JP2017532432A - 光学的に透明な接着剤を用いるた直接接合によるナノサイズ化金属をベースとした新しい導電体の保護 - Google Patents

光学的に透明な接着剤を用いるた直接接合によるナノサイズ化金属をベースとした新しい導電体の保護 Download PDF

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Abstract

本発明は、導電体を安定化する接着剤組成物である。接着剤組成物は、ベースポリマーと、ベンゾトリアゾール類又はベンゾフェノン類などの、紫外線を吸収するための添加物とを含む。接着剤組成物が導電体と接触しているとき、約５００時間の期間にわたって、導電体の電気抵抗の変化は約２０％未満である。

Description

本発明は、光学的に透明な接着剤組成物に関する。特に、本発明は、導電体（導体）を安定化することのできる光学的に透明な接着剤組成物に関する。
透明な導電性フィルムは、過去数十年にわたり、タッチパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンス照明、有機発光ダイオードデバイス、及び太陽光電池などの広範な用途において使用されてきた。ほとんどの用途に関し、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）ベースの透明な導電性フィルムが選択されている。しかしながら、ＩＴＯベースの透明な導電性フィルムは複雑で高額な装置及びプロセスを必要とし、（純金属と比較して）相対的に抵抗が大きく、本質的に脆性であり、クラックを生じる傾向があることから、特にフレキシブル性基材に配置する場合に制限を有する。金属のナノ粒子、ナノロッド、及びナノワイヤーをベースとした新しい導電体には、ここ数年で顕著な技術革新が見られる。プリントパターン、ランダム化パターン（視認性及びモアレを最小化するため）、及び金属メッシュ（ナノサイズ化金属物質に由来）は、エレクトロニクス産業においてその魅力をはるかに増している。銀及び銅ベースの金属導体がおそらく最も一般的なものである。具体例には銀ナノワイヤー（ＳＮＷ）がある。ＳＮＷベースのフィルムは、穏当な費用にて高電導性（高伝導度）、高光透過率、優れたフレキシブル性、及び柔軟性をもたらすことから、多くの用途において、特により薄型かつフレキシブル性のデバイスに関し、ＩＴＯの望ましい代替物となる。
しかしながら、ＳＮＷは光及び環境への暴露により影響を受けやすい場合があり、ＳＮＷの安定性を長期にわたり維持することは非常に難しい。このような例の１つに、ディスプレイの視認領域内及び／又は表示端部（ink edge）（ディスプレイ周囲にある、黒白の表示境界）付近において、ＳＮＷベースのタッチパネルの導電配線が紫外線により分解（degradation：劣化）されるというものがある。この分解は、おそらくＳＮＷの光酸化に起因し、導電性の急な低下を招き、ひいてはタッチパネル機能の喪失も招く恐れがある。いくつかの文献では、いわゆる銀のプラズモン共鳴が、銀の酸化銀への酸化を促進し得ることを示唆している。
一実施形態では、本発明は、導電体を安定化する接着剤組成物である。接着剤組成物は、ベースポリマーと、ベンゾトリアゾール類又はベンゾフェノン類などの紫外線吸収剤と、を含む。接着剤組成物が導電体を被覆しているとき、約５００時間の光暴露期間にわたって、導電体の電気抵抗の変化は約２０％未満である。
別の実施形態では、本発明は、導電体を安定化する方法である。方法は、接着剤組成物を提供することと、導電体に接着剤組成物を被覆又は積層することとを含む。接着剤組成物は、ベースポリマーと、紫外線を吸収するための添加物と、を含む。接着剤組成物が導電体を被覆しているとき、約５００時間の光暴露期間にわたって、導電体の電気抵抗の変化は約２０％未満である。
銀ナノワイヤーフィルムの電気抵抗の変化を測定するための、サンプル構造体の上面図である。 銀ナノワイヤーフィルムの電気抵抗の変化を測定するための、図１Ａに示すサンプル構造体の側面図である。
これらの図は、正確な縮尺では描かれておらず、単に例示の目的を意図するものに過ぎない。
本発明は、様々な光暴露条件下でナノワイヤーセンサーに安定性をもたらす、光学的に透明な接着剤（ＯＣＡ）組成物である。光学的に透明な接着剤組成物は、ベースポリマーと、紫外線を吸収するための添加物と、を含む。ベースポリマーは、任意の光学的に透明な接着剤ポリマーから選択することができる。接着剤は、紫外（ＵＶ）線吸収剤を含む。いくつかの実施形態では、接着剤組成物は、ヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）及び抗酸化物質のうちの、１種をも含み得る。本発明のＯＣＡは、例えば、タッチスクリーン、電磁遮蔽、太陽光発電パネル、金属メッシュ、窓用の透明な加熱ワイヤパターンなどに使用される金属のナノ粒子、ナノロッド、及びナノワイヤーをベースとした導電体を安定化することができる。これらの金属導体は、紫外線及び可視光線に暴露されたときに、伝導度の低下を招く分解を生じる恐れがある。本発明のＯＣＡを、導電体に直接塗布することによって、コストのかさむ保護被覆（すなわち、バリア）の使用を回避でき、物品のアセンブリプロセスを簡略化することができる。本発明は、使用方法、並びに金属導体と接触しているかかるＯＣＡを含む物品をも包含する。
