и O. Материал, образующий этот слой, можно назвать "чистым оксидом никеля".
Выражение "NixO" отражает тот факт, что это может быть Ni1O1, а также что материал, из которого образован слой, может не иметь точно этой стабильной стехиометрии:
- материал слоя может быть немного сверхстехиометрическим по Ni, например, с 0,8 ≤ x < 1, в частности 0,8 ≤ x ≤ 0,95, или
- материал слоя может быть немного субстехиометрическим по Ni, например, с 1 < x ≤ 1,2, в частности, 1,05 ≤ x ≤ 1,2.
В одном частном варианте величина x в указанном слое оксида никеля NixO составляет от 1,2 до 0,5 или же от 0,9 до 0,6.
В одном конкретном варианте слой на основе оксида цинка находится выше, в направлении от указанной подложки, и в контакте с указанным слоем оксида никеля NixO.
Предпочтительно, слой на основе оксида никеля NiyO находится выше и в контакте или ниже и в контакте с указанным слоем оксида никеля NixO, при этом слой оксида никеля, ближайший к указанному функциональному слою, оказывается менее окисленным, чем другой слой оксида никеля, более удаленный от указанного функционального слоя, в направлении от подложки. Действительно, более окисленный слой оксида никеля является лучшим блокирующим слоем, а менее окисленный слой оксида никеля лучше поглощает свет.
Кроме того, предпочтительно, чтобы указанные нижележащее и вышележащее просветляющие покрытия содержали по меньшей мере один диэлектрический слой на основе нитрида кремния, возможно легированного по меньшей мере одним другим элементом, таким как алюминий.
Кроме того, можно, чтобы тонкослойная система содержала другой слой оксида никеля NixO, находящийся ниже функционального слоя и в контакте с ним, причем физическая толщина указанного слоя оксида никеля NixO составляет по меньшей мере 0,3 нм, или от 0,6 до 8,0 нм, или же от 1,0 до 5,0 нм. Величина x предпочтительно одинакова для обоих слоев оксида никеля NixO, чтобы облегчить осаждение.
В противном случае возможно, чтобы металлический слой, в частности, содержащий никель и хром, находился ниже и в контакте с функциональным слоем, при этом физическая толщина указанного металлического слоя составляет по меньшей мере 0,3 нм, или от 0,6 до 8,0 нм или даже от 1,0 до 5,0 нм.
Возможно, кроме того, чтобы другой слой оксида никеля NixO находился ниже указанного функционального слоя в направлении от подложки, в присутствии по меньшей мере одного слоя или единственного слоя из другого материала между указанным слоем оксида никеля NixO и указанным функциональным слоем, при этом слой оксида никеля NixO предпочтительно имеет толщину от 0,3 до 10,0 нм, или от 0,6 до 8,0 нм, или же от 1,0 до 5,0 нм. Это также может благоприятно влиять на кристаллографическое состояние металлического функционального слоя и, следовательно, на поверхностное сопротивление тонкослойной системы.
Тонкослойная система может включать последний слой (по-английски "overcoat"), то есть защитный слой. Этот защитный слой предпочтительно имеет физическую толщину от 0,5 до 10 нм.
Остекление согласно изобретению содержит по меньшей мере подложку, несущую тонкослойную систему по изобретению, возможно в сочетании с по меньшей мере одной другой подложкой. Каждая подложка может быть бесцветной или цветной. В частности, по меньшей мере одна из подложек может быть стеклом, окрашенным в массе. Выбор типа окраски будет зависеть от уровня светопропускания и/или от желаемых цветовых характеристик остекления после его изготовления.
Остекление согласно изобретению может иметь слоистую структуру, в которой, в частности, по меньшей мере две жесткие подложки типа стекла соединены по меньшей мере одним листом термопластичного полимера, с получением структуры типа стекло/тонкослойная система/лист(ы)/стекло. Полимер может быть, в частности, полимером на основе поливинилбутираля PVB, этиленвинилацетата EVA, полиэтилентерефталата PET, поливинилхлорида PVC.
