JP2017216472A - 半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物および該粘着剤組成物を用いた粘着シート - Google Patents

半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物および該粘着剤組成物を用いた粘着シート Download PDF

Info

Publication number
JP2017216472A
JP2017216472A JP2017143520A JP2017143520A JP2017216472A JP 2017216472 A JP2017216472 A JP 2017216472A JP 2017143520 A JP2017143520 A JP 2017143520A JP 2017143520 A JP2017143520 A JP 2017143520A JP 2017216472 A JP2017216472 A JP 2017216472A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
meth
sensitive adhesive
pressure
adhesive sheet
acrylic polymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2017143520A
Other languages
English (en)
Inventor
村田 修平
Shuhei Murata
修平 村田
高橋 智一
Tomokazu Takahashi
智一 高橋
雄一朗 柳
Yuichiro Yanagi
雄一朗 柳
亮 伊関
Ryo Iseki
亮 伊関
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP2017143520A priority Critical patent/JP2017216472A/ja
Publication of JP2017216472A publication Critical patent/JP2017216472A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Dicing (AREA)

Abstract

【課題】半導体ウエハへの金属汚染の発生を防止可能な半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物は、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーを含む。該(メタ)アクリル系ポリマーは、ジルコニウム、チタン、および、アルミニウムから選択される少なくとも1種の金属の錯体を触媒とし、重合反応を行うことにより得られるポリマーである。この金属の錯体は、ジルコニウム、チタン、および、アルミニウムから選択される少なくとも1種の金属と、アセチルアセトンまたは2つの電子求引基がいずれもカルボニル基である活性メチレン化合物とがキレート化した金属錯体である。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物および該粘着剤組成物を用いた粘着シートに関する。
シリコン、ガリウム、砒素などからなる半導体ウエハは、大径の状態で製造され、表面にパターンを形成した後、裏面を研削して(バックグラインド工程)、通常、ウエハの厚さを100μm〜600μm程度まで薄くされる。次いで、研削された半導体ウエハは、粘着フィルム上に保持され、半導体チップに切断分離(ダイシング工程)される。さらに、半導体チップはリードフレーム等の被着体に固着され(マウント工程)、その後ボンディング工程へと移される。
半導体基板材(例えば、シリコン、ガリウム、砒素等)は、半導体の動作不良の原因となり得る金属を捕捉し、半導体回路面への金属汚染を防止する機能をも有する。近年、半導体の集積度向上のためのスタックパッケージ化や、軽薄短小化のため、半導体ウエハの厚みを50μm以下まで研削される場合が増えている。しかしながら、半導体ウエハの厚みを50μm以下まで研削した場合、半導体基板材の体積が減少する。そのため、半導体基板の金属捕捉機能が十分に発揮されず、金属汚染が発生し、それによる半導体の動作不良等の問題が発生している(例えば、特許文献1)。
特開2002−313795号公報
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、半導体ウエハへの金属汚染の発生を防止可能な半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物を提供することにある。
本発明者らは検討を重ねた結果、特定の金属の錯体を触媒として用いた重合反応により得られる(メタ)アクリル系ポリマーを粘着剤組成物に用いることにより、上記課題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明の半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物は、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーを含む。該(メタ)アクリル系ポリマーは、ジルコニウム、チタン、および、アルミニウムから選択される少なくとも1種の金属の錯体を触媒とし、重合反応を行うことにより得られるポリマーである。この金属の錯体はジルコニウム、チタン、および、アルミニウムから選択される少なくとも1種の金属と、アセチルアセトンまたは2つの電子求引基がいずれもカルボニル基である活性メチレン化合物とがキレート化した金属錯体である。