本発明の光学的に透明な接着剤組成物は、本質的に感圧性又は熱により活性化可能なものであり得る。同様にして、かかる組成物は、フィルム接着剤として塗布され得るものであり、ホットメルトとして直接分配され得るものであり、又は液体ＯＣＡとして塗布され、最終的なアセンブリにおいて硬化されるものであり得る。
本発明の接着剤組成物は、ベースポリマーを含む。費用が穏当であること、及び広範に利用可能であることから、アクリル系によるポリマー、特にランダム（メタ）アクリル系コポリマーから誘導される接着剤組成物が好ましいものの、その他のポリマーも、本発明の意図する範囲から逸脱することなく接着剤組成物用のマトリックスとして使用することができる。その他のポリマーの例としては、ポリエステル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、シリコーン、ポリオレフィン、アクリル系ブロックコポリマー、ゴム系ブロックコポリマー［すなわち、ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン（ＳＩＳ）、ポリスチレン−ポリ（エチレンブチレン）−ポリスチレン（ＳＥＢＳ）、ポリスチレン−ポリ（エチレンプロピレン）−ポリスチレン（ＳＥＰＳ）など］、及びこれらの組み合わせが挙げられるがこれらに限定されない。光学的に透明なブレンドが得られる場合、これらのポリマーの混合物（（メタ）アクリレートを含む）も使用できる。
ポリマーは市販のものであってもよく、又は溶液重合、加熱塊状重合、付加重合、開環重合、乳化重合、紫外線又は可視光線によりトリガーされる塊状重合、及び縮合重合などの従来の手法により重合してもよい。
本発明の接着剤組成物は、例えば、紫外線を吸収することにより、金属導体の光酸化を阻害又は防止することのできる、少なくとも１種の添加物も含む。添加物は、接着剤組成物を硬化する際など、紫外線に暴露されるときに金属導体の酸化を阻害又は防止するよう機能する。したがって本発明の接着剤組成物は、紫外線吸収剤を含む。
紫外線吸収剤は、紫外線による導電体の分解又は光酸化を低減するために、約２９５〜約４００ｎｍの範囲の紫外線を吸収し、紫外線を熱エネルギーとして消散させるよう機能する。接着剤組成物中に存在する紫外線吸収剤の量は、接着剤組成物の厚さ、紫外線吸収剤の消衰係数、及び遮蔽される紫外線量によって異なる。したがって、所与の消衰係数に関し特定の吸光度を維持するためには、接着剤層を薄くするほど、その分添加物濃度を増大させる必要がある。好適な紫外線吸収剤の例としては、ベンゾフェノン類及びベンゾトリアゾール類が挙げられるがこれらに限定されない。特に好適なベンゾトリアゾール類の紫外線吸収剤としては、２−（２−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾールが挙げられるがこれに限定されない。好適なベンゾフェノン類の紫外線吸収剤の例としては、２，２’−ジヒドロキシベンゾフェノンが挙げられるがこれらに限定されない。好適な市販の紫外線吸収剤の例としては、ＣＹＴＥＣ（Ｗｏｏｄｌａｎｄ Ｐａｒｋ、Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から市販のＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ−５４１１、ＢＡＳＦ（Ｆｌｏｒｈａｍ Ｐａｒｋ、Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から市販のＴＩＮＵＶＩＮ ３２８が挙げられるがこれらに限定されない。
いくつかの実施形態では、接着剤組成物が接触している金属導体の安定性を、更に向上させるため、接着剤組成物は、少なくとも１種のヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）及び抗酸化物質を更に含む。ヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）は、光により生じる分解に対する安定剤として機能する。ＨＡＬＳは、紫外線吸収剤とは異なり、長波長寄り（すなわち、ＵＶＢ及びＵＶＡ）の紫外線を吸収せず、むしろ導電体の分解を防止する相乗作用剤として機能する。ＨＡＬＳは、２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの誘導体である。好適な市販のＨＡＬＳの例としては、ＢＡＳＦ（Ｆｌｏｒｈａｍ Ｐａｒｋ、Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から市販のＴＩＮＵＶＩＮ １２３が挙げられるがこれに限定されない。
抗酸化剤は、光化学的に開始される分解反応を阻害し、ひいては導電体の酸化を抑制するよう機能する。抗酸化剤は、酸化プロセスを阻害することが知られているものの、従来はナノ粒子、ナノロッド、又はナノワイヤーなどの易酸化性金属導体との併用については、当該技術分野において知られていなかった。好適な抗酸化剤の例は、商品名Ｉｒｇａｎｏｘ（すなわち、Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ １０２４、及びＩｒｇａｎｏｘ １０７６）でＢＡＳＦ（Ｆｌｏｒｈａｍ Ｐａｒｋ、Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から、又はＣＹＡＮＯＸでＣＹＴＥＣ（Ｗｏｏｄｌａｎｄ Ｐａｒｋ、Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から市販のものである。接着剤マトリックスに可溶性のアスコルビン酸などの天然の抗酸化物質を使用することもできる。
