JP2017522309A - ビアリール化合物を製造するプロセス - Google Patents

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Abstract

少なくとも１つの非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含むパラジウム塩と、少なくとも１つのＮ−供与体原子を含む１つまたは複数の非β脱離性、非シクロパラジウム化性配位子と、を含む触媒系の存在下で、少なくとも１つのアリール炭素−水素結合を含む２つのアレーン基の好気性脱水素型クロスカップリング（ＣＤＣ）によってビアリール化合物を製造するプロセスであって、その１つまたは複数の配位子が、Ｐｄ原子に対してＮ−供与体原子のモル比１．５／１を有する、プロセス。【選択図】なし

Description

発明の詳細な説明
本発明は、ビアリール化合物を製造するプロセスに関する。
ビアリール化合物は、例えば薬剤、農芸化学、電子化学物質およびポリマーに関連する市場部門において、様々な用途を有する、重要なクラスの化合物を構成する。
特にバルク用途では、例えばポリマーにおけるモノマー単位として、低コストでビアリール化合物を製造することが重要である。
アレーン単位の事前の活性化と共に、２つの置換アレーン単位のカップリングに基づく、ビアリール化合物を製造する既知のプロセスは一般には、商業的に実行可能ではない。これは、このプロセスには多くの工程および高価な試剤が必要であり、また大量の塩水も生成されるためである。
Ｃｈｅｍ．Ａｓｉａｎ Ｊ．２０１４，９，２６で最近、検討されているように、２つのアレーン単位の脱水素型クロスカップリング（ＣＤＣ）によってビアリール化合物を製造するプロセスによって、改善がもたらされた。この文献で説明されているように、かかるプロセスには、アレーン単位の事前の活性化を必要とせず、特に酸素が酸化体として使用される場合に経済的である。かかるプロセスは、好気性ＣＤＣと呼ばれる。テトラメチル［１，１’−ビフェニル］−３，３’，４，４’−テトラカルボキシレート、ポリイミド樹脂の中間体を製造するために、パラジウム（Ｐｄ）触媒好気性ＣＤＣが既に、ジメチルフタレートのカップリングに商業的に使用されている。
Ａｄｖ．Ｓｙｎｔｈ．Ｃａｔａｌ．２０１０，３５２，３２２３に説明されるように、ｏ−キシレンのＣＤＣを行い、続いてカップリング生成物３，３’，４，４’−テトラメチル−１，１’−ビフェニルのベンジル型メチル基の好気性酸化を行うことによって、このプロセスをかなり合理化することができる（３３４４）。この文献には、ジカルボン酸パラジウム塩と、パラジウムに対するモル比２／１で使用されるピリジン配位子と、を含む好気性ＣＤＣ触媒系が開示されている。特に、効率的であるが、高価なピリジンである、２−フルオロピリジンが配位子として使用される。バルクモノマーを製造する用途など、大量生産、低コスト用途では、触媒費用を最小限に抑えることが、厳しい原価条件を満たすのに必須である。したがって、著しく低い、好ましくはより単純な窒素供与体配位子と共に、効率的に機能する効率的なパラジウムアレーンＣＤＣ触媒を有することが望まれる。向上した活性および選択性を有するＣＤＣプロセスを得ることも望まれる。
意外なことに、少なくとも１つの非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含むパラジウム塩と、少なくとも１つのＮ−供与体原子を含む１つまたは複数の非β脱離性、非シクロパラジウム化性配位子と、を含む触媒系であって、その１つまたは複数の配位子が、Ｐｄ原子に対するＮ−供与体原子のモル比０．５／１〜１．５／１（以降、省略してＮ／Ｐｄ比とも示される）を有する、触媒系の存在下での、少なくとも１つのアリール炭素−水素結合を含む２つのアレーン基の好気性ＣＤＣにより、ビアリール化合物を製造するプロセスによって、この目的が達成される。
非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンとは、通常、Ｐｄ中心に連結されたＣ，Ｏ−供与体セットを有する５または６員環が生じ、切断されたＣ−Ｈ結合からＣ原子が生じる、パラジウムによる切断の傾向があるＣ−Ｈ結合が無いカルボキシレートアニオンを意味する。シクロパラジウム化する傾向があるベンゾエートまたはフェニルアセテート型ルボキシレートアニオンの例は、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００８，１３０，１４０８２に記載されている。
非β脱離性窒素供与体配位子とは、Ｐｄ−Ｎ−Ｃ−Ｈ断片からのβ水素脱離を介したパラジウム（ＩＩ）のパラジウム（０）への還元を誘導しない窒素供与体配位子を意味し、Ｎ−Ｃ−Ｈ断片は、パラジウムに結合している窒素供与体配位子の一部である。β水素脱離の傾向がある窒素供与体配位子は、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ２０１１，１７，３０９１に記載のように、例えばトリブチルアミンで見られるような、Ｎ−Ｃ−Ｈ断片を含有するトリアルキルアミンを含む。
非シクロパラジウム化性窒素供与体配位子とは、通常、Ｐｄ中心に連結されたＣ，Ｎ−供与体セットを有する５または６員環が生じ、切断されたＣ−Ｈ結合からＣ原子が生じる、パラジウムによる切断の傾向があるＣ−Ｈ結合が無い窒素供与体配位子を意味する。Ｃ−Ｈ切断によるシクロパラジウム化する傾向がある窒素供与体配位子はよく知られており、特にその例が、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００５，１０５，２５２７およびＰａｌｌａｄａｃｙｃｌｅｓ ２００８，１３に挙げられており、その形成についてのルールも明らかにされている。
本発明のプロセスを用いて、単純な配位子でさえ、触媒活性および／または選択性に関して向上した結果が得られ、費用が下げられる。
好ましくは、Ｐｄ原子に対するＮ−供与体原子の比は、０．７／１〜１．３／１、さらに好ましくは０．８／１〜１．２／１である。