Кроме того, остекление может иметь структуру типа стекло/тонкослойная система/полимерный лист(ы).
Остекления согласно изобретению способны выдерживать термическую обработку без повреждения тонкослойной системы. Следовательно, их можно гнуть и/или закаливать.
Остекление может быть изогнутым и/или закаленным, состоящим из единственной подложки, снабженной тонкослойной системой. В таком случае говорят о монолитном остеклении. В случае когда остекление является изогнутым, в частности, для создания окон для транспортных средств, тонкослойная система предпочтительно находится на стороне, по меньшей мере частично не являющейся плоской.
Остекление может также представлять собой стеклопакет, в частности, однокамерный стеклопакет, при этом по меньшей мере подложка, несущая тонкослойную систему, может быть изогнутой и/или закаленной. В конфигурации стеклопакета предпочтительно, чтобы тонкослойная система располагалась так, чтобы быть обращенной от промежуточной газовой прослойки. В многослойной структуре тонкослойная система может находиться в контакте с полимерным листом.
Остекление может также представлять собой двухкамерный стеклопакет, состоящий из трех стеклянных листов, разделенных попарно слоем газа. В структуре двухкамерного стеклопакета подложка, несущая тонкослойную систему, может находиться на стороне 2 и/или на стороне 5, считая, что в направлении падения солнечный свет проходит через стороны в порядке возрастания их номера.
В случае монолитного остекления или стеклопакета типа однокамерного стеклопакета, двухкамерного стеклопакета или многослойного остекления, по меньшей мере подложка, несущая тонкослойную систему, может представлять собой изогнутое или закаленное стекло, причем эта подложка может подвергаться гибке или закалке до или после осаждения тонкослойной системы.
Таким образом, настоящее изобретение позволяет с успехом реализовать тонкослойную систему с одним металлическим функциональным слоем или с несколькими металлическими функциональными слоями, которая имеет более низкое поверхностное сопротивление после термической обработки, не оказывая негативного влияния на оптические параметры тонкослойной системы.
Детали и предпочтительные характеристики изобретения выявляются из следующих неограничивающих примеров, проиллюстрированных с помощью прилагаемых фигур, показывающих:
- фигура 1: тонкослойная система с единственным функциональным слоем согласно изобретению, причем функциональный слой нанесен непосредственно на нижнее блокирующее покрытие и непосредственно под верхним блокирующим покрытием, причем тонкослойная система показана во время обработки источником, создающим излучение;
- фигура 2: решение с однокамерным стеклопакетом, содержащим тонкослойную систему с единственным функциональным слоем;
- фигура 3: кривая гистерезиса оксида никеля, осажденного из металлической мишени в присутствии кислорода.
На фигурах 1 и 2 пропорции между толщинами разных слоев или разных элементов не соблюдаются, чтобы облегчить их распознавание.
Фигура 1 показывает структуру тонкослойной системы 35 с единственным функциональным слоем согласно изобретению, осажденным на сторону 29 прозрачной стеклянной подложки 30, причем единственный функциональный слой 140, в частности, на основе серебра или металлического сплава, содержащего серебро, находится между двумя просветляющими покрытиями, при этом нижележащее просветляющее покрытие 120 находится ниже функционального слоя 140 в направлении от подложки 30, а вышележащее просветляющее покрытие 160 находится выше функционального слоя 140 напротив подложки 30.
Каждое из этих двух просветляющих покрытий 120, 160 содержит по меньшей мере один диэлектрический слой 122, 126; 162, 168, предпочтительно, каждое содержит по меньшей мере два диэлектрических слоя: в каждом диэлектрическом покрытии один диэлектрический слой 126, 162, предпочтительно на основе оксида цинка, находится ближе к функциональному слою 140, а диэлектрический слой 122, 168, предпочтительно на основе нитрида кремния, находится дальше от функционального слоя 140.