接着剤組成物に必要とされる添加物最小量は、環境暴露条件及び電気抵抗の許容され得る変化量によって異なる。一実施形態では、添加物は、乾燥接着剤被覆の約５重量％以下で接着剤組成物中に存在する。一実施形態では、添加物は、少なくとも約０．１重量％で接着剤組成物中に存在する。一実施形態では、添加物は、約０．５〜約３重量％で接着剤組成物中に存在する。
添加物は、極めて強い光暴露下でも、光学的に透明な接着剤と接触しているときの導体の安定性を顕著に改善する。安定性は、所定の期間中の電気抵抗の変化をもとに測定される。理論に束縛されるものではないが、安定化が光酸化プロセスを阻害するものと考えられる。一実施形態では、本発明の接着剤組成物が被覆している導電体の抵抗の変化は、約３週間（約５００時間）の光曝露期間にわたって約２０％未満、特に約１０％未満、及びより具体的には約５％未満である。
接着剤組成物が光学的に透明なものである必要があるとき、接着剤組成物の光学特性に与える影響を最小限に抑え、又は全く影響を生じさせないようにし、最終的な処方物に光学的に透明な特性を保持させるため、添加物は接着剤マトリックスに混和性のものでなくてはならない。「光学的に透明」は、少なくとも約９０％の高い可視光線透過率、約２％以下の低ヘイズを有しながらも、中間色であり、白化していないことを意味する。しかしながら、乱反射する接着剤（diffuse adhesives）などのいくつかの場合、光学的要件は厳密なものではなくなる場合がある。本明細書を通して、接着剤組成物は主に光学的に透明な接着剤として記載されるものの、同じ添加物を、例えば、金属導体と直接接触するフォトレジストに使用してもよく、又は銀ナノワイヤーインクなどのナノサイズ化金属粒子分散体そのものの一部として使用することもできる。
添加物は、接着剤組成物を使用するディスプレイアセンブリの機械的耐久性に影響を及ぼすものであってもならない。一実施形態では、接着剤組成物が有する１８０度はく離は、２０分又は７２時間の滞留時間後に、少なくとも約３０オンス／インチ（約３３Ｎ／ｄｍ）、特に少なくとも約４０オンス／インチ（約４４Ｎ／ｄｍ）、及びより具体的には、更に、少なくとも約５０オンス／インチ（約５５Ｎ／ｄｍ）である。また添加物は、接着剤マトリックスに可溶性である必要もある。
接着剤組成物の作製に使用される製造プロセスに応じ、添加物は、接着剤組成物の製造に使用される重合、被覆、及び硬化プロセスに適したものであることも必要とされ得る。例えば、紫外線重合プロセス又は紫外線硬化プロセスの著しい遅延又は阻害があってはならない。いくつかの実施形態では、添加物は、溶媒被覆プロセス又はホットメルト被覆プロセスにおいて不揮発性である必要もある。
一実施形態では、環境耐久性を向上させる目的で、接着剤組成物は架橋剤を含み得る。接着剤組成物のポリマーは、例えば、物理的架橋（高Ｔｇグラフト又はブロック、ハードセグメント、小結晶など）、イオン架橋（カルボン酸の金属イオンとの架橋、又は酸／塩基種の架橋など）、及び共有結合架橋（多官能性アジリジンのカルボン酸との架橋、メラミンとカルボン酸との架橋、多官能性（メタ）アクリレートの共重合、及びベンゾフェノン類の化合物又はアントラキノン類の化合物などによる水素の引き抜き機構）を含む、当該技術分野で既知の方法を使用して架橋することもできる。
本発明は、銀及び銅などのナノサイズ化金属から誘導される新しい導電体を保護するにあたって喫緊の必要に対処する。ベースポリマーと、添加物との組み合わせは、これらの導体の環境からの保護を提供するだけでなく、それらのほとんどは、液体ＯＣＡに使用されるものなどの紫外線硬化プロセス、導体のパターニングに使用することのできるいくつかのフォトレジスト、及びＯＣＡの製造に使用される１ウェブ（one-web）重合プロセスにも適合する。
当業者には本発明の範囲内の数多くの修正形態及び変形形態が認識されるであろうことから、本発明は、以下の実施例においてより具体的に説明されるものの、かかる実施例の意図するところは単なる例示である。特に注記しない限り、以下の実施例で報告される、全ての部、百分率、及び比率（割合）は、重量を基準とするものである。
試験片の調製
図１Ａ及び図１Ｂは、それぞれ、銀ナノワイヤーフィルムの電気抵抗の変化を測定するためのサンプル構造体を表わす、試験片１００の上面図及び側面図を示す。銀ナノワイヤー１０２（ＳＮＷ）は、ポリエステル（ＰＥＴ）フィルム１０４に銀インク（Ｃａｍｂｒｉｏｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ、Ｓｕｎｎｙｖａｌｅ、ＣＡ）を被覆（塗布）することにより作製した。被覆の抵抗は、典型的には約５０Ω／ｓｑである。２インチ×３インチ（５．１ｃｍ×７．６ｃｍ）の光学的に透明な接着剤（ＯＣＡ）ストリップ１０６の片面からはく離ライナーを取り外し、このＯＣＡストリップを、銀ナノワイヤー１０２で被覆されたＰＥＴフィルム１０４側に直接接触させて配置した。小型のゴム製ハンドローラーを４回通過させて、ＯＣＡ１０６とＳＮＷ被覆１０２との間に気泡を混入させないようにＯＣＡストリップ１０６を固定した。ＯＣＡから第２のライナーを取り外し、ＯＣＡ／銀ナノワイヤーフィルムアセンブリを、２インチ×３インチ（５．１ｃｍ×７．６ｃｍ）の顕微鏡用スライドグラス１０８上に重ねた。図１Ａ及び図１Ｂに示す通り、スライドガラス１０８のうち、ＯＣＡ／銀ナノワイヤーフィルムアセンブリとは反対側の半分は黒色の絶縁テープ１１０で覆い、残りの半分は絶縁テープで覆わなかった。テープで覆った面から試験片１００にキセノンアークランプを照射すると、光はガラスを通過するか、あるいは黒色テープ１１０により遮蔽された。