脂肪族環状または非環状第１級、第２級または第３級アミン、芳香族Ｎ−複素環および／またはそのベンゾ縮合誘導体が１つまたは複数の配位子として使用された場合に、良い結果が得られる。好ましくは、窒素原子上の孤立電子対が、Ｘ−Ｎ−Ｙ基（ＸおよびＹは、ｓｐ２窒素原子に直接結合した原子を意味する）によって形成される面に対して同一面内に位置する、ｓｐ２混成軌道窒素原子を含有する、Ｎ−複素環およびそのベンゾ縮合誘導体が使用される。さらに好ましくは、窒素原子上の孤立電子対が、Ｘ−Ｎ−Ｙ基（ＸおよびＹは、ｓｐ２窒素原子に直接結合した原子を意味し、かつＸまたはＹのいずれかが炭素原子である）によって形成される面に対して同一面内に位置する、ｓｐ２混成軌道窒素原子を含有する、Ｎ−複素環式化合物が使用される。上記で定義される好ましい基から、さらに好ましくはピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、４，５−ジヒドロオキサゾール、イソキサゾール、４，５−ジヒドロイソキサゾール、および５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジンまたはキノリン、イソキノリン、シンノリン、フタラジン、キナゾリン、キノキサリン、１Ｈ−ベンゾ［ｄ］イミダゾール、１Ｈ−ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール、ベンゾ［ｄ］オキサゾール、ベンゾ［ｄ］イソキサゾールおよび４Ｈ−ベンゾ［ｅ］［１，３］オキサジンおよび／またはそのベンゾ縮合誘導体が配位子として使用される。
またさらに好ましくは、芳香族６員環Ｎ−複素環またはそのベンゾ縮合誘導体が、１つまたは複数の配位子として使用される。好ましくは、この群において、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、シンノリン、フタラジン、キナゾリンおよびキノキサリンおよび／またはそのベンゾ縮合誘導体が、１つまたは複数の配位子として使用される。
パラジウム触媒の活性および／または選択性をコントロールするために、窒素供与体配位子をさらに置換してもよい。置換基の最適な選択は、特にパラジウム塩の性質およびアレーンＣＤＣプロセスの必要とされる位置選択性に応じて異なり、最終用途によって決定される。最終用途で、例えばモノマー中間体として必要とされる対称性３３４４の代わりに、非対称２，３，３’，４’−テトラメチル−１，１’−ビフェニル（２３３４）位置異性体に対して、ｏ−キシレンのＣＤＣの照準を合わせる必要がある場合、１つまたは複数の配位子として、少なくとも１つの電子求引性、非配位性、好ましくはバルキーなオルト置換基を有する非シクロパラジウム化性ピリジンを使用するのが有利である。
意外なことに、酸素０．２〜２バールの比較的低い圧力（分圧）下にてプロセスが行われた場合、カルボキシレート基に対してα炭素原子にて三重に置換されているカルボン酸から誘導される少なくとも１つの非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含有するパラジウムカルボキシレート触媒（カルボン酸は少なくとも１つのβ炭素原子も含有する）を使用すると、さらに向上した活性および選択性が得られることが見出された。
意外なことに、酸素０．２〜２バールの比較的低い圧力（分圧）下にてプロセスが行われた場合、酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の酸度定数の間にある酸度定数（ｐＫａ）を有するカルボン酸から誘導される少なくとも１つの非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含有するパラジウムカルボキシレート触媒を使用すると、さらに向上した活性および選択性が得られることも見出された（前述の酸度定数は、２種類の異なるカルボキシレートアニオンの場合には酸度定数平均（ｐＫａ ａｃｉｄ１＋ｐＫａ ａｃｉｄ２）／２を意味する）。
酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の酸度定数の間にある酸度定数（ｐＫａ）も有する、上記で定義される三重に置換されたカルボン酸から誘導されるカルボキシレートアニオンを使用することも可能であり、前述の酸度定数は、２種類の異なるカルボキシレートアニオンの場合には酸度定数平均（ｐＫａ ａｃｉｄ１＋ｐＫａ ａｃｉｄ２）／２を意味する。
好ましくは、カルボキシレート基に対してα−炭素原子にて三重に置換されたカルボン酸（かかるカルボン酸は少なくとも１つのβ−炭素原子も含有する）として、２，２−ジアルキルアルカノン酸、２−フルオロ−２−アルキルアルカノン酸、２，２−ジフルオロアルカノン酸、２，２−ジフルオロ−２−アリール酢酸が使用され、前述のアルカノン酸は少なくとも１つのβ−炭素原子を含有する。そのアルキルは、好ましくはメチルまたはパーフルオロアルキル基、最も好ましくはトリフルオロメチル基である。アリール基は好ましくは、フェニル基である。
またさらに好ましくは、カルボキシレート基に対してα−炭素原子にて三重に置換されたカルボン酸（かかるカルボン酸は少なくとも１つのβ−炭素原子も含有する）として、ピバル酸、３，３，３−トリフルオロ−２−メチル−２−（トリフルオロメチル）プロパン酸、３，３，３−トリフルオロ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）プロパン酸、および２，２−ジフルオロ−２−フェニル酢酸が使用される。
好ましくは、酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の酸度定数の間にある酸度定数を有するカルボン酸として：２，２−ジフルオロ酢酸、２−フルオロ酢酸、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパン酸、２，２，３，３−テトラフルオロプロパン酸、２，３，３，３−テトラフルオロプロパン酸、２，２，３−トリフルオロプロパン酸、２，３，３−トリフルオロプロパン酸、３，３，３−トリフルオロプロパン酸、２，２−ジフルオロプロパン酸、２，３−ジフルオロプロパン酸、３，３−ジフルオロプロパン酸、２−フルオロプロパン酸、３−フルオロプロパン酸、３，３，３−トリフルオロ−２−メチル−２−（トリフルオロメチル）プロパン酸、３，３，３−トリフルオロ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）プロパン酸、３，３，３−トリフルオロ−２−（トリフルオロメチル）プロパン酸、２，３，４，５，６−ペンタフルオロ安息香酸、２，３，４，５−テトラフルオロ安息香酸、２，３，４，６−テトラフルオロ安息香酸、２，３，５，６−テトラフルオロ安息香酸、２，３，４−トリフルオロ安息香酸、２，