本発明によれば、粘着剤組成物がジルコニウム、チタン、および、アルミニウムから選択される少なくとも1種の金属の錯体を触媒として用いて得られるウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーを含むことにより、調製後も粘着剤組成物に含まれる金属錯体による半導体ウエハへの拡散を防止することができ、金属錯体による半導体ウエハの金属汚染を防止し得る。また、これらの金属錯体は、ウレタン化反応を円滑に進行させることができる。そのため、これらの金属錯体はウレタン化反応の触媒として好適に機能し得る。さらに、これらの金属錯体は、半導体ウエハへの拡散速度が遅く、また、金属汚染が発生した場合でも半導体回路の機能への影響が小さい。また、ジルコニウム、チタン、および、アルミニウムは安全性が高く、人体および環境への影響面にも優れる。
本発明の好ましい実施形態による半導体ウエハ加工用粘着シートの概略断面図である。
<A.半導体加工用粘着シート用粘着剤組成物>
本発明の半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物は、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーを含む。該(メタ)アクリル系ポリマーは、ジルコニウム、チタン、および、アルミニウムから選択される少なくとも1種の金属の錯体を触媒とし、重合反応を行うことにより得られるポリマーである。ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合工程において、ジルコニウム、チタン、および、アルミニウムから選択される少なくとも1種の金属錯体を用いることにより、調製後も粘着剤組成物に含まれる金属錯体の半導体ウエハへの拡散を防止することができ、金属錯体による半導体ウエハの金属汚染を防止し得る。また、これらの金属錯体は、ウレタン化反応を円滑に進行させることができる。そのため、ウレタン化反応の触媒として好適に機能し得る。さらに、これらの金属錯体は、半導体ウエハへの拡散速度が遅く、また、金属汚染が発生した場合でも半導体回路の機能への影響が小さい。また、これらの金属自体が安全性が高い金属であるため、人体および環境への影響面からも好適に用いることができる。
<A−1.ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマー>
上記のとおり、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーは、ジルコニウム、チタン、および、アルミニウムから選択される少なくとも1種の金属の錯体を触媒とし、重合反応を行うことにより得られる。
<A−1−1.触媒>
上記のとおり、触媒は、ジルコニウム、チタン、および、アルミニウムから選択される金属の錯体である。これらの金属の錯体は、単独で用いてもよく、2種以上を組合せて用いてもよい。
上記金属錯体としては、任意の適切な錯体を用いることができる。例えば、ジルコニウム錯体としては、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、テトラノルマルブトキシジルコニウム等;チタン錯体としては、チタンテトラアセチルアセトネート、チタンテトラ−2−エチルヘキソキシド、ジブトキシチタンビスアセチルアセトナート等;アルミニウム錯体としては、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。
上記金属錯体としては、市販品を用いてもよい。市販のジルコニウム錯体としては、例えば、マツモトファインケミカル社製の商品名「オルガチックスZC−150」等の「オルガチックスZC」シリーズ、商品名「オルガチックスZA−65」等の「オルガチックスZA」シリーズ、King Industries社製の商品名「K−Kat A209」等が挙げられる。市販のチタン錯体としては、例えば、マツモトファインケミカル社製の商品名「オルガチックスTC−401」等の「オルガチックスTC」シリーズ、商品名「オルガチックスTA−30」等の「オルガチックスTA」シリーズ、日本化学産業社製の商品名「ナーセムチタン」等が挙げられる。市販のアルミニウム錯体としては、例えば、川研ファインケミカル社製の商品名「アルミキレートD」等の「アルキレート」シリーズ等が挙げられる。
上記金属錯体は、好ましくは上記金属とアセチルアセトンまたは2つの電子求引基がいずれもカルボニル基である活性メチレン化合物とがキレート化したものである。アセチルアセトンおよび2つの電子求引基がいずれもカルボニル基である活性メチレン化合物との金属錯体は、いずれも配位子としてジケトンを有する。そのため、金属およびケトンによる活性水素への電気的な引き合いが強く、さらに良好な触媒能を発揮し、効果的にウレタン化反応を進行させ得る。さらに、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合工程におけるゲル化をも防止し得る。
上記金属とアセチルアセトンまたは2つの電子求引基がいずれもカルボニル基である活性メチレン化合物とがキレート化した金属錯体としては、市販品を用いてもよい。上記キレート化したジルコニウム錯体としては、例えば、マツモトファインケミカル社製の商品名「オルガチックスZC−150」等の「オルガチックスZC」シリーズ等が挙げられる。上記キレート化したチタン錯体としては、例えば、マツモトファインケミカル社製の商品名「オルガチックスTC−401」等の「オルガチックスTC」シリーズ等が挙げられる。上記キレート化したアルミニウム錯体としては、例えば、川研ファインケミカル社製の商品名「アルミキレートD」等の「アルキレート」シリーズ等が挙げられる。
上記触媒の使用量は、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合に用いるポリマー成分および/またはモノマー成分の合計量100重量部に対し、好ましくは0.0001重量部〜1重量部であり、より好ましくは0.001重量部〜0.5重量部であり、さらに好ましくは0.003重量部〜0.3重量部である。触媒の使用量が0.0001重量部未満の場合、ウレタン化反応の反応性が低く、重合反応に長い時間が必要となる場合がある。触媒の使用量が1重量部を超える場合、触媒そのものが低分子量成分として作用し、粘着剤組成物の粘着特性を低下させる場合がある。
<A−1−2.ポリマー成分・モノマー成分>