銀ナノワイヤーフィルムの抵抗の変化の測定方法
ＤＥＬＣＯＭ ７０７ ＣＯＮＤＵＣＴＡＮＣＥ ＭＯＮＩＴＯＲ（Ｄｅｌｃｏｍ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ｉｎｃ．、Ｍｉｎｎｅａｐｏｌｉｓ、ＭＮ）を使用して、試験片の３つの異なる円形領域のそれぞれについて、抵抗の変化を測定した。試験結果を表１、表２、及び表３に要約する。黒色絶縁テープにより完全に覆った銀ナノワイヤーの測定は「遮光」と表記し、黒色絶縁テープにより部分的に覆った銀ナノワイヤーの測定は「境界」と表記し、キセノンアークランプに完全に暴露させた銀ナノワイヤーの測定は「光照射」と表記する。それぞれの円形領域を少なくとも２回ずつ測定した。測定値が一致しなかった場合、そのデータは基本的には破棄し、試験片を試験した。５００時間の暴露で抵抗の変化が２５％未満だった場合、許容可能な性能であるものとみなした。「遮光」測定は、キセノンアークランプの暴露がなかった場合にＯＣＡフィルムの銀ナノワイヤーとの有害な相互作用が生じなかったことを確認するため、内的対照試験として行った。「遮光」、「境界」、又は「光照射」測定領域のいずれかにおいて、抵抗の変化が２５％を超えた場合、その試験片は失敗とみなした。表中の空欄はデータを収集しなかったことを意味する。
キセノンアークランプへの暴露時間に対する抵抗の変化（％）は、次の通りに計算した：抵抗の変化（％）＝１／（１００＊（Ｇｔ−Ｇ０）／Ｇ０）［式中、Ｇ０は、キセノンアークランプへの暴露を行っていない初期伝導度。Ｇｔは、キセノンアークランプでｔ時間暴露後の伝導度］。キセノンアークランプ暴露条件のパラメーターは次の通りとした。キセノンアークランプ暴露条件Ａのパラメーターは、３４０ｎｍにて０．４Ｗ／ｍ２の照射、ブラックパネル温度６０℃、気温３８℃、相対湿度５０％。キセノンアークランプ暴露条件Ｂのパラメーターは、最初の３００時間については、サンプルは、３４０ｎｍにて０．４Ｗ／ｍ２の照射、ブラックパネル温度６０℃で、その後更に２００時間、３４０ｎｍにて０．５５Ｗ／ｍ２の照射、ブラックパネル温度７０℃で、かつ、気温４７℃、相対湿度５０％という条件下にて暴露したもの。キセノンアークランプ暴露条件Ｃのパラメーターは、３４０ｎｍにて０．３５Ｗ／ｍ２の照射、ブラックパネル温度５５℃、気温４５℃、相対湿度５０％。
ヘイズ測定方法
ヘイズはＡＳＴＭ Ｄ１００３−９２に準拠して測定した。接着剤例５及び６の結果を表４に要約する。ＬＣＤガラスをイソプロパノールで３回洗浄し、キムワイプ（Ｋｉｍｂｅｒｌｙ−Ｃｌａｒｋ Ｃｏｒｐ．、Ｎｅｅｎａｈ、ＷＩ）を使用して完全に乾燥させて試験片を調製した。各ＯＣＡフィルムを、球面の入光口を覆うのに十分な大きさに切り出した。ＯＣＡフィルムの片面からはく離ライナーを取り外し、小型のゴム製ハンドローラーを４回通過させてＬＣＤガラス上に積層した。視認され得る明らかな内部空隙、粒子、引っかき傷、及び傷がないことを確かめるため、サンプルを目視検査した。第２のライナーは、ヘイズ試験の前に取り外した。ＡＳＴＭ Ｄ １００３−９２に準拠し、Ｕｌｔｒａ Ｓｃａｎ Ｐｒｏ Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ（Ｈｕｎｔｅｒ Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ，Ｉｎｃ．、Ｒｅｓｔｏｎ、ＶＡ）を使用して、ＬＣＤガラスのバックグラウンドに対しヘイズを測定した。
色測定方法
色はＡＳＴＭ−Ｅ１１６４−０７／ＣＩＥＬＡＢに準拠して測定した。接着剤例５及び６の結果を表４に要約する。ＬＣＤガラスをイソプロピルアルコールで３回洗浄し、キムワイプ（Ｋｉｍｂｅｒｌｙ−Ｃｌａｒｋ Ｃｏｒｐ．、Ｎｅｅｎａｈ、ＷＩ）を使用して完全に乾燥させて試験片を調製した。各ＯＣＡフィルムを、球面の入光口を覆うのに十分な大きさに切り出した。ＯＣＡフィルムの片面からはく離ライナーを取り外し、小型のゴム製ハンドローラーを４回通過させてＬＣＤガラス上に積層した。視認され得る明らかな内部空隙、粒子、引っかき傷、及び傷がないことを確かめるため、サンプルを目視検査した。第２のライナーは、色試験の前に取り外した。ＡＳＴＭ−Ｅ１１６４−０７／ＣＩＥＬＡＢに準拠し、ＵＬＴＲＡＳＣＡＮ ＰＲＯ ＳＰＥＣＴＲＯＰＨＯＴＯＭＥＴＥＲ（Ｈｕｎｔｅｒ Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ，Ｉｎｃ．、Ｒｅｓｔｏｎ、ＶＡ）を使用して、ＬＣＤガラスのバックグラウンドに対し色を測定した。
耐久性及び抗白化方法
２インチ×３インチ（約５．１ｃｍ×約７．６ｃｍ）のＯＣＡストリップからはく離ライナーを取り外し、このストリップを厚さ５ｍｉｌ（約１２７μｍ）の下塗りポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）フィルムに貼り付けた。小型のゴム製ハンドローラーを４回通過させて、気泡を混入させないようにＯＣＡストリップを固定した。ＯＣＡストリップから第２のライナーを取り外し、このＯＣＡストリップを、２インチ×３インチ（約５．１ｃｍ×約７．６ｃｍ）のＬＣＤガラス、又は厚さ５ｍｉｌ（約１２７μｍ）の下塗りＰＥＴフィルム上に積層した。小型のゴム製ハンドローラーを４回通過させて、気泡を混入させないようにＯＣＡストリップを固定した。このサンプルを６５℃及び相対湿度９０％の試験チャンバ内に配置し、表１に記載の標準時間間隔で気泡又は白化について外観を確認した。気泡の発生はサンプルの耐久性が不充分であったことを示す。抗白化に関し、視認され得る白化を示したサンプルは試験チャンバから取り出し、取り出してから３分以内に白化が消失した場合には合格とみなした。接着剤５及び６の結果を表４に要約する。
