JP2017218620A - 繊維状銅微粒子 - Google Patents

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裕孝 竹田
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Kenta Shibata
健太 柴田
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睦 松下
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Munenori Yamada
宗紀 山田
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Abstract

【課題】イオンマイグレーション耐性に優れ、かつ、導電性にも優れた繊維状銅微粒子を提供する。【解決手段】希薄電解液浸漬法において、25℃環境下、電極間距離1mm間に、±1Vの電界を1500秒間印加した場合のイオンマイグレーション析出量が1ppm以下の繊維状銅微粒子であって、前記繊維状銅微粒子を含む導電体の抵抗値が1000Ω以下であることを特徴とする繊維状銅微粒子、および前記繊維状銅微粒子を含むプリント基板、タッチパネル電極、電磁波シールド材。【選択図】図1

Description

本発明は、イオンマイグレーション耐性に優れ、かつ、導電性にも優れた繊維状銅微粒子に関する。
近年、太陽電池の市場拡大、および、スマートフォンやタブレット端末等の急速な普及によるタッチパネルの需要拡大に伴い、タッチパネル電極として透明導電膜が広く用いられている。透明導電膜としては、軽量化、薄膜化の観点から、透明導電フィルムが多く用いられており、現在そのほとんどが、酸化インジウムスズを導電層として用いるITOフィルムである。しかしながら、ITOフィルムは、導電層の屈曲性が乏しく折り曲げ性に問題がある。そこで、次世代の透明導電フィルムの1つとして、カーボンナノチューブのような繊維状導電体で構成される透明導電フィルムが注目されている。
透明導電フィルムに用いられる繊維状導電体としては、銀等からなる繊維状微粒子が知られている。中でも、繊維状銀微粒子は最も汎用的に用いられているが、銀はイオンマイグレーションを起こしやいため、通電により、配線間の絶縁に悪影響を及ぼすという問題があった。
そこで、繊維状銀微粒子表面をめっき等により他金属材料で被覆することによりイオンマイグレーション耐性を付与し、安定性を向上させる方法が提案されている(特許文献1、2)。しかしながら、特許文献1、2の方法は、めっき工程が入ることにより製法が煩雑であるという問題だけではなく、繊維状銀微粒子表面に均一にめっき処理するのが難しいため、イオンマイグレーション耐性にムラが生じやすく、導電性等の電気特性に問題が生じやすいという問題があった。
一方、銀以外の金属を主成分とする繊維状導電体も知られている(特許文献3〜6)。しかしながら、これらの銀以外の金属では、導電性が不十分であり、その用途が限定されていた。
特開2013−151752号公報 特開2013−155440号公報 特表2013−513220号公報 特開2007−284716号公報 国際公開第2014/147885号パンフレット 特開2012−238592号公報
本発明は、上記課題を解決するものであって、イオンマイグレーション耐性に優れ、かつ、導電性にも優れた繊維状銅微粒子を提供することを目的とするものである。
本発明者らは、このような課題を解決するため鋭意検討の結果、上記目的が達成されることを見出し、本発明に到達した。
すなわち、本発明の要旨は、以下のとおりである。
(1)希薄電解液浸漬法において、25℃環境下、電極間距離1mm間に、±1Vの電界を1500秒間印加した場合のイオンマイグレーション析出量が10ppm以下の繊維状銅微粒子であって、前記繊維状銅微粒子を含む導電体の抵抗値が1000Ω以下であることを特徴とする繊維状銅微粒子。
(2)(1)の繊維状銅微粒子を含むことを特徴とするプリント基板。
(3)(1)の繊維状銅微粒子を含むことを特徴とするタッチパネル電極。
(4)(1)の繊維状銅微粒子を含むことを特徴とする電磁波シールド材。