上記ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーは、任意の適切な水酸基を有するポリマー成分および/またはモノマー成分と、任意の適切なイソシアネート基を有するポリマー成分および/またはモノマー成分とを重合することにより得られ得る。例えば、(I)2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマーとイソシアネート基を有するモノマー成分との反応、(II)側鎖にイソシアネート基を有する(メタ)アクリル系ポリマーと水酸基を有するモノマー成分との反応により、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーが得られ得る。イソシアネート基の保存安定性の点から、上記(I)のポリマー成分およびモノマー成分を用いて反応を行うことが好ましい。なお、「(メタ)アクリル」は、アクリルおよび/またはメタクリルをいう。
<A−1−2−1.2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマー>
上記2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマーは、任意の適切な(メタ)アクリル系モノマーを重合することにより得られる。上記2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマーは、好ましくは水酸基を有する(メタ)アクリル系モノマーと、水酸基を有さない(メタ)アクリル系モノマーとを共重合することにより得られるポリマーである。2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマーは、1種のみを用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。
上記水酸基を有する(メタ)アクリル系モノマーとしては、任意の適切な(メタ)アクリル系モノマーを用いることができる。例えば、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチルエステル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチルエステル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシへキシルエステル等の(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル等が挙げられる。
上記水酸基を有さない(メタ)アクリル系モノマーとしては、任意の適切な(メタ)アクリル系モノマーを用いることができる。例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルへキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸イソノニル等の炭素数1〜20のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル、エポキシ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、2−メトキシエチルアクリレート等が挙げられる。
2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合に用いる、水酸基を有する(メタ)アクリル系モノマーと、水酸基を有さない(メタ)アクリル系モノマーとの配合比は、任意の適切な比率に設定され得る。例えば、水酸基を有する(メタ)アクリル系モノマーと水酸基を有さない(メタ)アクリル系モノマーとの配合比は、重量比で、20/80〜9/95に設定され得る。
上記2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマーは、上記水酸基を有する(メタ)アクリル系モノマーおよび上記水酸基を有さない(メタ)アクリル系モノマーと重合可能な任意の適切な他のモノマー成分が共重合されていてもよい。水酸基を有する(メタ)アクリル系モノマーおよび水酸基を有さない(メタ)アクリル系モノマーと重合可能なモノマー成分としては、例えば、エポキシ基、カルボキシル基、酸無水物基等の官能基を有するモノマーが挙げられる。具体的には、アクリロニトリル、アクリロイルモルフォリン、酢酸ビニル等が挙げられる。
上記水酸基を有する(メタ)アクリル系モノマーおよび上記水酸基を有さない(メタ)アクリル系モノマーと重合可能なモノマーの使用量は、好ましくは2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合に用いるモノマー成分の合計量の20重量%以下である。
上記2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマーは、任意の適切な重合方法により得ることができる。例えば、反応容器中で、任意の適切な重合開始剤を用いて、任意の適切な溶媒中で、上記水酸基を有する(メタ)アクリル系モノマーと水酸基を有さない(メタ)アクリル系モノマーと、必要に応じてこれらと共重合可能な他のモノマーとを重合することにより、2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマーが得られる。
上記溶媒としては、例えば、酢酸エチル、トルエン、酢酸n−ブチル、n−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
上記重合開始剤としては、任意の適切な熱重合開始剤を用いることができる。例えば、有機過酸化物、および、アゾ系化合物が挙げられる。重合開始剤の使用量は、任意の適切な値に設定し得る。例えば、2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合に用いるモノマー成分の合計量100重量部に対して0.01重量部〜1.0重量部である。
<A−1−2−2.イソシアネート基を有する化合物>
