JP2017203165A - Connection film, production method of connection film, connection structure, production method of connection structure and connection method - Google Patents

Connection film, production method of connection film, connection structure, production method of connection structure and connection method Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure connection reliability while ensuring sufficient connection strength, even when a frame part to connect a flexible substrate in an anisotropic conductive manner is made narrow.SOLUTION: In a connection film which has an adhesive layer 15 with fillers 16 dispersed therein and which connects connection objects to each other by being pressed, the adhesive layer is provided with difference in flowability in the thickness direction, and the flowability is designed such that volume density distribution of the filler 16 satisfies a condition of c>a>b when filler density in an outer periphery 21c of a pressed region 21 is denoted by (c), filler density in a central portion 21a of the pressed region 21 is denoted by (a), and filler density in an inner periphery 21b of the pressed region 21 is denoted by (b).SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、複数の接続端子が並列された接続対象物の間に挟持され、圧着により、接続対象物同士を接続する接続フィルム、及びこの接続フィルムを用いて接続された接続構造体、及びこの製造方法に関する。   The present invention includes a connection film in which a plurality of connection terminals are sandwiched between parallel connection objects and connected to each other by crimping, and a connection structure connected using the connection film, and this It relates to a manufacturing method.

従来、ガラス基板やガラスエポキシ基板等のリジッド基板とフレキシブル基板やICチップ等の電子部品とを接続する際や、フレキシブル基板同士を接続する際に、接着剤として導電性粒子が分散されたバインダー樹脂をフィルム状に成形した異方性導電フィルムが用いられている。フレキシブル基板の接続端子とリジッド基板の接続端子とを接続する場合を例に説明すると、図12(A)に示すように、フレキシブル基板51とリジッド基板54の両接続端子52,55が形成された領域の間に異方性導電フィルム53を配置し、適宜緩衝材50を配して加熱押圧ヘッド56によってフレキシブル基板51の上から熱加圧する。すると、図12(B)に示すように、バインダー樹脂は流動性を示し、フレキシブル基板51の接続端子52とリジッド基板54の接続端子55との間から流出するとともに、異方性導電フィルム53中の導電性粒子は、両接続端子間に挟持されて押し潰される。   Conventionally, a binder resin in which conductive particles are dispersed as an adhesive when connecting a rigid substrate such as a glass substrate or a glass epoxy substrate and an electronic component such as a flexible substrate or an IC chip, or connecting flexible substrates together. An anisotropic conductive film obtained by forming a film into a film is used. The case where the connection terminal of the flexible substrate and the connection terminal of the rigid substrate are connected will be described as an example. As shown in FIG. 12A, both connection terminals 52 and 55 of the flexible substrate 51 and the rigid substrate 54 are formed. An anisotropic conductive film 53 is disposed between the regions, a buffer material 50 is disposed as appropriate, and heat pressing is performed from above the flexible substrate 51 by the heating and pressing head 56. Then, as shown in FIG. 12B, the binder resin exhibits fluidity and flows out between the connection terminal 52 of the flexible substrate 51 and the connection terminal 55 of the rigid substrate 54, and in the anisotropic conductive film 53. The conductive particles are sandwiched between the connecting terminals and crushed.

その結果、フレキシブル基板51の接続端子52とリジッド基板54の接続端子55とは、導電性粒子を介して電気的に接続され、この状態でバインダー樹脂が硬化する。両接続端子52,55の間にない導電性粒子は、バインダー樹脂に分散されており、電気的に絶縁した状態を維持している。これにより、フレキシブル基板51の接続端子52とリジッド基板54の接続端子55との間のみで電気的導通が図られることになる。   As a result, the connection terminal 52 of the flexible substrate 51 and the connection terminal 55 of the rigid substrate 54 are electrically connected via the conductive particles, and the binder resin is cured in this state. The conductive particles that are not between the connection terminals 52 and 55 are dispersed in the binder resin and maintain an electrically insulated state. As a result, electrical continuity is achieved only between the connection terminal 52 of the flexible substrate 51 and the connection terminal 55 of the rigid substrate 54.