１８０度はく離接着測定
ＡＳＴＭ Ｄ９０３−９８、１８０度はく離に、１２インチ／分の変更を加えた。フロートガラスをイソプロパノールで３回洗浄し、キムワイプを使用して完全に乾燥させた。ＯＣＡ試験片を、幅１インチ（約２．５ｃｍ）×長さ約１２インチ（約３０ｃｍ）の大きさに切り出した。片面からはく離ライナーを取り外し、ＯＣＡを、小型のゴム製ハンドローラーを４回通過させて、気泡を混入させないように２ｍｉｌ（約５１μｍ）の下塗りしたＰＥＴフィルム上に積層した。第２のライナーを取り外し、フロートガラスパネルに対して５ポンドのハンドローラー（ラバーでカバーされている）を３回通過させて、ＯＣＡを固定した。表４に示す通り、室温で２０分又は７２時間のいずれかの滞留時間後に、ＩＭＡＳＳ ＳＰ−２０００ Ｓｌｉｐ／Ｐｅｅｌ Ｔｅｓｔｅｒ（ＩＭＡＳＳ，Ｉｎｃ、Ａｃｃｏｒｄ、ＭＡ）を使用し、１２インチ／分（約３０ｃｍ／分）の試験速度で１８０度はく離接着を測定した。試験データを表４に要約する。

アクリル系コポリマー１
質量比６５／１８／１４／３で、２−ＥＨＡ／ＥＨＭＡ／ＨＥＡ／Ａｃｍの混合物を調製し、モノマー濃度が５０質量％になるよう酢酸エチル／トルエン（１：１）で希釈した。次に、モノマー成分に対し０．１５質量％の割合で開始剤ＶＡＺＯ５２を加え、１０分間窒素置換したガラス瓶にこの混合物を入れた。続いて、不活性雰囲気を維持しながらこの瓶を気密にし、５５℃の恒温槽に６時間放置した。次に、反応温度を更に４時間７５℃に上昇させた。透明で粘稠な溶液を得た。ゲル浸透クロマトグラフィーによりポリスチレン標準物質に対し測定したところ、得られたアクリル系コポリマーの重量平均分子量は５６３，０００ダルトンであった。
アクリル系コポリマー２
質量比９２．５／７／０．５で、２−ＥＨＡ／Ａｃｍ／ＡＡの混合物を調製し、モノマー濃度が４０質量％になるよう酢酸エチル／メタノール（９：１）で希釈した。次に、モノマー成分に対し０．１質量％の割合で開始剤ＶＡＺＯ５２を加え、１０分間窒素置換したガラス瓶にこの混合物を入れた。続いて、不活性雰囲気を維持しながらこの瓶を気密にし、５５℃の恒温槽に２０時間放置した。次に、反応温度を更に４時間６５℃に上昇させた。透明で粘稠な溶液を得た。ゲル浸透クロマトグラフィーによりポリスチレン標準物質に対し測定したところ、得られたアクリル系コポリマーの重量平均分子量は７６３，０００ダルトンであった。
アクリル系ブロックコポリマー溶液１
質量比３：３：１：３で、ＬＡ２３３０／ＬＡ２２５０／ＬＡ１１１４／ＫＥ−１００の混合物を調製し、モノマー濃度が４０質量％になるよう酢酸エチルで希釈した。
アクリル系ブロックコポリマー溶液２
質量比１：１：１：１で、ＬＡ２３３０／ＬＡ２２５０／ＬＡ１１１４／ＫＥ−１００の混合物を調製し、モノマー濃度が４０質量％になるよう酢酸エチルで希釈した。
比較例１
アクリル系コポリマー溶液１に、乾燥コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、０．０５、及び０．４質量部の割合で、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間保管した。
比較例２
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、３、１、０．０５、及び０．４質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ ４７７、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
比較例３
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、０．０５、及び０．４質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ ４７７、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
比較例４
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、１、１、０．０５、及び０．４質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ ４７７、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
比較例５
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、０．０５、及び０．４質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ ４７７、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
比較例６
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、０．０５、及び０．４質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ ４７９、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