イソシアネート基を有する化合物としては、イソシアネート基を有する任意の適切な化合物を用いることができる。例えば、(メタ)アクリロイルイソシアネート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、m−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート等が挙げられる。イソシアネート基を有する化合物は1種のみを用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。
イソシアネート基を有する化合物として、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを用いた場合、得られる(メタ)アクリル系ポリマーが重合性不飽和結合基をさらに有する。そのため、得られる粘着剤組成物が放射線硬化型粘着剤として機能し得る。
イソシアネート基を有する化合物としては、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、昭和電工社製の商品名「カレンズMOI」、「カレンズAOI」、「カレンズBEI」、「カレンズMOI−EG」等が挙げられる。
イソシアネート基を有する化合物の使用量は、上記2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマー100重量部に対し、好ましくは5重量部〜30重量部であり、より好ましくは7重量部〜20重量部である。
<A−1−3.ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの調製方法>
ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーは、上記触媒を用いて、任意の適切な方法でモノマー成分および/またはポリマー成分を重合することにより調製され得る。好ましくは、上記ジルコニウム、チタン、および、アルミニウムから選択される少なくとも1種の金属の錯体を触媒として用いて、上記2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマーとイソシアネート基を有する化合物とを共重合することにより得られる。上記ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーは、上記2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマー、および、イソシアネート基を有する化合物と重合可能な任意の適切な他のモノマー成分が共重合されていてもよい。
ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーを調製する際の反応温度は、任意の適切な値に設定され得る。上記反応温度は、例えば、40℃〜65℃に設定され得る。反応温度は任意の適切な加熱手段において、調節され得る。加熱手段としては、例えば、ウォーターバス等が挙げられる。加熱により反応温度が上昇し過ぎた場合、反応に用いた溶媒を滴下することにより、温度を調製し得る。
ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合反応は、FT−IRを用いて、イソシアネート基の残存有無(具体的には、2270cm−1の吸収の有無)を確認し、イソシアネート基が確認されなくなった時点で終了すればよい。
ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合反応は、上記2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合反応と連続して反応を行ってもよい。例えば、上記2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマーを含む反応溶液に、触媒としての上記ジルコニウム、チタン、および、アルミニウムから選択される少なくとも1種の金属の錯体、および、イソシアネート基を有する化合物を添加し、反応させることにより調製してもよい。
<A−2.その他の成分>
上記粘着剤組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、さらにその他の成分を含んでいてもよい。当該その他の成分としては、例えば、架橋剤、光重合開始剤、触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、耐熱安定剤、帯電防止剤等が挙げられる。その他の成分の種類および使用量は、目的に応じて適切に選択され得る。
<A−2−1.架橋剤>
架橋剤としては、任意の適切な架橋剤を用いることができる。架橋剤を用いることにより、活性エネルギー線照射前の粘着剤の粘着力や活性エネルギー線照射後の粘着剤の粘着力の調整を行うことができる。架橋剤としては、例えば、ポリイソシアネート化合物、メラミン樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。架橋剤は1種のみを用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。
上記架橋剤として市販品を用いてもよい。具体的には、旭化成ケミカルズ社製の商品名「デュラネートTPA−100」、日本ポリウレタン工業社製の商品名「コロネートL」、同「コロネートHL」、同「コロネートHK」、同「コロネートHX」、同「コロネート2096」等が挙げられる。
上記架橋剤の使用量は、任意の適切な値に設定され得る。上記ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマー100重量部に対して、例えば、0.1重量部〜20重量部、好ましくは1重量部〜10重量部である。
<A−2−2.光重合開始剤>
光重合開始剤としては、任意の適切な光重合開始剤を用いることができる。本発明の粘着剤組成物に光重合開始剤をさらに添加することにより、本発明の粘着剤組成物を用いた半導体ウエハ加工用粘着シートに紫外線を照射することにより、粘着剤層をより速やかに硬化させることが可能となり、軽剥離性がさらに向上した粘着剤シートを提供することができる。