特開2005−26577号公報JP 2005-26577 A

近年、例えばタッチパネルのセンサーフィルムとフレキシブル基板との接続においては、電子機器外筐に対する液晶画面の大型化に伴い、画面の外縁部分である所謂額縁部を狭くする狭額縁化が進んでいる。そして、異方性導電フィルムの幅が従来通りであると、接続面積が狭くなった場合に、異方性導電フィルムの仮貼り精度や接続部品のアライメント精度が悪くなるという問題が生じる。そのため、異方性電フィルムも、貼着領域の狭額縁化に応じて、細幅化が進んでいる。   In recent years, for example, in connection between a sensor film of a touch panel and a flexible substrate, with the increase in size of a liquid crystal screen with respect to an outer casing of an electronic device, the so-called frame portion that is the outer edge portion of the screen is narrowed. And when the width of the anisotropic conductive film is the same as before, when the connection area is narrowed, there arises a problem that the temporary adhesion accuracy of the anisotropic conductive film and the alignment accuracy of the connection parts are deteriorated. Therefore, the anisotropic electric film is also becoming narrower according to the narrowing of the frame of the sticking area.

ここで、異方性導電フィルムは、細幅化が進んだ状態においても、接続信頼性、導通信頼性を安定的に得ることが求められる。   Here, the anisotropic conductive film is required to stably obtain connection reliability and conduction reliability even in a state where the narrowing has progressed.

そこで、本発明は、狭小化された圧着スペースにおいても、十分な接続強度を確保しつつ、接続信頼性を確保することができる接続フィルム、およびこれを用いた接続構造体、接続構造体の製造方法、接続方法を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention provides a connection film capable of ensuring connection reliability while securing sufficient connection strength even in a narrowed crimping space, and a connection structure using the connection film and manufacturing of the connection structure The object is to provide a method and a connection method.

本発明者は、接続フィルムを圧着した後のフィラーの密度分布が、接着強度及び導通信頼性に寄与しているとの知見を得、フィラーの密度分布をフィルムのおおよそを占める樹脂の流動性を調整することで、接着強度及び導通信頼性を向上させることができることを見出した。   The present inventor obtained the knowledge that the density distribution of the filler after crimping the connecting film contributes to the adhesive strength and the conduction reliability, and the fluidity of the resin occupying the approximate density of the film in the density distribution of the filler. It has been found that the adhesive strength and conduction reliability can be improved by adjusting.

すなわち、本発明に係る接続フィルムは、フィラーが分散された接着剤層を有し、押圧されることにより接続対象物同士を接続する接続フィルムにおいて、上記接着剤層は、厚み方向において流動性に差が設けられ、上記フィラーの体積密度分布が、押圧領域の外縁部におけるフィラー体積密度(c)、上記押圧領域の中央部におけるフィラー体積密度(a)、上記押圧領域の内縁部におけるフィラー体積密度(b)としたときに、c>a>bとなるように流動性が設計されたものである。   That is, the connection film according to the present invention has an adhesive layer in which a filler is dispersed, and in the connection film that connects the objects to be connected by being pressed, the adhesive layer is fluid in the thickness direction. A difference is provided, and the volume density distribution of the filler is such that the filler volume density (c) at the outer edge of the pressing area, the filler volume density (a) at the center of the pressing area, and the filler volume density at the inner edge of the pressing area. When (b), the fluidity is designed so that c> a> b.

また、本発明に係る接続フィルムの製造方法は、フィラーが分散された接着剤層を有し、押圧されることにより接続対象物同士を接続する接続フィルムの製造方法において、上記接着剤層は、厚み方向において流動性に差が設けられ、上記フィラーの体積密度分布が、押圧領域の外縁部におけるフィラー体積密度(c)、上記押圧領域の中央部におけるフィラー体積密度(a)、上記押圧領域の内縁部におけるフィラー体積密度(b)としたときに、c>a>bとなるように流動性が設計されたものである。   Moreover, the manufacturing method of the connection film according to the present invention includes an adhesive layer in which a filler is dispersed, and in the manufacturing method of the connection film that connects the objects to be connected by being pressed, the adhesive layer includes: There is a difference in fluidity in the thickness direction, and the volume density distribution of the filler is such that the filler volume density (c) at the outer edge of the pressing area, the filler volume density (a) at the center of the pressing area, The fluidity is designed so that c> a> b when the filler volume density (b) at the inner edge is set.