本発明によれば、イオンマイグレーション耐性に優れ、かつ、導電性にも優れた繊維状銅微粒子を提供することができる。本発明の繊維状銅微粒子は、プリント基板用配線、タッチパネル電極、電磁波シールド材等に好適に用いることができる。
実施例1と比較例1のイオンマイグレーション耐性試験の結果を示す図である。
本発明の繊維状銅微粒子は、希薄電解液浸漬法において、25℃環境下、電極間距離1mm間に、±1Vの電界を1500秒間印加した場合のイオンマイグレーション析出量が、1ppm以下であることが必要であり、0.1ppm以下であることが好ましい。
また、本発明の繊維状銅微粒子を含む導電体の抵抗値は、1000Ω以下であることが必要である。抵抗値は用途に応じて変更すればよく、例えば、前記導電体をプリント基板に用いるのであれば0.1Ω未満であることが好ましく、タッチパネル電極に用いるのであれば10〜500Ωであることが好ましく、電磁波シールド材に用いるのであれば10Ω以下であることが好ましい。
前記イオンマイグレーション析出量を1ppm以下とし、前記抵抗値を1000Ω以下とするには、繊維状銅微粒子の表面をESCAで測定したときに、銅単独のピークが検出される状態にすることが必要である。銅単体のピークは、932.7eV付近に検出することができる。
本発明の繊維状銅微粒子の寸法は特に限定されないが、通常、平均直径が10〜200nm、平均長が1〜100μm程度である。本発明においては、平均直径は10〜150nmであることがより好ましく、平均長は5〜50μmであることがより好ましい。
本発明の繊維状銅微粒子の製造方法としては、例えば、銅イオン、アルカリ性化合物、銅イオンと安定な錯体を形成し得る含窒素化合物及び還元剤を含有する水溶液から、繊維状銅微粒子を析出させ、得られた繊維状銅微粒子を酸処理または還元処理により得ることができる。酸処理または還元処理を施さない場合、得られる繊維状銅微粒子の導電性が低いので好ましくない。
銅イオンは、水溶性の銅塩を水に溶解させることにより得ることができる。水溶性の銅塩としては、例えば、硫酸銅、硝酸銅、塩化銅、酢酸銅が挙げられる。中でも、繊維状銅微粒子の形成しやすさの観点から、硫酸銅、硝酸銅が好ましい。
アルカリ性化合物としては、特に限定されず、例えば、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムが挙げられる。
銅イオンと安定な錯体を形成し得る含窒素化合物としては、例えば、アンモニア、エチレンジアミン、トリエチレンテトラミンが挙げられる。中でも、繊維状銅微粒子の形成しやすさの観点から、エチレンジアミンが好ましい。
還元剤としては、例えば、アスコルビン酸、エリソルビン酸、グルコース、フルクトースが挙げられる。中でも、繊維状銅微粒子の形成しやすさの観点から、アスコルビン酸が好ましい。
酸処理は、シュウ酸、ギ酸、乳酸、酢酸、塩酸等の希薄溶液に、繊維状銅微粒子を浸漬することにより施すことができる。希薄溶液の濃度は、0.01〜10%とすることが好ましく、0.01〜1%とすることがより好ましい。なお、強い酸を用いた場合や高濃度で処理した場合は、繊維状銅微粒子が溶解する場合がある。
還元処理は、繊維状銅微粒子と、還元剤やポリオールを混合し、必要に応じて加熱することにより施すことができる。還元剤としては、例えば、鉄塩、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、ヒドラジン、アスコルビン酸、シュウ酸、ギ酸、ジエチルヒドロキシアミンが挙げられる。ポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリンが挙げられる。処理温度は、25〜350℃とすることが好ましく、70〜200℃とすることがより好ましい。用いる還元剤やポリオールの濃度は、0.01質量%以上とすることが好ましく、1質量%以上がより好ましい。
酸処理または還元処理後、繊維状銅微粒子は、ろ過等により分離することができる。
本発明の繊維状銅微粒子は、イオンマイグレーション耐性に優れ、かつ、導電性にも優れている。そのため、プリント基板配線、タッチパネル電極、電磁波シールド材等に好適に用いることができる。
次に、本発明を実施例によって説明するが、本発明はこれらの発明によって限定されるものではない。
A.評価方法
実施例および比較例で用いた評価方法は以下の通りである。
(1)繊維状銅微粒子の表面状態