光重合開始剤としては、任意の適切な開始剤を用いることができる。例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイソプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のべンゾインアルキルエーテル類;ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン類の芳香族ケトン類;ベンジルジメチルケタール等の芳香族ケタール類;ポリビニルベンゾフェノン、クロロチオキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン等のチオキサントン類等が挙げられる。光重合開始剤は1種のみを用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。
上記光重合開始剤として、市販品を用いてもよい。例えば、BASF製の商品名「イルガキュア651」、「イルガキュア184」、「イルガキュア369」、「イルガキュア819」、「イルガキュア2959」等が挙げられる。
光重合開始剤の使用量は、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマー100重量部に対して、例えば、0.01重量部〜20重量部であり、好ましくは0.1重量部〜10重量部であり、より好ましくは0.5重量部〜10重量部である。
<A−2−3.架橋用触媒>
上記架橋剤を用いる場合、架橋用触媒を併用することが好ましい。架橋用触媒としては、任意の適切な化合物が用いられる。上記架橋用触媒は、好ましくはアミン系触媒である。アミン系触媒としては、例えば、トリエチレンジアミン、テトラメチルブタンジアミン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデンセン−7、ビス(2,2’−ジメチルアミノ)エチルエーテル、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、N−エチルモルホリン、N,N−ジメチルベンジルアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,N,N’,N’−テトラメチル−1,3−ブタンジアミン、トリエタノールアミン、ヘキサメチレンテトラミン、ピリジンオキシド等が挙げられる。架橋用触媒は、1種のみを用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。
架橋用触媒は、好ましくは第3級ジアミンであり、より好ましくは2個の窒素原子に結合する基が全てアルキル基である第3級ジアミンである。2個の窒素原子に結合する基が全てアルキル基である第3級ジアミンは、アミンの非共有電子対の周りの立体障害が小さく、求核性が高く、反応性を高めやすいことからより好適に用いられ得る。2個の窒素原子に結合する基が全てアルキル基である第3級ジアミンとしては、具体的には、トリエチレンジアミン等が挙げられる。
架橋用触媒の使用量は、任意の適切な値に設定され得る。例えば、上記ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマー100重量部に対して、0.001重量部〜1重量部である。
<B.半導体ウエハ加工用粘着シート>
本発明の半導体ウエハ加工用粘着シートは、上記半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物を用いた粘着剤層を有する。上記の通り、本発明の半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物は、調製後も粘着剤組成物に含まれる金属錯体の半導体ウエハへの拡散を防止することができ、金属錯体による半導体ウエハの金属汚染を防止し得る。さらに、これらの金属錯体は、半導体ウエハへの拡散速度が遅く、また、金属汚染が発生した場合でも半導体回路の機能への影響が小さい。そのため、半導体ウエハ加工用途に好適に用いることができる。さらに、上記粘着剤組成物が光重合開始剤をさらに含む場合、半導体ウエハ加工用粘着シートに放射線を照射することにより、粘着剤層が硬化し、軽剥離性が発揮され得る。そのため、加工後の半導体ウエハからの半導体ウエハ加工用粘着シートの剥離が容易となる。
図1は、本発明の好ましい実施形態による半導体ウエハ加工用粘着シートの概略断面図である。本発明の半導体ウエハ加工用粘着シート100は、基材層10と粘着剤層20とを備える。本発明の半導体ウエハ加工用粘着シートは、さらに任意の適切な他の層を備え得る。他の層としては、例えば、半導体ウエハ加工用粘着シートに耐熱性を付与し得る表面層(耐熱層)、帯電防止層、背面軽剥離化処理層、摩擦低減層、易接着処理層等が挙げられる。基材層10と粘着剤層20との間には、例えば、中間層またはプライマー層等が備えられていてもよい。
半導体ウエハ加工用粘着シート100の厚みは、任意の適切な値に設定され得る。上記半導体ウエハ加工用粘着シートの厚みは、好ましくは50μm〜700μmであり、より好ましくは80μm〜225μmである。
本発明の半導体加工用粘着シートは、セパレータにより保護されて提供され得る。本発明の半導体ウエハ加工用粘着シートは、セパレータにより保護された状態で、ロール状に巻き取ることができる。セパレータは、実用に供するまで半導体ウエハ加工用粘着シートを保護する保護材としての機能を有する。セパレータとしては、例えば、シリコン系剥離剤、フッ素系剥離剤、長鎖アルキルアクリレート系剥離剤等の剥離剤により表面コートされたプラスチック(例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン、ポリプロピレン)フィルム、不織布または紙などが挙げられる。
本発明の半導体ウエハ加工用粘着シートは、例えば、バックグラインド工程用粘着シート、ダイシング工程用粘着シート等として用いることができる。
<B−1.粘着剤層>
上記粘着剤層は、上記半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物により形成される。
上記粘着剤層20の厚みは、好ましくは3μm〜100μmであり、より好ましくは5μm〜65μmである。
<B−2.基材層>