また、本発明に係る接続構造体は、接続対象物の間に、フィラーが分散された接着剤層を有する接続フィルムを挟持し、押圧されることにより、上記接続フィルムを介して接続された接続構造体において、接続後の上記接続対象物の上記フィラーの体積密度分布が、押圧領域の外縁部におけるフィラー体積密度(c)、上記押圧領域の中央部におけるフィラー体積密度(a)、上記押圧領域の内縁部におけるフィラー体積密度(b)としたときに、c>a>bとなるものである。   Further, the connection structure according to the present invention sandwiches a connection film having an adhesive layer in which fillers are dispersed between connection objects, and is connected via the connection film by being pressed. In the structure, the volume density distribution of the filler of the connection object after connection is such that the filler volume density (c) at the outer edge of the pressing area, the filler volume density (a) at the center of the pressing area, and the pressing area When the filler volume density (b) at the inner edge portion is set, c> a> b.

また、本発明に係る接続構造体の製造方法は、接続対象物の間に、フィラーが分散された接着剤層を有する接続フィルムを挟持し、上記接続フィルムを介して上記接続対象物を押圧して接続する工程を有し、接続後の上記接続対象物の上記フィラーの体積密度分布が、押圧領域の外縁部におけるフィラー体積密度(c)、上記押圧領域の中央部におけるフィラー体積密度(a)、上記押圧領域の内縁部におけるフィラー体積密度(b)としたときに、c>a>bとなるものである。   Further, in the method for manufacturing a connection structure according to the present invention, a connection film having an adhesive layer in which a filler is dispersed is sandwiched between connection objects, and the connection object is pressed through the connection film. The filler volume density distribution (c) at the outer edge of the pressing region and the filler volume density (a) at the central portion of the pressing region. When the filler volume density (b) at the inner edge of the pressing region is set, c> a> b.

また、本発明に係る接続方法は、接続対象物の間に、フィラーが分散された接着剤層を有する接続フィルムを挟持し、上記接続フィルムを介して上記接続対象物を押圧して接続する工程を有し、接続後の上記接続対象物の上記フィラーの体積密度分布が、押圧領域の外縁部におけるフィラー体積密度(c)、上記押圧領域の中央部におけるフィラー体積密度(a)、上記押圧領域の内縁部におけるフィラー体積密度(b)としたときに、c>a>bとなるものである。   Moreover, the connection method according to the present invention includes a step of sandwiching a connection film having an adhesive layer in which fillers are dispersed between connection objects, and pressing and connecting the connection object through the connection film. The volume density distribution of the filler of the connection object after connection is such that the filler volume density (c) at the outer edge of the pressing area, the filler volume density (a) at the center of the pressing area, and the pressing area When the filler volume density (b) at the inner edge portion is set, c> a> b.

本発明は、所定のフィラーの密度分布となる主に流動性からなる設計条件を備えることにより、接続フィルムは、接続対象物間で、接着剤層によるフィレットが適切に形成され、接着強度を向上させることができ、また、接続対象物間において適切なフィラーの分布状態となり良好な導通性を実現できる。   The present invention has a design condition mainly consisting of fluidity that results in a density distribution of a predetermined filler, so that the connection film is appropriately formed with a fillet of an adhesive layer between objects to be connected, thereby improving the adhesive strength. In addition, an appropriate filler distribution state can be obtained between the objects to be connected, and good electrical conductivity can be realized.