Факультативно, функциональный слой 140 может быть осажден, с одной стороны, непосредственно на нижнее блокирующее покрытие 130, находящееся между нижележащим просветляющим покрытием 120 и функциональным слоем 140, а с другой стороны, функциональный слой 140 может быть осажден непосредственно под верхним блокирующим покрытием 150, находящимся между функциональным слоем 140 и вышележащим просветляющим покрытием 160.
Нижний и/или верхний блокирующие слои, хотя они осаждены в металлической форме и представлены как металлические слои, на практике иногда оказываются окисленными слоями, так как одной из их функций (в частности, для верхнего блокирующего слоя) является окисляться в ходе осаждения тонкослойной системы, чтобы защищать функциональный слой.
Согласно изобретению, по меньшей мере один слой оксида никеля NixO (слой 155 в таблице 1 ниже) находится выше и в контакте с указанным функциональным слоем 140 в направлении от указанной подложки 30, при этом физическая толщина указанного слоя оксида никеля NixO 155 составляет по меньшей мере 0,3 нм, или от 0,6 до 8,0 нм, или же от 1,0 до 5,0 нм.
Когда тонкослойная система используется в стеклопакете 100 однокамерной структуры, показанной на фигуре 2, это остекление содержит две подложки 60, 30, которые удерживаются вместе рамной конструкцией 90 и которые отделены друг от друга промежуточным слоем газа 19. Таким образом, каждая подложка 30, 60 содержит соответственно внутреннюю сторону 29, 61 в контакте с промежуточным газовым слоем 19, а другая сторона 31, 59 подложки 30, 60 находится в контакте с внутренним пространством IS или, соответственно, наружным пространством ES.
Таким образом, остекление обеспечивает разделение между наружным ES и внутренним IS пространством.
Тонкослойная система может быть размещена на стороне 3 (на листе, находящемся ближе всего к внутреннему пространству здания, учитывая направление падения солнечного света, входящего в здание, и на его стороне, обращенной к газовой прослойке).
Фигура 2 показывает это расположение (направление падающего солнечного света, входящего в здание, показано двойной стрелкой) на стороне 3 тонкослойной системы 35, размещенной на внутренней стороне 29 подложки 30 в контакте с промежуточной газовой прослойкой 19, при этом другая сторона 31 подложки 30 находится в контакте с внутренним пространством IS.
Однако допустимо также, чтобы в этой структуре однокамерного стеклопакета одна из подложек имела многослойную структуру.
Для всех нижеследующих примеров условия осаждения слоев были следующими:
Слой | Используемая мишень | Давление при осаждении | Газ |
Si3N4 | Si:Al=92:8 вес.% | 1,5·10-3 мбар | Ar/(Ar+N2) =22% |
ZnO | Zn:O=50:50 ат.% | 2·10-3 мбар | Ar/(Ar+O2)=90% |
SnZnO | Zn:Sn=55:45 ат.% | 2·10-3 мбар | Ar/(Ar+O2)=30% |
NiCr | Ni:Cr=80:20 ат.% | 8·10-3 мбар | Ar=100% |
NixO | Ni | 5·10-3 мбар | Ar/(Ar+O2)=87% |
NiyO | Ni | 5·10-3 мбар | Ar/(Ar+O2)=81% |
Ag | Ag | 8·10-3 мбар | Ar=100% |
Таким образом, осажденные слои можно разделить на четыре класса:
i - слои из просветляющего/диэлектрического материала, имеющие отношение n/k во всем диапазоне длин волн видимого спектра больше 5: Si3N4, ZnO;
ii - металлические функциональные слои из материала, способного отражать инфракрасное и/или солнечное излучение: Ag. Было установлено, что серебро имеет отношение 0 < n/k < 5 во всем диапазоне длин волн видимого спектра, и его удельное электрическое сопротивление в твердом состоянии меньше 10-6 Ом·см;
iii - нижний блокирующий и верхний блокирующие слои, предназначенные для защиты функционального слоя от изменения его природы при осаждении тонкослойной системы;
iv - слой оксида никеля NixO и NiyO; условия осаждения этих двух слоев показаны на фигуре 3.