上記基材層は、任意の適切な樹脂により形成される。上記樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、直鎖状ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、ランダム共重合ポリプロピレン、ブロック共重合ポリプロピレン、ホモポリプロピレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル(ランダム、交互)共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共重合体、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリイミド、ポリエーテルケトン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、フッ素樹脂、シリコン樹脂、セルロース系樹脂、および、これらの架橋体が挙げられる。
上記基材層は、本発明の効果を損なわない範囲で、さらにその他の成分を含んでいてもよい。当該その他の成分としては、例えば、上記A項で説明した粘着剤組成物に含まれ得るその他の成分と同様の成分が用いられ得る。
上記基材層10の厚みは、好ましくは30μm〜185μmであり、より好ましくは55μm〜175μmである。
<B−3.半導体ウエハ加工用粘着シートの製造方法>
本発明の半導体ウエハ加工用粘着シートは、任意の適切な方法で製造され得る。例えば、上記基材上に上記粘着剤組成物を塗布、乾燥することにより、半導体ウエハ加工用粘着シートを製造し得る。
基材層は、任意の適切な方法で形成することができる。具体的には、例えば、カレンダー法、キャスティング法、インフレーション法、Tダイ押出し法が好適に用いられる。また、市販のプラスチックフィルムを基材層として用いてもよい。
基材層の上に粘着剤層を形成する方法としては、任意の適切な方法を採用することができる。例えば、基材層に上記粘着剤組成物を直接塗布する方法や、離型剤が塗布されたシート上に上記粘着剤組成物を塗布・乾燥して粘着剤層を形成した後、基材層の上に転写する方法等が挙げられる。粘着剤組成物の塗布方法としては、任意の適切な方法が用いられる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。また、部は重量部を意味する。
[実施例1]
1Lの丸底セパラブルフラスコ、セパラブルカバー、分液ロート、温度計、窒素導入管、リービッヒ冷却器、バキュームシール、撹拌棒および撹拌翼を備えた重合用実験装置に、アクリル酸2−エチルへキシル(東亜合成社製)80重量部、アクリル酸2−ヒドロキシエチル(東亜合成社製)20重量部、溶剤(トルエン)100重量部、および、熱重合開始剤として過酸化ベンゾイル(日本油脂株式会社製、商品名「ナイパーBW」)0.2重量部を投入した。投入した混合物を撹拌しながら、常温で窒素置換を1時間行った。次いで、窒素流入下、撹拌しながら、ウォーターバスで実験装置内の溶液温度を62℃±2℃となるように制御しながら、12時間保持した。なお、重合工程中の温度制御のため、適宜トルエンを添加した。その後、常温まで冷却し、水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマー溶液を得た。
得られた(メタ)アクリル系ポリマー溶液に、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(昭和電工社製、商品名「カレンズMOI」)20重量部、触媒として、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート(マツモトファインケミカル社製、商品名「オルガチックスZC−150」)0.05重量部を投入し、乾燥空気流入下、反応温度が50℃±2℃となるよう制御した。2時間ごとに反応容器から1ccのサンプルを抜き取り、FT−IRで2270cm−1の吸収の有無を確認し、イソシアネート基の残存有無を確認した。吸収がなくなった後、室温まで冷却し、冷却した溶液を70メッシュのフィルターにてろ過し、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマー溶液を得た。ろ過後のフィルターには、ゲル状物質は確認されなかった。なお、反応時間は、10時間であった。
得られたウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマー溶液100重量部(固形分)に対して、ポリイソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン社製、商品名「コロネートL」)1重量部、触媒として、トリエチレンジアミン(東ソー社製、商品名「TEDA」)0.05重量部、光重合開始剤(BASF社製、商品名「イルガキュア651」)3重量部を添加し、粘着剤組成物を得た。
[実施例2]
ジルコニウムテトラアセチルアセトネートの使用量を0.1重量部にした以外は実施例1と同様にして、粘着剤組成物を得た。
実施例2において、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合時間は8時間であった。また、ろ過後のフィルターには、ゲル状物質は確認されなかった。
[実施例3]
ジルコニウムテトラアセチルアセトネートの使用量を0.2重量部にした以外は実施例1と同様にして、粘着剤組成物を得た。
実施例3において、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合時間は6時間であった。また、ろ過後のフィルターには、ゲル状物質は確認されなかった。
[実施例4]
ジルコニウムテトラアセチルアセトネートの使用量を0.3重量部にした以外は実施例1と同様にして、粘着剤組成物を得た。
実施例4において、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合時間は6時間であった。また、ろ過後のフィルターには、ゲル状物質は確認されなかった。
[実施例5]
ジルコニウムテトラアセチルアセトネートに代えて、チタンテトラアセチルアセトネート(マツモトファインケミカル社製、商品名「オルガチックスTC−401」)0.1重量部を用いた以外は実施例1と同様にして、粘着剤組成物を得た。
