JP2017500439A5

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Publication number: JP2017500439A5
Application number: JP2016522003A
Authority: JP
Filing date: 2014-10-07
Publication date: 2017-10-19
Anticipated expiration: 2034-10-07

Claims

組成物を調製する方法であって、
約１５〜２０℃の温度で水を浄化して超純水を製造する工程と、
前記超純水に塩を混合して塩処理された水を作成する工程であって、前記塩が塩化ナトリウムである、工程と、
前記塩処理された水を７２時間を超えて室温で循環させる工程と、
前記塩処理された水を約４．５〜約５．８℃の温度に冷却する工程と、
前記塩処理された水を約４．５〜約５．８℃の温度で電気分解する工程と、
レオロジー変性剤を混合する工程とを含み、前記電気分解する工程が、アノード、カソード及び電源を用いて、前記電源がトランスと整流器とを備えるがフィルタコンデンサを備えないで達成される、方法。
ゲル組成物を作成する方法であって、
水を浄化して超純水を製造する工程と、
前記超純水に塩を混合して塩処理された水を作成する工程と、
前記塩処理された水を、カソード、アノード及び電源を用いて１５〜２５分間にわたって１０℃未満の温度で電気分解する工程と、
前記電気分解された塩処理された水をレオロジー変性剤と混合する工程とを含み、結果として得られる生成物がゲル組成物である、方法。
前記塩処理された水を前記電気分解する工程が、直流電源を用いて達成される、請求項２に記載の方法。
１Ｌ〜１０００Ｌの塩処理された水が電気分解され、前記電気分解する工程が、塩処理された水の１リットル当たり１５〜２５分間にわたる、請求項２に記載の方法。
前記組成物を、ガラス、ポリエチレン、およびポリプロピレンからなる群から選択された材料で梱包する工程を更に含む、請求項２に記載の方法。
局所適用のための組成物であって、
ゲルとして調製された電気分解された食塩水およびレオロジー変性剤を含み、
前記レオロジー変性剤が、ＳｉＯ ₂ 、ＭｇＯ、Ｌｉ ₂ Ｏ、およびＮａ ₂ Ｏのうちの１以上を含み、
前記電気分解された食塩水が、
１０００〜１４００ｐｐｍの濃度のナトリウムと、
１２００〜１６００ｐｐｍの濃度で存在する塩化物と、
次亜塩素酸と、
を含む、組成物。
前記次亜塩素酸が、約１６ｐｐｍ〜約２４ｐｐｍの濃度で又は約２３００ｐｐｍ〜約２７００ｐｐｍの濃度で存在する、請求項６に記載の組成物。
前記電気分解された食塩水が、９４μＭの濃度で存在する超酸化物ラジカルを更に含み、少なくとも９５％の前記超酸化物ラジカルが１３ヶ月にわたって安定である、請求項６に記載の組成物。
超酸化物ラジカルが前記組成物に存在しない、請求項６に記載の組成物。
前記電気分解された食塩水が、２４１μＭの濃度で存在するヒドロキシルラジカル又は０〜１０ｐｐｍの濃度で存在するヒドロキシルラジカルを更に含む、請求項６に記載の組成物。
ヒドロキシルラジカルが前記組成物に存在しない、請求項６に記載の組成物。
前記ゲルのｐＨが６〜９である、請求項６に記載の組成物。
前記ゲルのｐＨが７．６である、請求項１２に記載の組成物。
前記レオロジー変性剤が、ＳｉＯ ₂ またはＬａｐｏｎｉｔｅＸＬＧを含む、請求項６に記載の組成物。
レドックスシグナル伝達分子を含む組成物を用いて対象を処理する方法であって、前記方法が、
対象を提供する工程と、
循環する食塩水を電気分解することにより還元種（ＲＳ）と活性酸素種（ＲＯＳ）との混合物を含む組成物を調製して、還元種（ＲＳ）と活性酸素種（ＲＯＳ）との前記混合物を製造する工程であって、還元種と活性酸素種の前記混合物が物の中で脂肪酸を移動させる、工程と、
前記組成物を対象に投与する工程と、を含む方法。