Следует отметить, что была исследована также керамическая мишень из Ni1O1, что привело к результатам, близким к установленным с примерами ниже.
Во всех нижеследующих примерах тонкослойная система осаждена на подложку из бесцветного кальций-натриевого стекла толщиной 4 мм марки Planiclear, выпускаемого фирмой SAINT-GOBAIN.
В таблице 1 колонка "№" указывает номер слоя, вторая колонка указывает покрытие в соответствии с конфигурацией с фигуры 1, и третья колонка указывает материал, осажденный для слоя из первой колонки.
В таблице 1 подложка 30 находится под слоем 122, а слои в примерах расположены в порядке, указанном в левой колонке, снизу вверх, начиная от подложки 30; таким образом, слои, пронумерованные в этих таблицах, но не показанные на фигуре 1, расположены в примерах так, как указано в таблице 1.
Таблица 1
Пример | 1 | 50 | 51 | 52 | 53 | 54 | ||
№ | ||||||||
168 | 160 | Si3N4 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 |
165 | NixO | - | - | 1 | - | - | 1 | |
162 | ZnO | 5 | 5 | - | - | - | 5 | |
156 | 150 | NiyO | - | - | 1 | - | - | 1 |
155 | Ni x O | - | 3 | 1 | 2 | 2 | - | |
154 | NiyO | - | - | - | 1 | 1 | - | |
152 | NiCr | 1 | - | - | - | - | - | |
140 | 140 | Ag | 10 | 10 | 10 | 10 | 10 | 10 |
130 | 130 | NiCr | 1 | 1 | 1 | 1 | - | 1 |
126 | 120 | ZnO | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 |
122 | Si3N4 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 |
В серии примеров из таблицы 1 для примеров 50-54 слой оксида никеля 154, и/или 155, и/или 156 находится в верхнем блокирующем покрытии 150 и находится в контакте с металлическим функциональным слоем 140.
Оксид никеля NiyO слоя 154 или 156 отличается от оксида никеля NixO в слое 155: согласно фигуре 3, которая показывает кривую гистерезиса оксида никеля, осажденного из металлической мишени в окислительной атмосфере (по оси абсцисс отложен поток кислорода в sccm (стандартные кубические сантиметры в минуту), а по оси ординат напряжение, приложенное к краям мишени), слой NixO осажден в нормальных условиях, что приводит к оксиду, обогащенному кислородов (иными словами, сверхстехиометрическому по кислороду, или стехиометрическому по кислороду, или же немного субстехиометрическому по кислороду), тогда как слой NiyO осажден в условиях, ведущих к оксиду, обогащенному Ni (другими словами, сильно субстехиометрическому по кислороду). Использование слоя NiyO ведет к получению более высокого поглощения света.
Таблица 2
Пример | 1 | 50 |
R (Ом/квадрат) | 4,7 | 4,3 (-9%) |
Abs (%) | 9,4 | 10,5 |
Приведенные в таблице 2 характеристики подложки, покрытой тонкослойной системой, представляют собой результаты измерений после термической обработки закалкой при 650°C в течение 10 минут с последующим охлаждением:
- поверхностного сопротивления R (в Ом/квадрат), измеренного, как обычно, с четырехточечным зондом, и
- поглощения света в видимой части спектра (Abs), в %, измеренного с осветителем D65 при 2° со стороны, противоположной основной стороне, на которую осаждена тонкослойная система.
Величины в скобках указывают улучшение (снижение) поверхностного сопротивления по сравнению с эталоном, которым является пример 1.
Термическая обработка могла бы состоять в проведении подложки 30 со скоростью 10 м/мин под лазерной линией 8. В качестве примера, такая лазерная линия может иметь ширину 60 мкм и мощность 25 Вт/мм и быть ориентированной перпендикулярно стороне 29 в направлении конечного слоя тонкослойной системы, наиболее удаленного от стороны 29, то есть при расположении лазерной линии (показана прямой черной стрелкой) над тонкослойной системой и ориентации лазера в направлении тонкослойной системы, как показано на фигуре 1.