実施例5において、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合時間は12時間であった。また、ろ過後のフィルターには、ゲル状物質は確認されなかった。
[実施例6]
ジルコニウムテトラアセチルアセトネートに代えて、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)(川研ケミカル社製、商品名「アルミキレートD」)0.1重量部を用いた以外は実施例1と同様にして、粘着剤組成物を得た。
実施例6において、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合時間は24時間であった。また、ろ過後のフィルターには、ゲル状物質は確認されなかった。
[実施例7]
ジルコニウムテトラアセチルアセトネートに代えて、チタンテトラ−2−エチルヘキソキシド(マツモトファインケミカル社製、商品名「オルガチックスTA−30」)0.1重量部を用いた以外は実施例1と同様にして、粘着剤組成物を得た。
実施例7において、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合時間は16時間であった。また、ろ過後のフィルターには、ゲル状物質が確認された。フィルター上のゲル状物質の重量は、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマー溶液の固形分の3重量%であった。
[実施例8]
ジルコニウムテトラアセチルアセトネートに代えて、テトラノルマルブトキシジルコニウム(マツモトファインケミカル社製、商品名「オルガチックスZA−65」)0.1重量部を用いた以外は実施例1と同様にして、粘着剤組成物を得た。
実施例8において、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合時間は12時間であった。また、ろ過後のフィルターには、ゲル状物質が確認された。フィルター上のゲル状物質の重量は、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマー溶液の固形分の5重量%であった。
[実施例9]
ジルコニウムテトラアセチルアセトネートに代えて、ジブトキシチタンビスアセチルアセトナート(日本化学産業社製、商品名「ナーセムチタン」)0.1重量部を用いた以外は実施例1と同様にして、粘着剤組成物を得た。
実施例9において、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合時間は12時間であった。また、ろ過後のフィルターには、ゲル状物質が確認された。フィルター上のゲル状物質の重量は、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマー溶液の固形分の3重量%であった。
(比較例1)
ジルコニウムテトラアセチルアセトネートに代えて、鉄トリスアセチルアセトナート(日本化学産業社製、商品名「ナーセム第二鉄」)0.01重量部を用いた以外は実施例1と同様にして、粘着剤組成物を得た。
比較例1において、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合時間は6時間であった。また、ろ過後のフィルターには、ゲル状物質は確認されなかった。
(比較例2)
ジルコニウムテトラアセチルアセトネートに代えて、銅ビスアセチルアセトナート(日本化学産業社製、商品名「ナーセム銅」)0.1重量部を用いた以外は実施例1と同様にして、粘着剤組成物を得た。
比較例2において、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーの重合時間は48時間であった。また、ろ過後のフィルターには、ゲル状物質は確認されなかった。
[評価]
(粘着シートの作製)
実施例および比較例で得られた粘着剤組成物を離型処理を施したポリエステルフィルム(三菱樹脂社製、商品名「ダイアホイルMRF38」)に塗布した後、120℃で2分間乾燥し、厚み20μmの粘着剤層を形成した。該粘着剤層にポリエステルフィルム(東レ社製、商品名「ルミラーS10#50」)を気泡を発生させないよう、貼り付け、50℃のオーブン中で2日間エージングを実施し、粘着シートを得た。得られた粘着シートを用いて、金属汚染の有無の評価を行った。
(金属汚染の有無)
シリコーンミラーウエハを厚み100μmまで研削・鏡面化処理し、50mm四方にサンプリングした。サンプリングしたウエハをフッ化水素酸、純水リンス、アンモニア過酸化水素、純水リンス、塩酸過酸化水素、純水リンスの順に洗浄し、乾燥させた。乾燥後、該ウエハに粘着シートを貼付け、温度23℃、湿度50%で1ヶ月放置した。
放置後、粘着シートとウエハの積層体にUV照射装置(日東精機社製、商品名「UM−810」)を用いて、UVを照射(照射条件:照度50mW/cm、光量300mJ/cm)した後、粘着シートを剥離した。ウエハの粘着シートが貼られていない面を全反射蛍光X線分析装置(テクノス社製、商品名「TREX610T」)を用いて重金属元素の有無を確認した。触媒に含まれる金属が1×1010atms/cm以上検出された場合は金属汚染有り、触媒に含まれる金属が1×1010atms/cm未満であった場合は金属汚染無しとした。結果を表1に示す。
Figure 2017216472
実施例1〜9から明らかなように、本発明の粘着剤組成物によれば、粘着剤組成物に含まれる金属錯体による粘着シートを貼付けしていない面への金属汚染が防止された。したがって、本発明の粘着剤組成物を半導体加工用の粘着シートに用いた場合、半導体の金属汚染による動作不良等の不具合を防止することができ得る。一方、比較例1および2の粘着剤では、粘着剤組成物に含まれる金属錯体による、半導体の金属汚染が確認された。
本発明の粘着剤組成物は、例えば、半導体ウエハ加工用途に用いられる粘着シートに好適に用いることができる。本発明の粘着剤組成物を用いた半導体ウエハ加工用粘着シートでは、粘着剤組成物に含まれる金属錯体による半導体の金属汚染を防止することができる。
10 粘着剤層
20 基材層
100 半導体ウエハ加工用粘着シート