対象の真菌感染症を処置する方法であって、前記真菌感染症または真菌で感染させられた領域を、還元種（ＲＳ）と活性酸素種（ＲＯＳ）との混合物を含む組成物に接触させる工程を含み、還元種（ＲＳ）と活性酸素種（ＲＯＳ）との前記混合物が、前記対象の中の真菌感染症を減少または改善する、方法。
少なくとも１つの真菌の存在を減少させる方法であって、前記少なくとも１つの真菌を、還元種（ＲＳ）と活性酸素種（ＲＯＳ）との混合物を含む組成物に接触させる工程を含み、還元種（ＲＳ）と活性酸素種（ＲＯＳ）との前記混合物が、前記少なくとも１つの真菌の存在を減少させる、方法。
ａ．少なくとも１つの活性酸素種（ＲＯＳ）を含む組成物と、
ｂ．レオロジー変性剤と、を含むゲル製剤であって、
前記組成物の製造方法が、水を浄化して超純水を製造する工程と、前記超純水に塩を混合して塩処理された水を作成する工程と、前記塩処理された水を４．３〜５．８℃の温度において電気分解する工程と、を含み、前記電気分解工程が、アノード、カソード及び電源を用いて、ａ）前記電源がトランスと整流器とを備えるがフィルタコンデンサを備えておらず、ｂ）前記電気分解工程中に前記アノードと前記カソードとの間で膜を使用しないようにして達成される、ゲル製剤。
前記少なくとも１つの活性酸素種（ＲＯＳ）が超酸化物である、請求項１８に記載のゲル製剤。
前記少なくとも１つの活性酸素種（ＲＯＳ）が次亜塩素酸又はその塩である、請求項１８に記載のゲル製剤。
前記少なくとも１つの反応性酸素種（ＲＯＳ）が、１年後にその元の濃度の少なくとも２５％の量で存在する、請求項１８に記載のゲル製剤。
前記方法が大規模な方法である、請求項１８に記載のゲル製剤。
前記塩が塩化ナトリウムである、請求項１８に記載のゲル製剤。
前記方法が、電圧が１秒間に少なくとも３０回０となりかつ前記電圧が常に正のままであるような脈動電圧を備える、請求項１８に記載のゲル製剤。
前記ゲルのｐＨが６〜９である、請求項１８に記載のゲル製剤。
前記組成物が、
ａ．誘導結合プラズマ質量分析法（ＩＣＰ−ＭＳ）によって測定されると１０００〜１４００ｐｐｍの濃度で存在するナトリウムと、
ｂ．誘導結合プラズマ質量分析法（ＩＣＰ−ＭＳ）によって測定されると１２００〜１６００ｐｐｍの濃度で存在する塩化物、又は³⁵Ｃｌ核磁気共鳴法（³⁵ＣｌＮＭＲ）によって測定されると０〜１ｐｐｍの濃度で存在する塩化物と、
ｃ．比色分析法によって測定されると１６〜２４ｐｐｍの濃度で存在する次亜塩素酸、又は²⁵Ｃｌ核磁気共鳴法（²⁵ＣｌＮＭＲ）によって測定されると２３００〜２７００ｐｐｍの濃度で存在する次亜塩素酸と、
ｄ．５−（ジイソプロポキシホスホリル）−５−１−ピロリン−Ｎ−オキサイド核磁気共鳴法（ＤＩＰＰＭＰＯ−ＮＭＲ）によって測定されると９４μＭの濃度で存在する超酸化物ラジカル、又は超酸化物ラジカルが存在しないことと、
ｅ．ＤＩＰＰＭＰＯ−ＮＭＲによって測定されると２４１μＭの濃度で存在するヒドロキシルラジカル、若しくは質量分析（ＭＳ）によって測定されると０〜１０ｐｐｍの濃度で存在するヒドロキシルラジカル、又はヒドロキシルラジカルが存在しないことと、を含む、請求項１８に記載のゲル製剤。
前記ナトリウム、前記塩化物、前記次亜塩素酸、前記超酸化物ラジカル及び前記ヒドロキシルラジカルが前記組成物の作製後１年未満に測定される、請求項２６に記載のゲル製剤。
前記ナトリウム、前記塩化物、前記次亜塩素酸、前記超酸化物ラジカル及び前記ヒドロキシルラジカルが前記組成物の作製後１年以内のどの時点でも存在する、請求項２６に記載のゲル製剤。
前記ナトリウム、前記塩化物、前記次亜塩素酸、前記超酸化物ラジカル及び前記ヒドロキシルラジカルがそれぞれ異なった時間に測定される、請求項２６に記載のゲル製剤。
前記ナトリウム、前記塩化物、前記次亜塩素酸、前記超酸化物ラジカル及び前記ヒドロキシルラジカルが同時に測定される、請求項２６に記載のゲル製剤。
前記レオロジー変性剤が、ＳｉＯ₂、ＭｇＯ、Ｌｉ₂Ｏ、及びＮａ₂Ｏを含む、請求項１８に記載のゲル製剤。
前記レオロジー変性剤が、架橋されたアクリル酸ポリマーを含む、請求項１８に記載のゲル製剤。
前記組成物が、図１３に示すような電子常磁性共鳴（ＥＰＲ）スペクトルを呈する、請求項１８に記載のゲル製剤。