Были проведены другие опыты со слоем оксида никеля NixO 155 толщиной 1 нм, эти опыты дали близкие результаты.
Другие опыты были проведены с металлическим функциональным слоем из серебра толщиной 15 нм, эти опыты дали близкие результаты.
Кроме того, были проведены опыты на базе примера 50, чтобы попытаться понять, может ли способ осаждения слоя 155 из NixO влиять на полученное улучшение. Действительно, слой NixO можно получить:
i. либо путем распыления металлической мишени, содержащей только Ni, в атмосфере, содержащей кислород, или же, дополнительно, нейтральный газ, как аргон;
ii. либо путем распыления так называемой "керамической" мишени, содержащей одновременно Ni и кислород, в атмосфере, содержащей инертный газ, как аргон, или же, дополнительно, кислород.
Оказалось, что в обоих случаях были получены близкие результаты при идентичной толщине слоя 155 из NixO.
Кроме того, было установлено, что удельное сопротивление NixO, осажденного в соответствии с вышеуказанным вариантом i, перед термической обработкой составляло порядка 190 мкОм·см, то есть значение, близкое к удельному сопротивлению ITO (около 200 мкОм·см) и намного выше, чем удельное сопротивление серебра, использовавшегося для функционального слоя 140, которое составляет порядка 3 мкОм·см; после термической обработки при 650°C в течение 10 минут удельное сопротивление этого же NixO, осажденного в соответствии с вышеуказанным вариантом i, снизилось до примерно 30 мкОм·см.
Измеряли также механическую прочность для примера 50 и сравнивали с прочностью в примере 1: она была такой же хорошей и иногда даже лучше для высоких нагрузок.
Благодаря полученному низкому поверхностному сопротивлению, а также хорошим оптическим свойствам (в частности, светопропускание в видимой части спектра), подложку, покрытую тонкослойной системой согласно изобретению, можно также использовать для получения прозрачной электродной подложки.
Вообще говоря, прозрачная электродная подложка может быть пригодна для любого обогреваемого остекления, для любого электрохромного остекления, для любого экрана визуализации, или же для фотоэлектрического элемента (или панели), в частности, для задней стороны прозрачного фотоэлемента.
Настоящее изобретение описано выше в качестве примера. Разумеется, специалист способен реализовать различные варианты изобретения, не выходя за объем патента, который определен в формуле изобретения.
Claims (11)
1. Прозрачная подложка (30), снабженная на одной главной стороне тонкослойной системой, содержащей по меньшей мере один и даже только один металлический функциональный слой (140), способный отражать инфракрасное и/или солнечное излучение, в частности, на основе серебра или металлического сплава, содержащего серебро, и два просветляющих покрытия (120, 160), причем каждое из указанных просветляющих покрытий содержит по меньшей мере один диэлектрический слой (122, 126; 162, 168), и указанный функциональный слой (140) расположен между этими двумя просветляющими покрытиями (120, 160), отличающаяся тем, что по меньшей мере один слой оксида никеля NixO (155) находится выше и в контакте с функциональным слоем (140) в направлении от указанной подложки (30), и физическая толщина указанного слоя оксида никеля NixO (155) составляет по меньшей мере 0,3 нм, или от 0,6 до 8,0 нм, или же от 1,0 до 5,0 нм.
2. Подложка (30) по п. 1, отличающаяся тем, что значение x в указанном слое оксида никеля NixO (155) составляет от 1,2 до 0,5 или же от 0,9 до 0,6.
3. Подложка (30) по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что слой на основе оксида цинка находится выше и в контакте с указанным слоем оксида никеля NixO (155).
4. Подложка (30) по любому из пп. 1-3, отличающаяся тем, что слой оксида никеля NiyO (154, 156) находится выше и в контакте и/или ниже и в контакте с указанным слоем оксида никеля NixO (155), причем слой оксида никеля, ближайший к указанному функциональному слою (140), является менее окисленным, чем другой, более удаленный, слой оксида никеля.