Claims (1)

  1. ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーを含む、半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物であって、
    該(メタ)アクリル系ポリマーが、ジルコニウム、チタン、および、アルミニウムから選択される少なくとも1種の金属の錯体を触媒とし、重合反応を行うことにより得られるポリマーである、粘着剤組成物であって、
    該金属の錯体が、ジルコニウム、チタン、および、アルミニウムから選択される少なくとも1種の金属と、アセチルアセトンまたは2つの電子求引基がいずれもカルボニル基である活性メチレン化合物とがキレート化した金属錯体である、粘着剤組成物。
JP2017143520A 2017-07-25 2017-07-25 半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物および該粘着剤組成物を用いた粘着シート Pending JP2017216472A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017143520A JP2017216472A (ja) 2017-07-25 2017-07-25 半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物および該粘着剤組成物を用いた粘着シート

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017143520A JP2017216472A (ja) 2017-07-25 2017-07-25 半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物および該粘着剤組成物を用いた粘着シート

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012209469A Division JP6460615B2 (ja) 2012-09-24 2012-09-24 半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物および該粘着剤組成物を用いた粘着シート

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017216472A true JP2017216472A (ja) 2017-12-07

Family

ID=60577379

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017143520A Pending JP2017216472A (ja) 2017-07-25 2017-07-25 半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物および該粘着剤組成物を用いた粘着シート

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2017216472A (ja)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060281863A1 (en) * 2003-06-18 2006-12-14 Adhesives Research, Inc. Heat releasable wafer dicing tape
WO2009063912A1 (ja) * 2007-11-13 2009-05-22 Toagosei Co., Ltd. 硬化型組成物及びウレタン(メタ)アクリレートの製造方法
JP2010100835A (ja) * 2008-09-26 2010-05-06 Asahi Glass Co Ltd 粘着体および粘着シート
JP2011132354A (ja) * 2009-12-24 2011-07-07 Hitachi Maxell Ltd 紫外線硬化型粘着フィルム
JP2012001647A (ja) * 2010-06-18 2012-01-05 Teraoka Seisakusho:Kk 光学部材用粘着剤
JP2012180494A (ja) * 2011-02-10 2012-09-20 Nitto Denko Corp 自発巻回性粘着シート及び切断体の製造方法
JP2012216842A (ja) * 2011-03-31 2012-11-08 Furukawa Electric Co Ltd:The ダイシングテープ及び半導体ウエハ加工方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060281863A1 (en) * 2003-06-18 2006-12-14 Adhesives Research, Inc. Heat releasable wafer dicing tape
WO2009063912A1 (ja) * 2007-11-13 2009-05-22 Toagosei Co., Ltd. 硬化型組成物及びウレタン(メタ)アクリレートの製造方法
JP2010100835A (ja) * 2008-09-26 2010-05-06 Asahi Glass Co Ltd 粘着体および粘着シート
JP2011132354A (ja) * 2009-12-24 2011-07-07 Hitachi Maxell Ltd 紫外線硬化型粘着フィルム
JP2012001647A (ja) * 2010-06-18 2012-01-05 Teraoka Seisakusho:Kk 光学部材用粘着剤
JP2012180494A (ja) * 2011-02-10 2012-09-20 Nitto Denko Corp 自発巻回性粘着シート及び切断体の製造方法
JP2012216842A (ja) * 2011-03-31 2012-11-08 Furukawa Electric Co Ltd:The ダイシングテープ及び半導体ウエハ加工方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3862489B2 (ja) 再剥離用粘着シート
JP5727688B2 (ja) エネルギー線硬化型重合体、エネルギー線硬化型粘着剤組成物、粘着シートおよび半導体ウエハの加工方法
KR101849785B1 (ko) 방사선 경화형 점착제 조성물 및 점착 시트
EP1752507A1 (en) Pressure-sensitive adhesive sheet and process for preparing it
JP5914024B2 (ja) 放射線硬化型粘着剤組成物の製造方法、該製造方法で得られた放射線硬化型粘着剤組成物、および、該粘着剤組成物を用いた粘着シート
JP5313837B2 (ja) 再剥離性粘着シート
JP5464635B2 (ja) 半導体ウエハ加工用粘着シートおよびその使用方法
TW200918634A (en) Pressure-sensitive adhesive sheet for dicing and dicing method
TWI779211B (zh) 補強膜、裝置之製造方法與補強方法
JP5961610B2 (ja) 粘着シート
JP6460615B2 (ja) 半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物および該粘着剤組成物を用いた粘着シート
JP3908929B2 (ja) 半導体ウエハ加工用粘着シート及びそれに用いる粘着剤組成物
KR101888198B1 (ko) 방사선 경화형 점착제 조성물 및 점착 시트
JP2002371262A (ja) ウエハ加工用粘着シート用粘着剤およびウエハ加工用粘着シート
JP2015098616A (ja) メッキ処理方法および電子部品の製造方法
JP4606010B2 (ja) 放射線硬化型再剥離用水分散型アクリル系粘着剤組成物および放射線硬化再剥離型アクリル系粘着シート
TWI791485B (zh) 隱形切割用黏著片及半導體裝置的製造方法
KR20190099120A (ko) 마스킹재
JP2017216472A (ja) 半導体ウエハ加工用粘着シート用粘着剤組成物および該粘着剤組成物を用いた粘着シート
TW201940625A (zh) 半導體加工用黏著帶
JP5328132B2 (ja) 半導体加工用テープ
JP5996985B2 (ja) 粘着シートの製造方法、および、該製造方法により得られた粘着シート
TWI789537B (zh) 補強膜及其製造方法、裝置之製造方法與補強方法
KR101174854B1 (ko) 방사선 박리형 점착제 조성물 및 반도체 웨이퍼 가공용 점착시트
JP2006036834A (ja) 半導体ウエハ加工用粘着テープ

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180412

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180418

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20180815