図1は、本発明に係る接続構造体を示す分解斜視図である。FIG. 1 is an exploded perspective view showing a connection structure according to the present invention. 図2は、異方性導電フィルムを示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an anisotropic conductive film. 図3は、熱圧着ツールによる押圧領域を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a pressing region by a thermocompression bonding tool. 図4は、本発明に係る異方性導電フィルムを用いた接着状態を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing an adhesion state using the anisotropic conductive film according to the present invention. 図5は、熱加圧前における異方性導電フィルムの一例を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of the anisotropic conductive film before heat pressing. 図6は、熱加圧当初における異方性導電フィルムの断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of the anisotropic conductive film at the beginning of heat pressing. 図7は、バインダー樹脂における最低溶融粘度の到達温度差を示すグラフである。FIG. 7 is a graph showing the temperature difference between the minimum melt viscosity and the binder resin. 図8は、熱加圧当初における比較例1に係る異方性導電フィルムの断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of an anisotropic conductive film according to Comparative Example 1 at the beginning of heat pressing. 図9は、比較例1に係る異方性導電フィルムを用いた接着状態を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing an adhesion state using the anisotropic conductive film according to Comparative Example 1. 図10は、熱加圧当初における比較例2に係る異方性導電フィルムの断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of an anisotropic conductive film according to Comparative Example 2 at the beginning of heat pressing. 図11は、比較例2に係る異方性導電フィルムを用いた接着状態を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing an adhesion state using the anisotropic conductive film according to Comparative Example 2. 図12は、異方性導電フィルムを用いた接続工程を示す断面図であり、(A)は熱加圧前の状態、(B)は熱加圧状態を示す。12A and 12B are cross-sectional views showing a connection process using an anisotropic conductive film, in which FIG. 12A shows a state before heat pressing, and FIG. 12B shows a heat pressing state.

以下、本発明が適用された接続フィルム、接続フィルムの製造方法、接続構造体、接続構造体の製造方法及び接続方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態のみに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の変更が可能であることは勿論である。また、図面は模式的なものであり、各寸法の比率等は現実のものとは異なることがある。具体的な寸法等は以下の説明を参酌して判断すべきものである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。   Hereinafter, a connection film, a method for manufacturing a connection film, a connection structure, a method for manufacturing a connection structure, and a connection method to which the present invention is applied will be described in detail with reference to the drawings. It should be noted that the present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. Further, the drawings are schematic, and the ratio of each dimension may be different from the actual one. Specific dimensions should be determined in consideration of the following description. Moreover, it is a matter of course that portions having different dimensional relationships and ratios are included between the drawings.

本発明が適用された接合フィルムは、リジッド基板やフレキシブル基板上に、ICチップやフレキシブル基板等の電子部品を接合させる接合フィルムであり、本発明が適用された接続構造体は、この接合フィルムを用いてリジッド基板等とICチップ等の電子部品が接合されたものであり、例えばテレビやPC、携帯電話、ゲーム機、オーディオ機器、タブレット端末あるいは車載用モニタ等のあらゆる電子機器に内蔵されている基板に用いることができる。このような基板においては、ファインピッチ化、軽量薄型化等の観点から、ICチップや各種回路が形成されたフレキシブル基板を直接基板上に実装するいわゆるCOB(chip on board)、COG(chip on glass)、FOB(film on board)、FOG(film on glass)、フレキシブル基板同士を接続するFOF(film on film)が採用されている。また、各種基板とICチップやフレキシブル基板等との接合に用いられる接合フィルムとしては、バインダー樹脂層に導電性粒子が分散された、異方性導電フィルム(ACF:anisotropic conductive film)が多く用いられている。   The bonding film to which the present invention is applied is a bonding film for bonding an electronic component such as an IC chip or a flexible substrate on a rigid substrate or a flexible substrate, and the connection structure to which the present invention is applied includes the bonding film. Rigid substrate etc. and electronic parts such as IC chips are joined, and are incorporated in all electronic devices such as TVs, PCs, mobile phones, game machines, audio equipment, tablet terminals or in-vehicle monitors. It can be used for a substrate. In such a substrate, from the viewpoints of fine pitch, light weight, and thinning, a so-called COB (chip on board) or COG (chip on glass) in which a flexible substrate on which an IC chip or various circuits are formed is directly mounted on the substrate. ), FOB (film on board), FOG (film on glass), and FOF (film on film) for connecting flexible substrates to each other. In addition, as a bonding film used for bonding various substrates to an IC chip, a flexible substrate, etc., an anisotropic conductive film (ACF) in which conductive particles are dispersed in a binder resin layer is often used. ing.