３，５−トリフルオロ安息香酸、２，３，６−トリフルオロ安息香酸、２，４，５−トリフルオロ安息香酸、２，４，６−トリフルオロ安息香酸、３，４，５−トリフルオロ安息香酸、２，３−ジフルオロ安息香酸、２，４−ジフルオロ安息香酸、２，５−ジフルオロ安息香酸、２，６−ジフルオロ安息香酸、３，４−ジフルオロ安息香酸、３，５−ジフルオロ安息香酸、３，４，５−トリス（トリフルオロメチル）安息香酸、３，４−ビス（トリフルオロメチル）安息香酸、３，５−ビス（トリフルオロメチル）安息香酸、２，２−ジフルオロ−２−フェニル酢酸、２−（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）酢酸、２−ニトロ酢酸、２，３−ジニトロ安息香酸、２，４−ジニトロ安息香酸、２，５−ジニトロ安息香酸、３，４−ジニトロ安息香酸、３，５−ジニトロ安息香酸、２−ニトロ−安息香酸、３−ニトロ安息香酸、および４−ニトロ安息香酸が使用される。
またさらに好ましくは、酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の酸度定数の間にある酸度定数を有するカルボン酸として：２，２−ジフルオロ酢酸、２，２−ジフルオロプロピオン酸、３，３，３−トリフルオロ−２−メチル−２−（トリフルオロメチル）プロパン酸、３，３，３−トリフルオロ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）プロパン酸、２，３，４，５，６−ペンタフルオロ安息香酸、２，２−ジフルオロ−２−フェニル酢酸、２−（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）酢酸２，４−ジニトロ安息香酸、２，５−ジニトロ安息香酸、および３，４−ジニトロ安息香酸が使用される。
意外なことに、酸素２〜２０バールの比較的高い圧力（分圧）下にてプロセスが行われた場合、強酸性カルボン酸、すなわち酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の酸度定数平均以下の酸度定数を有するカルボン酸から誘導される少なくとも１つの非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含有するパラジウム触媒を使用すると、さらに向上した活性および選択性が得られることも見出された（前述の酸度定数平均は、（ｐＫａ ａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ１＋ｐＫａ ｔｒｉｆｌｕｏｒｏａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ）／２として定量化される）。
好ましくは、酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の酸度定数平均以下の酸度定数を有する強酸性カルボン酸：２，２，２−トリフルオロ酢酸、２，２−ジフルオロ酢酸、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパン酸、２，２，３，３−テトラフルオロプロパン酸、２，３，３，３−テトラフルオロプロパン酸、２，２，３−トリフルオロプロパン酸、２，２−ジフルオロプロパン酸、３，３，３−トリフルオロ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）プロパン酸、３，３，３−トリフルオロ−２−（トリフルオロメチル）プロパン酸、２，３，４，５，６−ペンタフルオロ安息香酸、２，３，４，６−テトラフルオロ安息香酸、２，３，５，６−テトラフルオロ安息香酸、２，３，６−トリフルオロ安息香酸、２，４，６−トリフルオロ安息香酸、２，２−ジフルオロ−２−フェニル酢酸、２，４−ジニトロ安息香酸、および２，６−ジニトロ安息香酸が使用される。
さらに好ましくは、酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の酸度定数平均以下の酸度定数を有する強酸性カルボン酸として：トリフルオロ酢酸、３，３，３−トリフルオロ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）プロパン酸、３，３，３−トリフルオロ−２−（トリフルオロメチル）プロパン酸、および２，２−ジフルオロ−２−フェニル酢酸が使用される。
上記で定義される強酸性であり、かつカルボキシレート基に対してα−炭素元素にて三重に置換されているカルボン酸であって、少なくとも１つのβ−炭素原子も含有するカルボン酸から、カルボキシレートアニオンが誘導される場合に、酸素２〜２０バールの比較的高い圧力（分圧）下にて活性および選択性に関してさらに向上したプロセスが得られる。
好ましくは、上記で定義される強酸性であり、かつカルボキシレート基に対してα−炭素元素にて三重に置換されているカルボン酸であって、少なくとも１つのβ−炭素原子も含有するカルボン酸として：３，３，３−トリフルオロ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）プロパン酸、３，３，３−トリフルオロ−２−（トリフルオロメチル）プロパン酸、および２，２−ジフルオロ−２−フェニル酢酸が使用される。
効率的なパラジウムカルボキシレート触媒もまた、その場で、例えばパラジウム塩と、上記で定義される、三重に置換されたかかるカルボン酸から誘導される、または酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の間の酸度定数を有するカルボン酸から誘導される、または上記で定義される、酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の酸度定数平均以下の酸度定数を有する強酸性カルボン酸から誘導されるカルボキシレート塩と、の陰イオン交換によって生成され得る。陰イオン交換によるその場での触媒生成は、パラジウム塩と、上記で定義される、三重に置換されたかかるカルボン酸、または酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の間の酸度定数を有するカルボン酸、または上記で定義される、酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の酸度定数平均以下の酸度定数を有する強酸性カルボン酸と、の間で進行され得る。後者が、カルボン酸と同等の強さを有する酸から誘導される場合、またはパラジウム塩（例えば、Ｐｄ［ＭｅＣＯ２］２）が、カルボン酸よりも弱い酸から誘導される場合に、パラジウム塩とカルボン酸との陰イオン交換は、カルボン酸がパラジウム塩に対して過剰に使用されることによって最も効率的に進行する。
