JP2017534895A - センサ、オブジェクト位置決めシステム、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2014年9月2日に出願された欧州特許出願第14183218.8号の利益を請求し、参照により全体として本明細書に取り入れられる。
− 位置決めすべきオブジェクトと、
− 基準に対して1以上の自由度でオブジェクトの位置を決定するための測定システムと、
− オブジェクトを位置決めするためのアクチュエータシステムと、
− 測定システムの出力に依存してアクチュエータシステムを駆動するように構成された制御システムと、を含み、
測定システムが本発明による1つ以上のセンサを含む、オブジェクト位置決めシステムが提供される。
− 放射ビームB(例えばUV放射又はEUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTa又はWTbと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSと、を備える。
− 例えば図1に示されている基板テーブルWT又は支持構造MTなど、基準RE、例えば投影システムPSに対して位置決めすべきオブジェクトOBと、
− 基準REに対して、例えば並進方向X、Y又は回転方向Rzに、1以上の自由度でオブジェクトの位置を測定するための測定システムMSと、
− 好ましくはオブジェクトOBに力Fを加えることにより、オブジェクトOBを位置決めするために1つ以上のアクチュエータを備えたアクチュエータシステムASと、
− 測定システムMSの出力OPとオブジェクトOBの所望の位置を表す設定点SPとに依存してアクチュエータシステムASを駆動するように構成された制御システムCSと、
を含む。
Claims (10)
- 第1の剪断モード圧電変換器と第2の剪断モード圧電変換器とを含むセンサであって、
前記第1の剪断モード圧電変換器及び前記第2の剪断モード圧電変換器のそれぞれが、それぞれの底面とそれぞれの上面とを含み、
前記それぞれの上面同士が互いに強固に接続され、
前記それぞれの底面が測定すべきオブジェクトに取り付けられるように構成され、
前記第1の剪断モード圧電変換器及び前記第2の剪断モード圧電変換器のそれぞれが、前記それぞれの上面と前記それぞれの底面との間に配置された少なくとも2つの剪断モード圧電副変換器のそれぞれのスタックを含み、
それぞれのスタックにおいて、前記副変換器のうちの隣接した副変換器同士が反対の分極を有する、センサ。 - それぞれのスタックが、偶数の副変換器を含む、請求項1に記載のセンサ。
- 前記センサが、前記第1の剪断モード圧電変換器及び前記第2の剪断モード圧電変換器の剪断の結果発生する電荷の内部生成を読み出すように動作する読み出し電子機器を含み、
前記読み出し電子機器が、前記2つの圧電変換器の間に位置決めされる、請求項1又は2に記載のセンサ。 - 前記それぞれの上面同士がビームによって一緒に強固に接続され、
前記ビームの縦方向に、前記ビームが、追加の剛性のために1つ以上の突出部又は脚部がそこから伸びる実質的に長方形の断面を有する、請求項1から3の何れか一項に記載のセンサ。 - 前記断面が、U字形又はH字形を有する、請求項4に記載のセンサ。
- 前記それぞれの上面同士が、リチウムアルミノシリケートガラスセラミックを含む材料で作られたビームによって一緒に強固に接続される、請求項4に記載のセンサ。
- 前記第1の剪断モード圧電変換器が第1の側面を有し、
前記第2の剪断モード圧電変換器が第2の側面を有し、
前記第1の側面及び前記第2の側面が互いに向き合い、互いに取り付けられる、請求項1又は2に記載のセンサ。 - 位置決めすべきオブジェクトと、
基準に対して1以上の自由度で前記オブジェクトの位置を決定するための測定システムと、
前記オブジェクトを位置決めするためのアクチュエータシステムと、
前記測定システムの出力に依存して前記アクチュエータシステムを駆動するように構成された制御システムと、
を含むオブジェクト位置決めシステムであって、
前記測定システムが、請求項1から6の何れか一項に記載の1つ以上のセンサを含む、オブジェクト位置決めシステム。 - 放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持部であって、前記パターニングデバイスが前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成できる、支持部と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分に前記パターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
オブジェクト位置決めシステムであって、
位置決めすべきオブジェクトと、
基準に対して1以上の自由度で前記オブジェクトの位置を決定するための測定システムと、
前記オブジェクトを位置決めするためのアクチュエータシステムと、
前記測定システムの出力に依存して前記アクチュエータシステムを駆動するように構成された制御システムと、を含み、
前記オブジェクトが、前記支持部及び前記基板テーブルのうちの1つであり、
前記測定システムが、請求項1から6の何れか一項に記載の1つ以上のセンサを含む、オブジェクト位置決めシステムと、
を含む、リソグラフィ装置 - 放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持部であって、前記パターニングデバイスが前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成できる、支持部と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分に前記パターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
を含むリソグラフィ装置であって、
前記基板テーブルに、請求項1から7の何れか一項に記載の前記センサを含むセンサシステムが設けられる、リソグラフィ装置。
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