FOBによる接続構造体を例に説明すると、図1に示すように、この接続構造体1は、基板2に、本発明が適用された異方性導電フィルム3を介して、フレキシブル基板4が接合されることにより製造される。   A connection structure by FOB will be described as an example. As shown in FIG. 1, the connection structure 1 has a flexible substrate 4 bonded to a substrate 2 via an anisotropic conductive film 3 to which the present invention is applied. To be manufactured.

基板2は、例えばガラス基板やガラスエポキシ基板等のリジッド基板であり、ITO膜やCuパターン等による各種配線パターン10が形成されると共に、ICチップ等の各種部品が実装されている。そして、基板2は、フレキシブル基板4が異方性導電フィルム3を介して接続されることにより接続構造体1を構成する。   The substrate 2 is a rigid substrate such as a glass substrate or a glass epoxy substrate, for example, on which various wiring patterns 10 made of an ITO film or a Cu pattern are formed, and various components such as an IC chip are mounted. And the board | substrate 2 comprises the connection structure 1 by connecting the flexible substrate 4 via the anisotropic conductive film 3. FIG.

基板2は、フレキシブル基板4が接続されるFOB実装部5には、フレキシブル基板4に設けられた接続端子7と接続される複数の電極端子6が形成されている。電極端子6は、図1に示すように、例えば略矩形状に形成され、長手方向に直交する方向に亘って複数配列して形成されている。各電極端子6は、配線パターン10を介して他の回路や電子部品と接続されている。   In the substrate 2, a plurality of electrode terminals 6 connected to connection terminals 7 provided on the flexible substrate 4 are formed in the FOB mounting portion 5 to which the flexible substrate 4 is connected. As shown in FIG. 1, the electrode terminals 6 are formed, for example, in a substantially rectangular shape, and are arranged in a plurality over the direction orthogonal to the longitudinal direction. Each electrode terminal 6 is connected to other circuits and electronic components via the wiring pattern 10.

このFOB実装部5は、導電性の接着剤として異方性導電フィルム3を用いてフレキシブル基板4が接続される。異方性導電フィルム3は、後述するように、バインダー樹脂に導電性粒子を含有しており、フレキシブル基板4の接続端子7と基板2に形成された電極端子6とを、導電性粒子を介して電気的に接続させる。   The FOB mounting portion 5 is connected to the flexible substrate 4 using an anisotropic conductive film 3 as a conductive adhesive. As will be described later, the anisotropic conductive film 3 contains conductive particles in a binder resin, and the connection terminals 7 of the flexible substrate 4 and the electrode terminals 6 formed on the substrate 2 are connected via the conductive particles. Connect them electrically.

[フレキシブル基板]
基板2のFOB実装部5に接続されるフレキシブル基板4は、ポリイミド等の可撓性を有する基板9の一面9a上に、図1に示すように、電極端子6と接続される接続端子7が複数配列して形成されている。接続端子7は、例えば銅箔等がパターニングされるとともに、適宜、表面にニッケル金メッキ等のメッキコート処理が施されることにより形成され、電極端子6と同様に、例えば略矩形状に形成され、長手方向に直交する方向に亘って複数配列して形成されている。接続端子7と電極端子6、及び接続端子7間の領域と電極端子6間の領域とは、略同じパターンで配列され、同一幅を有し、異方性導電フィルム3を介して重畳される。
[Flexible substrate]
The flexible substrate 4 connected to the FOB mounting portion 5 of the substrate 2 has a connection terminal 7 connected to the electrode terminal 6 on one surface 9a of a flexible substrate 9 such as polyimide as shown in FIG. Multiple arrays are formed. The connection terminal 7 is formed, for example, by patterning a copper foil or the like and appropriately performing a plating coating process such as nickel gold plating on the surface, and is formed in a substantially rectangular shape, for example, like the electrode terminal 6. A plurality are arranged in a direction orthogonal to the longitudinal direction. The connection terminal 7 and the electrode terminal 6, and the region between the connection terminal 7 and the region between the electrode terminals 6 are arranged in substantially the same pattern, have the same width, and are superimposed via the anisotropic conductive film 3. .