パラジウムジカルボキシレート触媒は、２種類の異なるカルボキシレートアニオン、例えば、カルボキシレートアニオンは、上記で定義される、三重に置換されたかかるカルボン酸から誘導されるカルボキシレートアニオン、および酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の間の酸度定数を有するカルボン酸から誘導される、または上記で定義される、酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の酸度定数平均以下の酸度定数を有する強酸性カルボン酸から誘導されるカルボキシレートアニオンも含有し得る。例えば、２種類の異なるパラジウムジカルボキシレート間での陰イオン交換によって、または例えばパラジウム塩とカルボン酸との陰イオン交換によって、異なるカルボキシレートアニオンを有するかかるパラジウムジカルボキシレート触媒をその場で生成することもできる。
溶媒として、酢酸、プロピオン酸または炭酸プロピレンが使用され得る。好ましくは、酢酸または炭酸プロピレンが使用される。酢酸またはプロピオン酸が使用されると同時に、酸素０．２〜２バールの比較的低い圧力（分圧）下にてプロセスが行われる場合には、好ましくは、（ｐＫａ ａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ＋ｐＫａ ｔｒｉｆｌｕｏｒｏａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ）／２以下であるが、ｐＫａ ｔｒｉｆｌｕｏｒｏａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄを超える酸度定数を有するカルボン酸から誘導されるカルボキシレートアニオンが使用され、あるいはその酸度定数平均（ｐＫａ ａｃｉｄ１＋ｐＫａ ａｃｉｄ２）／２が（ｐＫａ ａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ＋ｐＫａ ｔｒｉｆｌｕｏｒｏａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ）／２以下であるが、ｐＫａ ｔｒｉｆｌｕｏｒｏａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄを超える、２種類の異なるカルボン酸から誘導される２種類の異なるカルボキシレートアニオンが使用される。
本発明によるプロセスの更なる利点は、少量の溶媒を使用して、または溶媒を使用せず、プロセスを行った場合に、活性および選択性に関して良い結果が得られることである。好ましくは、全反応物に対して溶媒が最大で５０重量％、さらに好ましくは最大で２５重量％、またさらに好ましくは最大で１０重量％、さらに好ましくは最大で５重量％、さらに好ましくは最大で２重量％使用される。最も好ましくは、溶媒は全く使用されない。このように、反応が完了した後に、反応混合物から溶媒をごく少量の溶媒のみ分離する必要があり、あるいは溶媒を全く分離する必要がない。反応器容積単位当たりの生産性が高くなるということも意味する（空時収量がより高くなる）。
任意に、添加剤が添加される。これらの添加剤は、触媒の活性、安定性、または選択性を向上し得る。かかる添加剤の例は、金属トリフレートなどのルイス酸、または強いブレンステッド酸である。潜在的に有益な添加剤の他の例は、金属パラジウムの形成によって触媒非活性化を抑制する酸化還元活性化合物である。かかる酸化還元活性化合物としては、銅（ＩＩ）塩、バナジウム含有ポリオキソメタレート、またはベンゾキノンなどの有機電子受容体が挙げられる。
本発明によるＣＤＣプロセスは好ましくは、室温を超える温度で行われる。最適な温度は、アレーンカップリングのパートナー（１つまたは複数）の性質、必要とされる選択性、特に必要とされる位置選択性に応じて異なる。好ましくは、反応温度は、７０〜２００℃、最も好ましくは９０〜１８０℃である。好ましい酸素圧力は、利用可能な基盤施設およびＣＤＣ反応の性質に応じて異なる。好ましくは、本発明によるＣＤＣプロセスは、爆発の危険性が排除される（例えば、酸素限界濃度未満で組成物と共に酸素／窒素混合物を連続供給することにより、セミバッチ反応器を操作することによって）ような方法で、あるいは意図されない爆発を許容可能なレベルまで抑える（例えば、酸素を有する連続フロー管型反応器、または酸素の連続供給を介して最小限のヘッドスペースのセミバッチ反応器を操作することによって）ような方法で行われる。
本発明によるＣＤＣプロセスは、ホモカップリング（すなわち、ビアリール生成物を形成するためにカップリングされる単一のアレーンを用いた）またはヘテロカップリング（すなわち、異なる２つのアレーンカップリングパートナーを用いた）を含み得る。本発明によるこれらのタイプのＣＤＣプロセスは、分子間または分子内プロセスのいずれかであり得る。
本発明によるホモカップリングまたはヘテロカップリングプロセスにおいて適切なアレーンの例は、アレーン（ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレンなど）、アルキルアレーン（トルエン、１−メチルナフタレン、２−メチルナフタレン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、エチルベンゼン、クメン、ｔ−ブチルベンゼン、ジフェニルメタン、プロパン−２，２−ジイルジベンゼン）、アリールカルボン酸エステル（メチルベンゾエート、メチル１−ナフトエート、メチル２−ナフトエート、ジメチルフタレート、メチルｏ−トルエート、メチルｍ−トルエート、メチルｐ−トルエート、ジメチルイソフタレート、ジメチルテレフタレートなど）、ハロアレーン（フルオロベンゼン、１−フルオロナフタレン、２−フルオロナフタレン、クロロベンゼン、１−クロロナフタレン、２−クロロナフタレンなど）、アリールエーテル（アニソール、１−メトキシナフタレン、２−メトキシナフタレン、ジフェニルエーテルなど）、およびジアリールアミン（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアセトアミド）である。本発明によるホモカップリングにおけるアレーンは、例えば、パラジウム塩へのその配位で窒素供与体配位子と競合することによって、ＣＤＣプロセスにおいてネガティブに干渉するヘテロ原子を持たない限り、ヘテロアレーンであってもよい。適切なヘテロアレーンの例は、Ｃｈｅｍ．Ａｓｉａｎ Ｊ．２０１４，９，２６に記載されている（フラン、チオフェン、ピロール、ピリジン−Ｎ−オキシド、およびそのベンゾ縮合誘導体など）。