比較例７
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、０．０５、及び０．４質量部の割合で、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ８１、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
比較例８
アクリル系コポリマー溶液２に、乾燥コポリマー１００質量部当たり８質量％の割合で、ビスアミド溶液（５％トルエン溶液）を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間保管した。
比較例９
次に、アクリル系ブロックコポリマー溶液１を、厚さ５０μｍのはく離フィルムＴ５０上に塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＴ１０を積層した。
比較例１０
アクリル系コポリマー２に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、及び８質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ ４７７、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、及びビスアミド溶液（５％トルエン溶液）を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間保管した。
比較例１１
アクリル系コポリマー２に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、及び８質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、及びビスアミド溶液（トルエン中５％）を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間保管した。
比較例１２
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、０．０５、及び０．４質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ ４０５、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
比較例１３
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、０．０５、及び０．４質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ ４００、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
比較例１４
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、０．０５、及び０．４質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ ４６０、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
比較例１５
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、０．０５、及び０．４質量部の割合で、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ９０、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
比較例１６
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、０．０５、及び０．４質量部の割合で、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
接着剤例１
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、３、１、０．０５、及び０．４質量部の割合で、ＵＶ−５４１１、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
接着剤例２
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、０．０５、及び０．４質量部の割合で、ＵＶ−５４１１、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
接着剤例３
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、１、１、０．０５、及び０．４質量部の割合で、ＵＶ−５４１１、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
接着剤例４
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、０．０５、及び０．４質量部の割合で、ＵＶ ５４１１、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
接着剤例５
