JP2017504058A - 変換素子、変換素子の製造方法、変換素子を備えるオプトエレクトロニクスデバイス - Google Patents
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Abstract
Description
A)窒化物蛍光材料又は酸窒化物蛍光材料の粒子を、SiO2、TiO、TiO2、Al2O3、B2O3、ZrO、ZrO2、ZnO、ZnO2、無機−有機ハイブリッド材料、AlN、BN、TiN、Si3N4、ZrN、Zn3N2、及びグラフェンを含む群より選択される無機材料、又はそれらの組み合わせで被覆するするステップ。これによって、無機材料からなるシェル、及び窒化物蛍光材料又は酸窒化物蛍光材料からなるコアを有する、第1変換体粒子を作製する。
B)無機ガラスを含む小板を提供するステップ。
C)小板の表面層を溶解するステップ。
E)溶解表面層に第1変換体粒子を適用するステップ。
A)窒化物蛍光材料又は酸窒化物蛍光材料の粒子を、SiO2、TiO、TiO2、Al2O3、B2O3、ZrO、ZrO2、ZnO、ZnO2、無機−有機ハイブリッド材料、AlN、BN、TiN、Si3N4、ZrN、Zn3N2、及びグラフェンを含む群より選択される無機材料、又はそれらの組み合わせで被覆して、無機材料からなるシェル、及び窒化物蛍光材料又は酸窒化物蛍光材料からなるコアを有する、第1及び/又は第2変換体粒子を作製するステップ。
B)無機ガラス、例えば上述の無機ガラスからなるガラスフリット又は紛体を作製するステップ。
C)ガラスフリット又は紛体を、変換体粒子、液状分散剤、及び任意のバインダと混合して、好ましくはテープ成形に好適であり、スラリーとも定義づけられる塩基性成形用化合物を作製するステップ。
D)塩基性成形用化合物を流延成形、特にテープ成形して、粗変換素子体又は小板、特にフィルム、を形成するステップであって、分散剤を完全に又は部分的に蒸発させるステップ。
E)所望により、粗変換素子体を、鋸引き、折断、切断、せん断、穴開け、又はレーザ処置などによって変換素子に分割するステップ。任意の焼結手順における収縮を本分割手順の際に考慮するため、ステップE)の直後には、変換素子及び/又は小板は完成品である変換素子よりも横方向の寸法が大きくてもよい。
F)バインダが用いられる場合はバインダを除去し、無機ガラス及び変換体粒子、特に無機ガラス及び変換体粒子のみを残すステップ。
G)小板及び/又は変換素子及び/又は粗変換素子体を焼結して、無機ガラスを変換体粒子と接合するステップ。
H)所望により、粗変換素子体から小板及び/又は変換素子を形成するための成型、又はステップEで得られた変換素子及び/又は小板から変換素子を形成するための成型を行うステップであって、変換素子の最終形状を得るために、鋸引き、研削、レーザ切断、切断、スコーリング及び折断、ウォータージェット切断、又は穴開けなどによる成型を行うステップ。
F)第1変換体粒子を溶融表面層に部分的及び/又は完全に沈み込ませるステップ。
G)保護層を、小板の第1主面に適用するステップ。前記保護層は、パリレン、ポリシラザン、シリコーン、SiO2、TiO、TiO2、Al2O3、B2O3、ZrO、ZrO2、ZnO、ZnO2、無機−有機ハイブリッド材料、AlN、BN、TiN、Si3N4、ZrN、Zn3N2、グラフェン、及び無機ガラスを含む群より選択される材料、またはそれらの組み合わせを含む。特に、保護層は、第1変換体粒子が小板の表面に配置される場合、又は方法ステップF)において、第1変換体粒子が溶融表面層内に部分的にしか沈み込んでいない場合に、適用される。保護層が、SiO2、TiO、TiO2、Al2O3、B2O3、ZrO、ZrO2、ZnO、ZnO2、AlN、BN、TiN、Si3N4、ZrN、Zn3N2、及びグラフェン、を含む群より選択される材料、またはそれらの組み合わせを含む場合、上記材料はCVD(化学蒸着)法によって適用可能である。
H)反射防止層及び/又は反射層を、小板の第2主面に適用するステップ。
Claims (18)
- 無機ガラスを含む小板(2)と、
シェル(3a)及びコア(3b)を有する第1変換体粒子(3)と、を含んでおり、
前記シェル(3a)は無機材料を含み、
前記コア(3b)は窒化物蛍光材料又は酸窒化物蛍光材料を含んでおり、
前記第1変換体粒子(3)は前記小板(2)の表面及び/又は内部に配置される、変換素子(1)。 - 前記第1変換体粒子(3)の直径が10μm以上100μm以下であり、前記シェル(3a)の厚さが10nm以上50μm以下であり、
前記第1変換体粒子(3)の前記シェル(3a)に含まれる前記無機材料と、前記小板(2)に含まれる無機ガラスとの間に化学結合が存在する、請求項1に記載の変換素子(1)。 - 前記シェル(3a)に含まれる前記無機材料は、SiO2、TiO、TiO2、Al2O3、B2O3、ZrO、ZrO2、ZnO、ZnO2、無機−有機ハイブリッド材料、AlN、BN、TiN、Si3N4、ZrN、Zn3N2、及びグラフェンを含む群から選択される一種、またはそれらの組み合わせである、請求項1又は2に記載の変換素子(1)。