［実施例］
ｏ−キシレンのＣＤＣに取り組む以下の実施例において、位置選択性は、１００％＊収率（３３４４）／［収率（２３３４）＋収率（３３４４）］と定義され、化学選択性は、１００％＊［収率（２３３４）＋収率（３３４４）］／［収率（２３３４）＋収率（３３４４）＋収率（Ｂａｌｄ）］と定義され、３３４４は、３，３’，４，４’−テトラメチル−１，１’−ビフェニルを意味し、２３３４は、２，３，３’，４’−テトラメチル−１，１’−ビフェニルを意味し、Ｂａｌｄは、２−メチルベンズアルデヒドを意味する。活性は、所定の長さの反応時間で得られる、合計された２３３４＋３３４４収率として定義される。
ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）測定は、Ａｇｉｌｅｎｔ ＨＰ−５カラム（長さ，３０ｍ；直径，０．３２ｍｍ；膜，０．２５μｍ）を備えたＡｇｉｌｅｎｔ ６８９０装置で行われた。設定：初期温度、８０℃（１分）；上昇速度，２０℃／分；最終温度，３００℃（３分）。保持時間（分）：Ｂａｌｄ，４．０４；ヘキサデカン内標準，７．４５；２３３４，８．４５；３３４４，９．０４。
［実施例１．１〜１．１２］
種々の配位子を使用した溶媒中でのＣＤＣ（Ｎ／Ｐｄモル比は１／１である）。
実施例１．１〜１．１２は、Ｐｄに対してＮ−供与体原子１当量に相当する量で添加される配位子の存在下で、その場で生成されるＰｄ［ＭｅＣＯ２］［ＣＦ３ＣＯ２］によって触媒される、溶媒としての炭酸プロピレン中でのｏ−キシレンのＯ２１バール下でのＣＤＣに関する。
各実施例に関して、ｏ−キシレン（１．０ｍＬ）、無水炭酸プロピレン（１．０ｍＬ）、Ｐｄ［ＭｅＣＯ２］２（１．０モル％）、ＣＦ３ＣＯ２Ｈ（０．８モル％）、および表１に示す配位子（Ｎ−供与体原子１．０モル％）の混合物を、反応管内でＯ２１バール下にて８５℃（外部温度）で１６時間撹拌した。反応混合物を希釈し、続いて、内標準としてヘキサデカンを使用してＧＣによって試料を分析した。エステル基を有するピリジン配位子９の意図しない酸触媒加水分解を抑制するために、Ｐｄ［ＭｅＣＯ２］２をＰｄ［ＭｅＣＯ２］［ＣＦ３ＣＯ２］へと完全に転化するのに必要な量に対して、わずかに不足した量のＣＦ３ＣＯ２Ｈを使用した。その結果を表１に示す。
［比較実験Ａ．１〜Ａ．１２］
種々の配位子を使用した溶媒中でのＣＤＣ（Ｎ／Ｐｄモル比は２／１である）。
実施例１．１〜１．１２と同様であるが、Ｎ／Ｐｄモル比は２／１である。配位子および結果を表１に示す。
実施例１．１〜１．１２と比較実験Ａ．１〜Ａ．１２との比較から、Ｎ／Ｐｄ比を２／１から１／１へと低減すると、活性が著しく増加することが分かる。表１のデータから、配位子の置換基パターンによって活性および選択性のコントロールも例示される（実施例１．１を実施例１．２〜１．９と共に参照のこと）。
Figure 2017522309
［実施例２．１および２．２］
実施例１．１〜１．２と同様であるが、配位子として２−（トリフルオロメチル）ピリジンまたは２，６−ジフルオロピリジンを使用した。その結果を表２に示す。
Figure 2017522309
これらの実験から、最終用途で、対称性３３４４位置異性体の代わりに、非対称性２３３４位置異性体に対して、ｏ−キシレンのＣＤＣの照準を合わせる必要がある場合、窒素供与体配位子として、少なくとも１つの電子求引性、非配位性、好ましくはバルキーなオルト置換基を有する非シクロパラジウム化性ピリジンを使用した場合に、より良い結果が得られることが分かる。この結論は、例えば、配位子としてピリジンまたは４−（トリフルオロメチル）ピリジン１当量（実施例１．１および１．６）を使用した、表１に示すデータとの比較から導き出すことができ、窒素供与体配位子（実施例２．２）として、２−（トリフルオロメチル）ピリジン（実施例２．１．）１当量で得られた位置異性体比０．５２または２，６−ジフルオロピリジン１当量で得られた位置異性体比０．６６と比べて、どちらも２３３４／３３４４ビアリール位置異性体比０．１７が得られた（２３３４／３３４４＝［１００／位置選択性］−１）。
［実施例３．１〜３．１５］
種々の配位子およびカルボキシレートアニオンを使用した、溶媒を使用しない低圧でのＣＤＣ。
実施例３は、Ｐｄに対してＮ−供与体原子１当量に相当する量で添加される配位子の存在下で、（その場で生成される）パラジウムカルボキシレートによって触媒される、溶媒を使用しないＯ２１バール下でのｏ−キシレンの脱水素型クロスカップリングに関する。
ｏ−キシレン（２．０ｍＬ）、パラジウムカルボキシレート（１種または複数種）（Ｐｄ合計０．５モル％）、任意にカルボン酸添加剤（表３に示す量）、および配位子（Ｎ−供与体原子０．５モル％）の混合物を、反応管内でＯ２１バール下にて８５℃（外部温度：実施例３．１２については２時間）で３時間撹拌した。反応混合物を希釈し、続いて、内標準としてヘキサデカンを使用してＧＣによって試料を分析した。配位子、カルボキシレートおよびその結果を表３に示す。
表３は、２種類のパラジウムジカルボキシレート塩間の陰イオン交換（実施例３．５）による、またはパラジウムジカルボキシレート塩とカルボン酸との陰イオン交換（実施例３．７〜３．９、３．１１、３．１２、３．１４、および３．１５）による、その場で生成されたパラジウムカルボキシレート触媒の実施例を示す。
実施例３．１、３．３、および３．５は、カルボキシレート基に対してα−炭素原子にて三重に置換されたカルボン酸であって、少なくとも１つのβ−炭素原子も含有するカルボン酸から誘導された非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含有するパラジウムカルボキシレート触媒が、実施例３．１３〜３．１５に記載の、かかる三重に置換されたカルボキシレート基を欠いたカルボン酸から誘導された非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含有するパラジウムカルボキシレート触媒の代わりに使用された場合に、活性および位置選択性が向上することを例示する。