アクリル系コポリマー溶液２に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、及び８質量部の割合で、ＵＶ−５４１１、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、及びビスアミド（５％トルエン溶液）を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。物理特性及び性能特性を表４に要約する。
接着剤例６
アクリル系コポリマー溶液２に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、０．５、及び８質量部の割合で、ＵＶ−５４１１、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＩＲＧＡＮＯＸ １０７６、及びビスアミド（５％トルエン溶液）を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。物理特性及び性能特性を表４に要約する。
接着剤例７
アクリル系ブロックコポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、及び１質量部の割合で、ＵＶ−５４１１、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＴ５０に塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＴ１０を積層した。
接着剤例８
アクリル系ブロックコポリマー溶液２に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２及び１質量部の割合で、ＵＶ−５４１１、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＴ５０に塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＴ１０を積層した。
接着剤例９
アクリル系コポリマー２に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、及び８質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ １１３０、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、及びビスアミド溶液（５％トルエン溶液）を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
接着剤例１０
アクリル系コポリマー２に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、及び８質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ １７１、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、及びビスアミド溶液（５％トルエン溶液）を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
接着剤例１１
アクリル系コポリマー２に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、及び８質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ ９９−２、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、及びビスアミド溶液（５％トルエン溶液）を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
接着剤例１２
アクリル系コポリマー２に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、及び８質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ ９００、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、及びビスアミド溶液（５％トルエン溶液）を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
接着剤例１３
アクリル系コポリマー２に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、及び８質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、及びビスアミド溶液（５％トルエン溶液）を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
接着剤例１４
アクリル系コポリマー２に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、及び８質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ ３８４−２、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、及びビスアミド溶液（５％トルエン溶液）を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