- 前記小板(2)が、それを覆うように配置される保護層(4)を有し、前記保護層は(4)は、パリレン、ポリシラザン、シリコーン、SiO2、TiO、TiO2、Al2O3、B2O3、ZrO、ZrO2、ZnO、ZnO2、無機−有機ハイブリッド材料、AlN、BN、TiN、Si3N4、ZrN、Zn3N2、グラフェン、及び無機ガラスを含む群より選択される材料、またはそれらの組み合わせを含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の変換素子(1)。
- 前記第1変換体粒子(3)は、前記小板(2)に含まれる前記無機ガラスの中に完全に埋没している、又は前記小板(2)に含まれる前記無機ガラス及び前記保護層(4)の材料の中に完全に埋没している、請求項1〜4のいずれか1項に記載の変換素子(1)。
- 酸化物蛍光材料を含む第2変換体粒子(7)を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の変換素子(1)。
- 前記第2変換体粒子は前記小板(2)の表面及び/又は内部に配置される、請求項1〜6のいずれか1項に記載の変換素子(1)。
- 前記化学結合は共有結合である、少なくとも請求項2に記載の変換素子(1)。
- 前記無機ガラスは、ケイ酸塩ガラス、ホウ酸塩ガラス、またはリン酸塩ガラスである、請求項1〜8のいずれか1項に記載の変換素子(1)。
- A)窒化物蛍光材料又は酸窒化物蛍光材料の粒子を、SiO2、TiO、TiO2、Al2O3、B2O3、ZrO、ZrO2、ZnO、ZnO2、無機−有機ハイブリッド材料、AlN、BN、TiN、Si3N4、ZrN、Zn3N2、及びグラフェンを含む群より選択される無機材料、またはそれらの組み合わせで被覆して、前記無機材料からなるシェル(3a)及び前記窒化物蛍光材料又は酸窒化物蛍光材料からなるコア(3b)を有する第1変換体粒子(3)を形成する方法ステップ
を含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載の変換素子(1)を製造する方法。 - B)ガラスからなる小板(2)を提供するステップと、
C)前記小板(2)の表面層を溶融するステップと、
E)前記溶融した表面層に前記第1変換体粒子(3)を適用するステップと、
をさらに含む、請求項10に記載の方法。 - B)無機ガラスからなるガラスフリット又は紛体を作製するステップと、
C)前記ガラスフリット又は前記紛体を、前記第1変換体粒子(3)と液状分散剤とに混合して、塩基性成形用化合物を作製するステップと、
D)前記塩基性成形用化合物を流延成形して、粗変換素子体を形成する、又は前記小板(2)を形成するステップであって、前記分散剤を完全に又は部分的に蒸発させるステップと、
G)前記小板(2)又は前記粗変換素子体を焼結して、前記無機ガラスを前記第1変換体粒子(3)に強固及び耐久的に接合させるステップと、を上記の順序でさらに含む、請求項10に記載の方法。 - 下記追加のステップを含み、ステップA)〜H)の順番で実行する、請求項12に記載の方法。
E)ステップD)で形成した前記粗変換素子体を分割して、前記変換素子とするステップと、F)ステップC)で前記塩基性成形化合物に添加したバインダを除去して、前記無機ガラス及び前記変換体粒子のみを前記塩基性成形化合物内に残すステップと、H)成型によって前記粗変換素子体から前記変換素子(1)と前記小板(2)とを形成するステップ。 - 方法ステップE)において、前記第1変換体粒子(3)を前記溶融表面層に適用させる際に、前記第1変換体粒子(3)の前記シェル(3a)が前記溶融表面層と接触して溶融する、請求項11に記載の方法。
- 方法ステップE)に続いて、下記方法ステップを実施する、請求項11又は14に記載の方法。
F)前記第1変換体粒子(3)を前記溶融表面層に部分的に及び/又は完全に沈み込ませるステップ。 - ステップC)に続いて、下記2つの方法ステップを実施する、請求項11、14又は15に記載の方法。
D)前記溶融表面層に、酸化物蛍光材料を含む第2変換体粒子(7)を適用するステップと、
D1)前記第2変換体粒子(7)を前記溶融表面層に完全に沈み込ませるステップ。 - 方法ステップA)において、前記無機材料を含むスラリー又はゲル、若しくは気体状の凝集体である前記無機材料を、前記窒化物蛍光材料又は酸窒化物蛍光材料の粒子を被覆するのに用いる、請求項10〜16のいずれか1項に記載の方法。
- オプトエレクトロニクスデバイス(5)であって、
前記デバイスの動作中に一次電磁放射線を放出する活性層を有する積層体(6)と、
前記一次電磁放射線の前記ビーム経路内に、更に前記積層体(6)を覆うように配置される、請求項1〜9のいずれか1項に記載の少なくとも1つの変換素子(1)と、を備え、
前記第1変換体粒子(3)は、前記一次電磁放射線を少なくとも部分的に二次電磁放射線に変換する、オプトエレクトロニクスデバイス(5)。
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