実施例３．３、３．５〜３．１１、および３．１４は、酢酸と２、２，２−トリフルオロ酢酸の酸度定数の間の酸度定数を有するカルボン酸から誘導された少なくとも１つの非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含有するパラジウムカルボキシレート触媒が、実施例３．１３および３．１５に記載の、この酸性度範囲外の酸性度を有するカルボン酸から誘導された非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含有するパラジウムカルボキシレート触媒の代わりに使用された場合に、活性および位置選択性または化学選択性が向上することを例示する（前述の酸度定数は、２種類の異なるカルボキシレートアニオンの場合には酸度定数平均（ｐＫａ ａｃｉｄ１＋ｐＫａ ａｃｉｄ２）／２を意味する）。
表３のデータは、配位子の置換基パターンによる、活性および選択性のコントロールも例示する（実施例３．１を３．２と；実施例３．３を３．４と参照）。
さらに、表３のデータは、化学選択性（実施例３．６を３．９と；実施例３．１３を３．１４と；実施例３．１３を３．１５と参照）および／または活性（実施例３．１３を３．１４と参照）は、パラジウムカルボキシレート触媒に強酸を添加することから利益を得ることを例示している。
Figure 2017522309
Figure 2017522309
Figure 2017522309
［実施例４．１〜４．９］
種々の配位子およびカルボキシレートアニオンを用いた、溶媒を使用しない高圧でのＣＤＣ。
ｏ−キシレン（１．０ｍＬ）、パラジウムカルボキシレート（Ｐｄ０．５モル％）、任意にカルボン酸添加剤（表４に示す量）、および配位子（Ｎ−供与体原子０．５モル％）の混合物を、オートクレーブ内でＯ２１１バール下にて８５℃（外部温度）で約２．５時間撹拌した。反応混合物を希釈し、続いて内標準としてヘキサデカンを使用してＧＣによって、試料を分析した。その結果を表４に示す。
実施例４．２、４．３、および４．５〜４．７は、パラジウムジカルボキシレート塩とカルボン酸との陰イオン交換による、その場で生成されるパラジウムカルボキシレート触媒の実施例を提供する。
実施例４．４および４．５は、カルボキシレート基に対してα−炭素原子にて三重に置換されたカルボン酸であって、少なくとも１つのβ−炭素原子も含有するカルボン酸から誘導された非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含有するパラジウムカルボキシレート触媒が、実施例４．１〜４．３に記載の、かかる三重に置換されたカルボキシレート基を欠いたカルボン酸から誘導された非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含有するパラジウムカルボキシレート触媒の代わりに使用された場合に、活性および／または選択性が増加することを例示する。
実施例４．２、４．３、４．５、および４．６は、強酸性カルボン酸、すなわち酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の酸度定数平均以下の酸度定数を有するカルボン酸から誘導された少なくとも１つの非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオン含有するパラジウムカルボキシレート触媒が、実施例４．１および４．４に記載の、この酸性度定数平均を超える酸性度定数を有するカルボン酸から誘導された非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含有するパラジウムカルボキシレート触媒の代わりに使用された場合に、活性、時に選択性も増加することを例示する（前述の酸度定数平均は、（ｐＫａ ａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ＋ｐＫａ ｔｒｉｆｌｕｏｒｏａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ）／２として定量化される）。実施例４．７を実施例３．１５と比較することによって、酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の酸度定数の間の範囲の酸度定数未満である酸度定数を有する、トリフルオロ酢酸などのカルボン酸から誘導されたパラジウムジカルボキシレート触媒は、比較的高い酸素圧力（分圧）（２〜２０バール；実施例４．７）下にてうまく機能するが、比較的低い酸素圧力（分圧）（０．２〜２バール；実施例３．１５）の条件下ではうまく機能しないことが例示されている。
表４のデータからも、配位子の置換基パターンによる、活性および選択性のコントロールが例示されている（実施例４．３を４．７と；実施例４．８を４．９と参照）。
さらに、表４のデータから、活性および選択性が、パラジウムカルボキシレート触媒への強酸の添加からもたらされ得ることが例示されている（実施例１を２と；実施例１を３と；実施例２を３と；実施例１を５と；実施例１を６と参照）。
Figure 2017522309
［比較実験Ｂ．１〜Ｂ．４］
低圧での、配位子を使用しない、または配位子を使用した、種々のカルボキシレートアニオンを使用した、溶媒を使用しないＣＤＣ（Ｎ／Ｐｄモル比は２／１である）。
ｏ−キシレン（２．０ｍＬ）と、配位子としての４−（トリフルオロメチル）ピリジン（Ｎ−供与体原子１．０モル％）（使用する場合と、使用しない場合がある）と、パラジウムカルボキシレート（Ｐｄ０．５モル％）との混合物を、反応管内でＯ２１バール下にて８５℃（外部温度）で３時間撹拌した。反応混合物を希釈し、続いて、内標準としてヘキサデカンを使用してＧＣによって試料を分析した。その結果を表５に示す。
Figure 2017522309
実施例３．１および３．６を比較実験Ｂ．１およびＢ．３とそれぞれ比較することによって、Ｎ／Ｐｄ比を０から１に増加すると活性が強く増加し、良好な、または優れた選択性が得られることが例示されている。実施例３．１および３．６を比較実験Ｂ．２およびＢ．４とそれぞれ比較することによって、Ｎ／Ｐｄ比を２から１へ低減すると活性が強く増加し、良好な、または優れた選択性が得られることが例示されている。
［比較実験Ｃ．１〜Ｃ．４］
高圧での、配位子を使用しない、または配位子を使用した、種々のカルボキシレートアニオンを使用した、溶媒を使用しないＣＤＣ（Ｎ／Ｐｄモル比は２／１である）。
