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  1. 基板と、
    反射性を有する第1の電極と、
    半透過半反射性を有する第2の電極と、
    前記第2の電極の上に位置する光出力結合層と、
    前記第1の電極と前記第2の電極との間に位置する有機層とを含み、
    前記有機層は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層及び電子輸送層を含み、前記正孔注入層は、前記第1の電極に近接しかつ前記第1の電極の上に位置し、前記発光層は、それぞれ赤色、緑色及び青色画素領域に位置する赤色発光層、緑色発光層及び青色発光層を含む有機発光表示装置であって、
    前記緑色及び赤色画素領域において、前記正孔注入層と前記正孔輸送層との間に位置する光学補償層をさらに含み、前記光学補償層が少なくとも二層構造であることを特徴とする有機発光表示装置。
  2. 前記緑色画素領域における前記光学補償層は、第1の光学補償層及び第2の光学補償層を含み、前記第1の光学補償層の最高占有分子軌道エネルギ準位から前記第2の光学補償層の最低非占有分子軌道エネルギ準位を引いた値が≧−0.2eVであり、
    前記赤色画素領域における前記光学補償層は、第1の光学補償層及び第2の光学補償層を含み、前記第1の光学補償層の最高占有分子軌道エネルギ準位から前記第2の光学補償層の最低非占有分子軌道エネルギ準位を引いた値が≧−0.2eVであることを特徴とする請求項1に記載の有機発光表示装置。
  3. 前記緑色画素領域における前記光学補償層は、第1の光学補償層及び第2の光学補償層を含み、前記第1の光学補償層の最高占有分子軌道エネルギ準位から前記第2の光学補償層の最低非占有分子軌道エネルギ準位を引いた値が≧−0.2eVであり、
    前記赤色画素領域における前記光学補償層は、第1の光学補償層、第2の光学補償層、第3の光学補償層及び第4の光学補償層を含み、前記第1の光学補償層の最高占有分子軌道エネルギ準位から前記第2の光学補償層の最低非占有分子軌道エネルギ準位を引いた値が≧−0.2eVであり、前記第3の光学補償層に用いられる材料が前記第1の光学補償層の材料と同じであり、前記第4の光学補償層に用いられる材料及び厚さが前記第2の光学補償層と同じであることを特徴とする請求項1に記載の有機発光表示装置。
  4. 前記緑色画素領域及び前記赤色画素領域における前記第1の光学補償層の材料の一般化学式は、

    又は

    であることを特徴とする請求項2又は3に記載の有機発光表示装置。
  5. 前記緑色画素領域及び前記赤色画素領域における前記第2の光学補償層の材料の一般化学式は、

    であることを特徴とする請求項2又は3に記載の有機発光表示装置。
  6. 前記緑色画素領域及び前記赤色画素領域における前記第2の光学補償層の材料はHAT(CN)であり、分子構造が、

    であることを特徴とする請求項2又は3に記載の有機発光表示装置。
  7. 前記正孔注入層は二層構造であり、前記第1の電極の上に位置する第1の正孔注入層と前記第1の正孔注入層の上に位置する第2の正孔注入層とを含み、
    前記第1の正孔注入層の材料は前記第1の光学補償層に用いられる材料と同じであり、前記第2の正孔注入層の材料は前記第2の光学補償層に用いられる材料と同じであることを特徴とする請求項2又は3に記載の有機発光表示装置。
  8. 前記第1の光学補償層の材料は、

    及び、

    とのドーピング構造であり、そのドーピング比が100:1〜5:1であり、
    或いは、前記第1の光学補償層の材料は、

    及び、

    とのドーピング構造を有し、ドーピング比が100:1〜5:1であることを特徴とする請求項2又は3に記載の有機発光表示装置。
  9. 基板と、基板に積層して設けられた第1の電極、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、第2の電極、光出力結合層とを含み、
    前記第2の電極の光透過率が25%以上であり、前記正孔注入層の屈折率が1.8以上であることを特徴とする視野角特性を改善したトップエミッション型OLED装置。
  10. 前記正孔注入層の材料は三級アミン系化合物であり、分子一般式は、

    であり、
    、R、R、Rはそれぞれ水素原子、アルキル基、アリール基から選択され、
    は、

    又は

    又は

    であり、
    L1とL2はアセン化合物であり、前記化合物の分子式はそれぞれ、

    及び


    であることを特徴とする請求項9に記載の視野角特性を改善したトップエミッション型OLED装置。
  11. 前記正孔注入層の材料の構造式は、
    (1)
    又は
    (2)
    又は
    (3)
    又は
    (4)
    又は
    (5)
    又は
    (6)
    又は
    (7)
    であることを特徴とする請求項10に記載の視野角特性を改善したトップエミッション型OLED装置。
  12. 前記光出力結合層は、バソクプロイン材料層であることを特徴とする請求項9に記載の視野角特性を改善したトップエミッション型OLED装置。
  13. 緑色及び赤色画素領域において、前記正孔注入層と前記正孔輸送層との間に位置する光学補償層をさらに含み、前記光学補償層が少なくとも二層構造であることを特徴とする請求項9に記載の視野角特性を改善したトップエミッション型OLED装置。
  14. 前記緑色画素領域における前記光学補償層は、第1の光学補償層及び第2の光学補償層を含み、前記第1の光学補償層の最高占有分子軌道エネルギから第前記2の光学補償層の最低非占有分子軌道エネルギを引いた値が≧−0.2eVであり、
    前記赤色画素領域における前記光学補償層は、第1の光学補償層及び第2の光学補償層を含み、前記第1の光学補償層の最高占有分子軌道エネルギから第前記2の光学補償層の最低非占有分子軌道エネルギを引いた値が≧−0.2eVであることを特徴とする請求項13に記載の視野角特性を改善したトップエミッション型OLED装置
  15. 前記緑色画素領域における前記光学補償層は、第1の光学補償層及び第2の光学補償層を含み、前記第1の光学補償層の最高占有分子軌道エネルギ準位から前記第2の光学補償層の最低非占有分子軌道エネルギ準位を引いた値が≧−0.2eVであり、
    前記赤色画素領域における前記光学補償層は、第1の光学補償層、第2の光学補償層、第3の光学補償層及び第4の光学補償層を含み、前記第1の光学補償層の最高占有分子軌道エネルギ準位から前記第2の光学補償層の最低非占有分子軌道エネルギ準位を引いた値が≧−0.2eVであり、前記第3の光学補償層に用いられる材料が前記第1の光学補償層の材料と同じであり、前記第4の光学補償層に用いられる材料及び厚さが前記第2の光学補償層と同じであることを特徴とする請求項13に記載の視野角特性を改善したトップエミッション型OLED装置
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