5. Подложка (30) по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что каждое из указанных нижележащего (120) и вышележащего (160) просветляющих покрытий содержит по меньшей мере один диэлектрический слой (122, 168) на основе нитрида кремния, возможно легированный по меньшей мере одним другим элементом, таким как алюминий.
6. Подложка (30) по любому из пп. 1-5, отличающаяся тем, что дополнительный слой оксида никеля NixO находится ниже и в контакте с функциональным слоем (140), причем физическая толщина указанного слоя оксида никеля NixO составляет по меньшей мере 0,3 нм, или от 0,6 до 8,0 нм, или же от 1,0 до 5,0 нм.
7. Подложка (30) по любому из пп. 1-6, отличающаяся тем, что металлический слой, в частности, содержащий никель и хром, находится ниже и в контакте с функциональным слоем (140), при этом физическая толщина указанного металлического слоя составляет по меньшей мере 0,3 нм, или от 0,6 до 8,0 нм, или же от 1,0 до 5,0 нм.
8. Подложка (30) по любому из пп. 1-7, отличающаяся тем, что дополнительный слой оксида никеля NixO находится ниже указанного функционального слоя (140) в направлении от подложки (30), причем между указанным слоем оксида никеля NixO и указанным функциональным слоем (140) находится по меньшей мере один слой или единственный слой из другого материала, при этом слой оксида никеля NixO предпочтительно имеет толщину от 0,3 до 10,0 нм, или от 0,6 до 8,0 нм, или же от 1,0 до 5,0 нм.
9. Остекление (100), включающее по меньшей мере одну подложку (30) по любому из пп. 1-8, возможно в сочетании с по меньшей мере одной другой основой.
10. Остекление (100) по п. 9, установленное в монолитное стекло, или в стеклопакет типа однокамерного или двухкамерного стеклопакета, или в многослойное стекло, отличающееся тем, что по меньшей мере подложка, несущая тонкослойную систему, является изогнутой и/или закаленной.
11. Применение подложки по любому из пп. 1-8 для получения прозрачного электрода обогреваемого остекления, или электрохромного остекления, или осветительного устройства, или устройства визуализации, или фотоэлектрической панели.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1561721 | 2015-12-02 | ||
FR1561721A FR3044657B1 (fr) | 2015-12-02 | 2015-12-02 | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques comportant au moins une couche en oxyde de nickel. |
PCT/FR2016/053171 WO2017093676A1 (fr) | 2015-12-02 | 2016-12-01 | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques comportant au moins une couche en oxyde de nickel |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2018123319A RU2018123319A (ru) | 2020-01-14 |
RU2018123319A3 RU2018123319A3 (ru) | 2020-04-10 |
RU2733552C2 true RU2733552C2 (ru) | 2020-10-05 |
Family
ID=55411551
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2018123319A RU2733552C2 (ru) | 2015-12-02 | 2016-12-01 | Подложка, снабженная тонкослойной системой с термическими свойствами, содержащей по меньшей мере один слой оксида никеля |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10457590B2 (ru) |
EP (1) | EP3383812A1 (ru) |
JP (1) | JP2019503895A (ru) |
KR (1) | KR20180090839A (ru) |
CN (1) | CN108602716A (ru) |
BR (1) | BR112018011069A2 (ru) |
CA (1) | CA3006870A1 (ru) |
CO (1) | CO2018006931A2 (ru) |
FR (1) | FR3044657B1 (ru) |
MX (1) | MX2018006763A (ru) |
RU (1) | RU2733552C2 (ru) |
WO (1) | WO2017093676A1 (ru) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114214314A (zh) | 2014-06-24 | 2022-03-22 | 生物辐射实验室股份有限公司 | 数字式pcr条码化 |