接着剤例１５
アクリル系コポリマー２に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、及び８質量部の割合で、ＴＩＮＵＶＩＮ ３２８、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、及びビスアミド溶液（５％トルエン溶液）を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
接着剤例１６
アクリル系コポリマー溶液１に、コポリマー１００質量部当たりそれぞれ、２、１、０．０５、及び０．４質量部の割合で、２，２’−ジヒドロキシベンゾフェノン、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＫＢＭ ４０３、及びＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ３３００を加えた。次に、調製した溶液を厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ２２Ｎに塗布し、７０℃のオーブンで３０分間乾燥させた。乾燥後のＰＳＡの厚さは５０μｍであった。続いて、このＰＳＡ表面上に厚さ５０μｍのはく離フィルムＲＦ０２Ｎを積層し、６５℃で２４時間エージングした。
＊５ｍｉｌは、約１２７マイクロメートル（μｍ）
本発明について、好ましい実施形態を参照して説明してきたが、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく形状及び細部において変更がなされ得ることが、当業者には理解されよう。

Claims (20)

  1. 導電体を安定化するための接着剤組成物であって、
    ベースポリマーと、
    ベンゾトリアゾール類及びベンゾフェノン類のうちの１種と、を含み、
    前記接着剤組成物が前記導電体と接触しているとき、約５００時間の光暴露期間にわたって、前記導電体の電気抵抗の変化が約２０％未満である、接着剤組成物。
  2. ヒンダードアミン光安定剤及び抗酸化物質のうちの、少なくとも１種を更に含む、請求項１に記載の接着剤組成物。
  3. 前記ベンゾトリアゾール類がヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールである、請求項１に記載の接着剤組成物。
  4. 前記ベンゾフェノン類が、２，２’−ジヒドロキシベンゾフェノンである、請求項１に記載の接着剤組成物。
  5. ベンゾトリアゾール類及びベンゾフェノン類のうちの、前記１種が、前記接着剤組成物の約０．１〜約５重量％を構成する、請求項１に記載の接着剤組成物。
  6. 前記ベースポリマーが、ポリエステル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、シリコーン、ポリオレフィン、アクリル系ブロックコポリマー、ゴム系ブロックコポリマー、又はランダム（メタ）アクリル系コポリマーのうちの１種を含む、請求項１に記載の接着剤組成物。
  7. 前記導電体が、金属導体ベースのものである、請求項１に記載の接着剤組成物。
  8. 前記金属導体が、銀又は銅を含む、請求項７に記載の接着剤組成物。
  9. 前記金属導体が、金属のナノ粒子、ナノロッド、及びナノワイヤーである、請求項７に記載の接着剤組成物。
  10. 架橋剤を更に含む、請求項１に記載の接着剤組成物。
  11. 前記接着剤組成物が前記導電体を被覆しているとき、約５００時間の光暴露期間にわたって、前記導電体の電気抵抗の変化が約１０％未満である、請求項１に記載の接着剤組成物。
  12. 導電体を安定化する方法であって、
    接着剤組成物を提供することと、
    前記導電体に前記接着剤組成物を被覆することとを含み、
    前記接着剤組成物が、ベースポリマーと、紫外線を吸収するための添加物と、を含み、
    前記接着剤組成物が前記導電体を被覆しているとき、約５００時間の光暴露期間にわたって、前記導電体の電気抵抗の変化が約２０％未満である、方法。
  13. 前記紫外線を吸収するための添加物が、ベンゾトリアゾール類及びベンゾフェノン類のうちの、１種を含む、請求項１２に記載の方法。
  14. ヒンダードアミン光安定剤及び抗酸化物質のうちの、少なくとも１種を更に含む、請求項１２に記載の方法。
  15. 前記添加物が、前記接着剤組成物の約０．１〜約５重量％を構成する、請求項１２に記載の方法。
  16. 前記ベースポリマーが、ポリエステル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、シリコーン、ポリオレフィン、アクリル系ブロックコポリマー、ゴム系ブロックコポリマー、又はランダム（メタ）アクリル系コポリマーのうちの１種を含む、請求項１２に記載の方法。
  17. 前記導電体が、金属導体ベースのものである、請求項１２に記載の方法。
  18. 前記金属導体が、金属のナノ粒子、ナノロッド、及びナノワイヤーである、請求項１７に記載の、接着剤による方法。
  19. 架橋剤を更に含む、請求項１２に記載の方法。
  20. 前記接着剤組成物が前記導電体を被覆しているとき、約５００時間の光暴露期間にわたって、前記導電体の電気抵抗の変化が約１０％未満である、請求項１２に記載の方法。
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