ｏ−キシレン（１．０ｍＬ）と、配位子としてのピリジン（Ｎ−供与体原子１．０モル％）（使用する場合と、使用しない場合がある）と、パラジウムカルボキシレート（Ｐｄ０．５モル％）と、任意にカルボン酸添加剤（以下に示す量）との混合物を、オートクレーブでＯ２１１バール下にて８５℃（外部温度）で約２．５時間撹拌した。反応混合物を希釈し、続いて、内標準としてヘキサデカンを使用してＧＣによって試料を分析した。その結果を表６に示す。
Figure 2017522309
実施例４．１、４．３、４．４、および４．５を比較実験Ｃ．１、Ｃ．２、Ｃ．３、およびＣ．４とそれぞれ比較することによって、Ｎ／Ｐｄ比を０から１に増加すると活性が強く増加し、良好な、または優れた選択性が得られることが例示されている。実施例４．１、４．３、４．４、および４．５を比較実験Ｃ．５、Ｃ．６、Ｃ．７、およびＣ．８とそれぞれ比較することによって、Ｎ／Ｐｄ比を２から１へ低減すると活性が強く増加し、良好な、または優れた選択性が得られることが例示されている。
［比較実験Ｄ］
β脱離性配位子を使用したＣＤＣ（Ｎ／Ｐｄモル比は１／１である）。
ｏ−キシレン（１．０ｍＬ）、無水炭酸プロピレン（１．０ｍＬ）、Ｐｄ［ＭｅＣＯ２］２（１．０モル％）、ＣＦ３ＣＯ２Ｈ（０．８モル％）、およびトリプロピルアミン（Ｎ−供与体原子１．０モル％）の混合物を、反応管内でＯ２１バール下にて８５℃（外部温度）で１６時間撹拌した。反応混合物を希釈し、続いて、内標準としてヘキサデカンを使用してＧＣによって試料を分析した。表１に示す結果とこの結果を正確に比較するために、Ｐｄ［ＭｅＣＯ２］２をＰｄ［ＭｅＣＯ２］［ＣＦ３ＣＯ２］へと完全に転化するのに必要な量に対して、わずかに不足した量のＣＦ３ＣＯ２Ｈを使用した。その結果を表１に示す。活性は得られなかった。窒素供与体配位子としてのトリアルキルアミンのβ水素脱離は、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ２０１１，１７，３０９１に記述されている。非β脱離性トリアルキルアミン配位子の例としてキヌクリジンをベースとする実施例１．１０を比較実験Ｄと比較することによって、β脱離性配位子の代わりに非β脱離性配位子を使用すると、活性が強く増加し、良好な、または優れた選択性が得られることが例示されている。
［比較実験Ｅ］
シクロパラジウム化性配位子を使用したＣＤＣ（Ｎ／Ｐｄモル比は１／１である）。
ｏ−キシレン（１．０ｍＬ）、無水炭酸プロピレン（１．０ｍＬ）、Ｐｄ［ＭｅＣＯ２］２（１．０モル％）、ＣＦ３ＣＯ２Ｈ（０．８モル％）、および２−（ｔ−ブチル）ピリジン（Ｎ−供与体原子１．０モル％）の混合物を、反応管内でＯ２１バール下にて８５℃（外部温度）で１６時間撹拌した。反応混合物を希釈し、続いて、内標準としてヘキサデカンを使用してＧＣによって試料を分析した。表１に示す結果とこの結果を正確に比較するために、Ｐｄ［ＭｅＣＯ２］２をＰｄ［ＭｅＣＯ２］［ＣＦ３ＣＯ２］へと完全に転化するのに必要な量に対して、わずかに不足した量のＣＦ３ＣＯ２Ｈを使用した。その結果を表１に示す。活性は得られなかった。窒素供与体配位子としての２−（ｔ−ブチル）ピリジンのシクロパラジウム化は、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１２，５１，２２２５に記述されている。配位子としての非シクロパラジウム化性ピリジンをベースとする実施例１．１〜１．９を比較実験Ｅと比較することによって、シクロパラジウム化性配位子の代わりに非シクロパラジウム化性配位子を使用すると、活性が強く増加し、良好な、または優れた選択性が得られることが例示されている。
［比較実験Ｆ］
シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを使用したＣＤＣ（Ｎ／Ｐｄモル比は１／１である）。
ｏ−キシレン（２．０ｍＬ）、Ｐｄ［ＭｅＣＯ２］２（０．５モル％）、４−（トリフルオロメチル）安息香酸（１．０モル％）、および４−（トリフルオロメチル）ピリジン（Ｎ−供与体原子０．５モル％）の混合物を、反応管内でＯ２１バール下にて８５℃（外部温度）で３時間撹拌した。反応混合物を希釈し、続いて、内標準としてヘキサデカンを使用してＧＣによって試料を分析した。合わせた２３３４＋３３４４収率は０．１９％であった。安息香酸アニオンのシクロパラジウム化が、Ｊ．Ａｍ．Ｃｅｍ．Ｓｏｃ．２００８，１３０，１４０８２に記述されている。４−（トリフルオロメチル）安息香酸のシクロパラジウム化についての直接的な証拠は、トルエン−ｄ８０．８ｍＬ中のＰｄ［ＭｅＣＯ２］２（０．０３７ｍｍｏｌ）、４−（トリフルオロメチル）安息香酸（０．０７５ｍｍｏｌ）、および４−（トリフルオロメチル）ピリジン（０．０３８ｍｍｏｌ）を反応管内で８５℃（外部温度）にて１５時間加熱し、続いて濾過によって微量の金属パラジウムを除去し、濾液を１Ｈ−ＮＭＲ分析にかけることによって得られた。複雑なＮＭＲスペクトルから、ベンゾエート単位の明らかな転化が示された。トルエン−ｄ８が蒸発し、ピリジン−ｄ５に黄色−白色粉末を再溶解した後に、かなり単純なＮＭＲスペクトルが得られ、６．５７ｐｐｍで特有の高い高電界一重項を有し、それは、パラジウム化炭素原子に対してシス位に位置し、かつＰｄ周囲の正方形平面に対して垂直であるピリジンを有する、ピリジン配位子を有するシクロパラジウム化４−（トリフルオロメチル）ベンゾエート錯体におけるＣＦ３保有かつパラジウム化炭素原子に対してオルト位に位置するプロトンに相当する。カルボキシレートアニオンとして非シクロパラジウム化性３−（トリフルオロメチル）ベンゾエートをベースとする実施例３．１１を比較実験Ｆと比較することによって、シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンの代わりに非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを使用すると、活性が強く増加し、良好な、または優れた選択性が得られることが例示されている。４−（トリフルオロメチル）ベンゾエートの代わりに、３−（トリフルオロメチル）ベンゾエートを使用して得られたかなり高い収率から、シクロパラジウム化を受ける炭素原子に対して適切にこれらが位置するという条件で、電子求引性置換基を導入することによって、シクロパラジウム化に対するカルボキシレートアニオンの感受性を抑制することができることが例示される。

Claims (15)