FR3044658B1 (fr) * | 2015-12-02 | 2017-12-15 | Saint Gobain | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques comportant au moins une couche en oxyde de nickel. |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EA015326B1 (ru) * | 2006-03-29 | 2011-06-30 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | Термостойкая многослойная система c низкой излучательной способностью для прозрачных подложек |
EA017695B1 (ru) * | 2006-03-06 | 2013-02-28 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | Остекление |
WO2013055495A1 (en) * | 2011-10-12 | 2013-04-18 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-e coating having absorbing layer over functional layer designed to increase outside reflectance |
RU2528730C2 (ru) * | 2009-04-29 | 2014-09-20 | Гардиан Индастриз Корп. | ПОКРЫТОЕ ИЗДЕЛИЕ С НИЗКОЭМИССИОННЫМ ПОКРЫТИЕМ, ИМЕЮЩИМ СЛОЙ ОКСИДА ТИТАНА И/ИЛИ СЛОЙ(И) НА ОСНОВЕ NiCr ДЛЯ УЛУЧШЕНИЯ ЦВЕТОВЫХ ЗНАЧЕНИЙ И/ИЛИ КОЭФФИЦИЕНТА ПРОПУСКАНИЯ, И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ |
EP2892857A2 (en) * | 2012-09-07 | 2015-07-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-e coating having absorbing layers for low film side reflectance and low visible transmission |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6576349B2 (en) * | 2000-07-10 | 2003-06-10 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable low-E coated articles and methods of making same |
US6445503B1 (en) | 2000-07-10 | 2002-09-03 | Guardian Industries Corp. | High durable, low-E, heat treatable layer coating system |
US6936347B2 (en) * | 2001-10-17 | 2005-08-30 | Guardian Industries Corp. | Coated article with high visible transmission and low emissivity |
US6602608B2 (en) * | 2001-11-09 | 2003-08-05 | Guardian Industries, Corp. | Coated article with improved barrier layer structure and method of making the same |
US7087309B2 (en) * | 2003-08-22 | 2006-08-08 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with tin oxide, silicon nitride and/or zinc oxide under IR reflecting layer and corresponding method |
US7217461B2 (en) * | 2004-09-01 | 2007-05-15 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method |
US7597962B2 (en) * | 2005-06-07 | 2009-10-06 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with IR reflecting layer and method of making same |
US8409717B2 (en) * | 2008-04-21 | 2013-04-02 | Guardian Industries Corp. | Coated article with IR reflecting layer and method of making same |
FR2985724B1 (fr) * | 2012-01-16 | 2014-03-07 | Saint Gobain | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques comportant quatre couches fonctionnelles metalliques. |
FR3013043B1 (fr) * | 2013-11-08 | 2015-11-20 | Saint Gobain | Substrat revetu d'un empilement a couches fonctionnelles presentant des proprietes mecaniques ameliorees |
US10091789B2 (en) * | 2015-08-19 | 2018-10-02 | Qualcomm, Incorporated | Re-contention-based co-existence on a shared communication medium |
FR3044658B1 (fr) * | 2015-12-02 | 2017-12-15 | Saint Gobain | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques comportant au moins une couche en oxyde de nickel. |
-
2015
- 2015-12-02 FR FR1561721A patent/FR3044657B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2016
- 2016-12-01 CA CA3006870A patent/CA3006870A1/fr not_active Abandoned
- 2016-12-01 JP JP2018528768A patent/JP2019503895A/ja active Pending
- 2016-12-01 US US15/780,884 patent/US10457590B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2016-12-01 EP EP16819143.5A patent/EP3383812A1/fr not_active Withdrawn