ESCAを用いて、X線源をモノクロAl−Kαとし、X線出力200W、光電子放出角度75°、パスエネルギー58.70eVとして、表面状態を確認した。
繊維状銅微粒子の場合、銅単独のピークは932.7eV付近に、酸化銅のピークは933.8eV付近に、水酸化銅のピークは935.1eV付近に検出することができる。
(2)導電性
繊維状銅微粒子150mgと、アクリル系ポリマー(レオコートSP−5F032 固形分30%)100mgとを混合し(繊維状銅微粒子:アクリル系ポリマー=5/1(固形分質量比))、繊維状銅微粒子と樹脂の混合溶液を作製した。
得られた混合溶液を用いて、ベーカー式アプリケーターで、ガラス上に塗布し、25℃で乾燥し、厚み100μmの繊維状銅微粒子と樹脂の混合被膜を作製した。その後、ガラスから剥離し、混合フィルムを得た。
得られた混合フィルムを、10cm角に裁断し、三菱化学アナリテック社製抵抗率計MCP−T610を用いて、抵抗値を測定した。
(3)イオンマイグレーション耐性
得られた混合フィルムを、パンチで円状(直径6mm)に打ち抜き、片面に金配線を取り付け、繊維状銅微粒子電極を作製した。
クォーツクリスタルマイクロバランス装置にはセイコー社製EG&G製QCA922、ポテンショスタッドにはECstat−301を用いて、金蒸着した水晶子を作用電極、繊維状銅微粒子電極を対極、Ag/AgClを参照電極として、水晶子と繊維状銅微粒子電極の間を1mmに設定し、0.1M過塩素酸テトラエチルアンモニウム水溶液中で、25℃の環境にて、−1Vの電圧を印加し、水晶子への金属の移動をモニターした。印加1500秒の、対極から作用電極への金属移動量から、下記の式によりイオンマイグレーション析出量を算出した。
イオンマイグレーション析出量=金属移動量/混合フィルム(直径6mm径×100μm厚)中の繊維状銅微粒子の質量
製造例
窒素雰囲気下で、3000mLのフラスコ内にて、720gの水酸化ナトリウム(ナカライテスク社製)を、純水2400gに溶解した。次いで、硝酸銅三水和物(ナカライテスク社製)2.1gを90gの純水で溶解させた水溶液を添加した。さらに39gのエチレンジアミン(ナカライテスク社製)を添加し、200rpmで撹拌をおこない、均一な青色の水溶液を調製した。
この水溶液に、アスコルビン酸(ナカライテスク社製)水溶液(10質量%)160gを加え、200rpmで撹拌を継続したまま、フラスコを70℃の湯浴に60分間浸漬した。その後、撹拌を停止し、湯浴に浸漬し続けることによって、繊維状銅微粒子が析出したことを目視で確認した。析出した繊維状銅微粒子を、ポリテトラフルオロエチレンメンブレンフィルター(孔径:1μm、アドバンテック社製)を用いた加圧濾過によって固液分離、回収した。
実施例1
製造例で得られた繊維状銅微粒子0.5gを、エチレングリコール30gと混合し、150℃で3時間加熱し、表面処理を行い、濾過により繊維状銅微粒子を回収した。
実施例2
製造例で得られた繊維状銅微粒子0.5gを、1%シュウ酸水溶液に5分間浸漬し、濾過により繊維状銅微粒子を回収した。
比較例1
Aldrich社製繊維状銀微粒子分散液(繊維状銀微粒子の直径60nm×長さ10μm、イソプロピルアルコール溶媒、濃度0.5質量%)から、濾過により、繊維状銀微粒子を回収した。
比較例2
製造例で得られた繊維状銅微粒子。
実施例および比較例で得られた繊維状銅微粒子と繊維状銀微粒子の評価結果を表1に示す。
実施例1、実施例2の繊維状銅微粒子は、導電性、イオンマイグレーション耐性、いずれにも優れていた。
比較例1の繊維状銀微粒子は、主成分が銀であったため、イオンマイグレーション耐性に劣っていた。
比較例2の繊維状銅微粒子は、表面処理を施さなかったため、導電性に劣っていた。

Claims (4)

  1. 希薄電解液浸漬法において、25℃環境下、電極間距離1mm間に、±1Vの電界を1500秒間印加した場合のイオンマイグレーション析出量が1ppm以下の繊維状銅微粒子であって、前記繊維状銅微粒子を含む導電体の抵抗値が1000Ω以下であることを特徴とする繊維状銅微粒子。
  2. 請求項1の繊維状銅微粒子を含むことを特徴とするプリント基板。
  3. 請求項1の繊維状銅微粒子を含むことを特徴とするタッチパネル電極。
  4. 請求項1の繊維状銅微粒子を含むことを特徴とする電磁波シールド材。
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