  1. 少なくとも１つの非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含むパラジウム塩と、少なくとも１つのＮ−供与体原子を含む１つまたは複数の非β脱離性、非シクロパラジウム化性配位子と、を含む触媒系の存在下で、少なくとも１つのアリール炭素−水素結合を含む２つのアレーン基の好気性脱水素型クロスカップリング（ＣＤＣ）によってビアリール化合物を製造するプロセスであって、前記１つまたは複数の配位子が、Ｐｄ原子に対してＮ−供与体原子のモル比０．５／１〜１．５／１を有する、プロセス。
  2. 前記Ｐｄ原子に対するＮ−供与体原子のモル比が、０．７／１〜１．３／１である、請求項１に記載のプロセス。
  3. 前記Ｐｄ原子に対するＮ−供与体原子のモル比が、０．８／１〜１．２／１である、請求項１に記載のプロセス。
  4. 脂肪族環状または非環状第１級、第２級または第３級アミン、芳香族Ｎ−複素環および／またはそのベンゾ縮合誘導体が、前記１つまたは複数の配位子として使用される、請求項１〜３のいずれか一項に記載のプロセス。
  5. ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、４，５−ジヒドロオキサゾール、イソキサゾール、４，５−ジヒドロイソキサゾール、および５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−オキサジンまたはキノリン、イソキノリン、シンノリン、フタラジン、キナゾリン、キノキサリン、１Ｈ−ベンゾ［ｄ］イミダゾール、１Ｈ−ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール、ベンゾ［ｄ］オキサゾール、ベンゾ［ｄ］イソキサゾールおよび４Ｈ−ベンゾ［ｅ］［１，３］オキサジンおよび／またはそのベンゾ縮合誘導体が、前記１つまたは複数の配位子として使用される、請求項４に記載のプロセス。
  6. ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、シンノリン、フタラジン、キナゾリン、およびキノキサリンおよび／またはそのベンゾ縮合誘導体が、前記１つまたは複数の配位子として使用される、請求項４に記載のプロセス。
  7. 前記プロセスが、酸素０．２〜２バールの圧力（分圧）下にて行われ、かつカルボキシレート基に対してα−炭素原子にて三重に置換されているカルボン酸から誘導される少なくとも１つの非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含むパラジウム塩を含む触媒であって、前記カルボン酸が少なくとも１つのβ−炭素原子も含有する触媒系が使用される、請求項１〜６のいずれか一項に記載のプロセス。
  8. 前記プロセスが、酸素０．２〜２バールの圧力（分圧）下にて行われ、かつ酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の間にある酸度定数を有するカルボン酸から誘導された少なくとも１つの非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含むパラジウム塩を含む触媒系であって、前述の酸度定数が、２種類の異なるカルボキシレートアニオンの場合に酸度定数平均（ｐＫａ ａｃｉｄ１＋ｐＫａ ａｃｉｄ２）／２を意味する、触媒系が使用される、請求項１〜６のいずれか一項に記載のプロセス。
  9. 前記プロセスが、酸素２〜２０バールの圧力（分圧）下にて行われ、かつ強酸性カルボン酸、すなわち酢酸と２，２，２−トリフルオロ酢酸の酸度定数平均以下の酸度定数を有するカルボン酸から誘導される少なくとも１つの非シクロパラジウム化性カルボキシレートアニオンを含むパラジウム塩を含む触媒系であって、前述の酸度定数平均が、（ｐＫａ ａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ＋ｐＫａ ｔｒｉｆｌｕｏｒｏａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ）／２と定量化される、触媒系が使用される、請求項１〜６のいずれか一項に記載のプロセス。
  10. 前記カルボキシレートアニオンが、２，２−ジアルキルアルカノン酸、２−フルオロ−２−アルキルアルカノン酸、２，２−ジフルオロアルカノン酸、２，２−ジフルオロ−２−アリール酢酸から誘導され、前記アルカン酸が少なくとも１つのβ−炭素原子を含有する、請求項７に記載のプロセス。
  11. 前記カルボキシレートアニオンが、ピバル酸、３，３，３−トリフルオロ−２−メチル−２−（トリフルオロメチル）プロパン酸、３，３，３−トリフルオロ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）プロパン酸、および２，２−ジフルオロ−２−フェニル酢酸から誘導される、請求項７に記載のプロセス。
  12. 前記カルボキシレートアニオンが、２，２−ジフルオロ酢酸、２，２−ジフルオロプロピオン酸、３，３，３−トリフルオロ−２−メチル−２−（トリフルオロメチル）プロパン酸、３，３，３−トリフルオロ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）プロパン酸、２，３，４，５，６−ペンタフルオロ安息香酸、２，２−ジフルオロ−２−フェニル酢酸、２−（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）酢酸、２，４−ジニトロ安息香酸、２，５−ジニトロ安息香酸、および３，４−ジニトロ安息香酸から誘導される、請求項８に記載のプロセス。
  13. 前記カルボキシレートアニオンが、トリフルオロ酢酸、３，３，３−トリフルオロ−２，２−ビス（トリフルオロメチル）プロパン酸、３，３，３−トリフルオロ−２−（トリフルオロメチル）プロパン酸、および２，２−ジフルオロ−２−フェニル酢酸から誘導される、請求項９に記載のプロセス。
  14. 全反応物に対して、最大で５０重量％の溶媒が使用される、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のプロセス。
  15. 全反応物に対して、最大で１０重量％の溶媒が使用される、請求項１〜１４のいずれか一項に記載のプロセス。
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