- 2016-12-01 BR BR112018011069-8A patent/BR112018011069A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2016-12-01 RU RU2018123319A patent/RU2733552C2/ru active
- 2016-12-01 MX MX2018006763A patent/MX2018006763A/es unknown
- 2016-12-01 CN CN201680080883.9A patent/CN108602716A/zh active Pending
- 2016-12-01 KR KR1020187018223A patent/KR20180090839A/ko unknown
- 2016-12-01 WO PCT/FR2016/053171 patent/WO2017093676A1/fr active Application Filing
-
2018
- 2018-06-29 CO CONC2018/0006931A patent/CO2018006931A2/es unknown
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EA017695B1 (ru) * | 2006-03-06 | 2013-02-28 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | Остекление |
EA015326B1 (ru) * | 2006-03-29 | 2011-06-30 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | Термостойкая многослойная система c низкой излучательной способностью для прозрачных подложек |
RU2528730C2 (ru) * | 2009-04-29 | 2014-09-20 | Гардиан Индастриз Корп. | ПОКРЫТОЕ ИЗДЕЛИЕ С НИЗКОЭМИССИОННЫМ ПОКРЫТИЕМ, ИМЕЮЩИМ СЛОЙ ОКСИДА ТИТАНА И/ИЛИ СЛОЙ(И) НА ОСНОВЕ NiCr ДЛЯ УЛУЧШЕНИЯ ЦВЕТОВЫХ ЗНАЧЕНИЙ И/ИЛИ КОЭФФИЦИЕНТА ПРОПУСКАНИЯ, И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ |
WO2013055495A1 (en) * | 2011-10-12 | 2013-04-18 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-e coating having absorbing layer over functional layer designed to increase outside reflectance |
EP2892857A2 (en) * | 2012-09-07 | 2015-07-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-e coating having absorbing layers for low film side reflectance and low visible transmission |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR112018011069A2 (pt) | 2018-11-21 |
JP2019503895A (ja) | 2019-02-14 |
RU2018123319A (ru) | 2020-01-14 |
WO2017093676A1 (fr) | 2017-06-08 |
US20180282206A1 (en) | 2018-10-04 |
CN108602716A (zh) | 2018-09-28 |
CA3006870A1 (fr) | 2017-06-08 |
EP3383812A1 (fr) | 2018-10-10 |
FR3044657A1 (fr) | 2017-06-09 |
RU2018123319A3 (ru) | 2020-04-10 |
KR20180090839A (ko) | 2018-08-13 |
CO2018006931A2 (es) | 2018-07-19 |
US10457590B2 (en) | 2019-10-29 |
FR3044657B1 (fr) | 2017-12-15 |
MX2018006763A (es) | 2018-08-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2183102B1 (en) | Vehicle transparency | |
EP1476300B1 (en) | Solar control coating | |
EP2212107B1 (en) | Electromagnetic radiation shielding device | |
US20090011205A1 (en) | Vehicle transparency | |
KR20090064438A (ko) | 개선된 선택도를 구비한 다중 글레이징 유닛 및 그러한 글레이징 유닛을 제작하기 위한 기판의 사용 | |
KR20180048917A (ko) | 강화된 태양광 제어 성능을 갖는 태양광 제어 코팅 | |
KR20100123875A (ko) | 열적 특성을 갖는 스택을 구비한 기판 | |
KR101499288B1 (ko) | 저방사 코팅막 및 이를 포함하는 건축 자재 | |
KR20150058385A (ko) | 열적 특성을 갖는 스택 및 흡수 층이 제공된 기판 | |
RU2733552C2 (ru) | Подложка, снабженная тонкослойной системой с термическими свойствами, содержащей по меньшей мере один слой оксида никеля | |
RU2721608C2 (ru) | Подложка, снабженная набором с термическими свойствами, содержащим по меньшей мере один слой из оксида никеля | |
US10472881B2 (en) | Substrate provided with a stack having thermal properties and a superstoichiometric intermediate layer | |
JP6622798B2 (ja) | 熱特性および準化学量論的な中間膜を有する積層体を備えた基板 | |
RU2731597C2 (ru) | Подложка, снабженная тонкослойной системой с термическими свойствами, содержащей по меньшей мере один слой оксида никеля | |
US10618252B2 (en) | Solar control coating for laminated glazing | |
US20200317566A1 (en) | Solar-control glazing | |
US20200317565A1 (en) | Solar-control glazing |