また、フレキシブル基板5は、接続端子7の近傍にカバーレイ8が設けられている。カバーレイ8は、接続端子7を露出させるとともに、基板9の一面9aに形成された配線パターンを保護するものであり、絶縁性のベースフィルムの一面に接着剤層が設けられ、この接着剤層によって基板9の一面9aに貼り付けられている。   Further, the flexible substrate 5 is provided with a coverlay 8 in the vicinity of the connection terminal 7. The coverlay 8 exposes the connection terminals 7 and protects the wiring pattern formed on the one surface 9a of the substrate 9. An adhesive layer is provided on one surface of the insulating base film, and this adhesive layer Is attached to one surface 9a of the substrate 9.

[異方性導電フィルム]
異方性導電フィルム3は、熱硬化型の接着剤であり、後述する熱圧着ツール20により熱加圧されることにより流動化して導電性粒子16が基板2及びフレキシブル基板4の各端子6、7の間で押し潰され、加熱により、導電性粒子16が押し潰された状態で硬化する。これにより、異方性導電フィルム3は、基板2とフレキシブル基板4とを電気的、機械的に接続する。
[Anisotropic conductive film]
The anisotropic conductive film 3 is a thermosetting adhesive and is fluidized by being thermally pressed by a thermocompression bonding tool 20 to be described later, so that the conductive particles 16 are the terminals 6 of the substrate 2 and the flexible substrate 4. 7, and the conductive particles 16 are crushed and hardened by heating. Thereby, the anisotropic conductive film 3 electrically and mechanically connects the substrate 2 and the flexible substrate 4.

異方性導電フィルム3は、例えば図2に示すように、膜形成樹脂、熱硬化性樹脂、潜在性硬化剤、シランカップリング剤等を含有する通常のバインダー樹脂15(接着剤)に導電性粒子16が分散されてなり、この熱硬化性接着材組成物がベースフィルム17上に塗布されることによりフィルム状に成型されたものである。   For example, as shown in FIG. 2, the anisotropic conductive film 3 is conductive to a normal binder resin 15 (adhesive) containing a film-forming resin, a thermosetting resin, a latent curing agent, a silane coupling agent, and the like. The particles 16 are dispersed, and this thermosetting adhesive composition is applied onto the base film 17 to be formed into a film shape.

ベースフィルム17は、例えば、PET(Poly Ethylene Terephthalate)、OPP(Oriented Polypropylene)、PMP(Poly-4-methylpentene-1)、PTFE(Polytetrafluoroethylene)等にシリコーン等の剥離剤を塗布してなる。   The base film 17 is formed, for example, by applying a release agent such as silicone to PET (Poly Ethylene Terephthalate), OPP (Oriented Polypropylene), PMP (Poly-4-methylpentene-1), PTFE (Polytetrafluoroethylene), or the like.

バインダー樹脂15に含有される膜形成樹脂としては、平均分子量が10000〜80000程度の樹脂が好ましい。膜形成樹脂としては、エポキシ樹脂、変形エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノキシ樹脂等の各種の樹脂が挙げられる。中でも、膜形成状態、接続信頼性等の観点からフェノキシ樹脂が特に好ましい。   The film forming resin contained in the binder resin 15 is preferably a resin having an average molecular weight of about 10,000 to 80,000. Examples of the film forming resin include various resins such as an epoxy resin, a modified epoxy resin, a urethane resin, and a phenoxy resin. Among these, phenoxy resin is particularly preferable from the viewpoint of film formation state, connection reliability, and the like.

熱硬化性樹脂としては、特に限定されず、例えば、市販のエポキシ樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。   It does not specifically limit as a thermosetting resin, For example, a commercially available epoxy resin, an acrylic resin, etc. are mentioned.

エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは単独でも、2種以上の組み合わせであってもよい。   The epoxy resin is not particularly limited. For example, naphthalene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, bisphenol type epoxy resin, stilbene type epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin. Naphthol type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

アクリル樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じてアクリル化合物、液状アクリレート等を適宜選択することができる。例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、イソブチルアクリレート、エポキシアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、テトラメチレングリコールテトラアクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジアクリロキシプロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシメトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシエトキシ)フェニル]プロパン、ジシクロペンテニルアクリレート、トリシクロデカニルアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等を挙げることができる。なお、アクリレートをメタクリレートにしたものを用いることもできる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   There is no restriction | limiting in particular as an acrylic resin, According to the objective, an acrylic compound, liquid acrylate, etc. can be selected suitably. For example, methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, epoxy acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, dimethylol tricyclodecane diacrylate, tetramethylene glycol tetraacrylate, 2-hydroxy- 1,3-diacryloxypropane, 2,2-bis [4- (acryloxymethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxyethoxy) phenyl] propane, dicyclopentenyl acrylate, tricyclo Examples include decanyl acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, urethane acrylate, and epoxy acrylate. In addition, what made acrylate the methacrylate can also be used. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

潜在性硬化剤としては、特に限定されないが、例えば、加熱硬化型の各種硬化剤が挙げられる。潜在性硬化剤は、通常では反応せず、熱、加圧等のトリガにより活性化し、反応を開始する。熱活性型潜在性硬化剤の活性化方法には、加熱による解離反応などで活性種(カチオンやアニオン、ラジカル)を生成する方法、室温付近ではエポキシ樹脂中に安定に分散しており高温でエポキシ樹脂と相溶・溶解し、硬化反応を開始する方法、モレキュラーシーブ封入タイプの硬化剤を高温で溶出して硬化反応を開始する方法、マイクロカプセルによる溶出・硬化方法等が存在する。熱活性型潜在性硬化剤としては、イミダゾール系、ヒドラジド系、三フッ化ホウ素−アミン錯体、スルホニウム塩、アミンイミド、ポリアミン塩、ジシアンジアミド等や、これらの変性物があり、これらは単独でも、2種以上の混合体であってもよい。ラジカル重合開始剤としては、公知のものを使用することができ、中でも有機過酸化物を好ましく使用することができる。   Although it does not specifically limit as a latent hardening agent, For example, various heat hardening type hardening agents are mentioned. The latent curing agent does not normally react but is activated by a trigger such as heat or pressure to start the reaction. The activation method of the thermal activation type latent curing agent includes a method of generating active species (cation, anion, radical) by a dissociation reaction by heating, etc., and it is stably dispersed in the epoxy resin near room temperature, and epoxy at high temperature There are a method of initiating a curing reaction by dissolving and dissolving with a resin, a method of initiating a curing reaction by eluting a molecular sieve encapsulated type curing agent at a high temperature, and an elution / curing method using microcapsules. Thermally active latent curing agents include imidazole, hydrazide, boron trifluoride-amine complexes, sulfonium salts, amine imides, polyamine salts, dicyandiamide, etc., and modified products thereof. The above mixture may be sufficient. As the radical polymerization initiator, a known one can be used, and among them, an organic peroxide can be preferably used.

シランカップリング剤としては、特に限定されないが、例えば、エポキシ系、アミノ系、メルカプト・スルフィド系、ウレイド系等を挙げることができる。シランカップリング剤を添加することにより、有機材料と無機材料との界面における接着性が向上される。   Although it does not specifically limit as a silane coupling agent, For example, an epoxy type, an amino type, a mercapto sulfide type, a ureido type etc. can be mentioned. By adding the silane coupling agent, the adhesion at the interface between the organic material and the inorganic material is improved.

導電性粒子16としては、異方性導電フィルム3において使用されている公知の何れの導電性粒子を挙げることができる。導電性粒子16としては、例えば、ニッケル、鉄、銅、アルミニウム、錫、鉛、クロム、コバルト、銀、金等の各種金属や金属合金の粒子、金属酸化物、カーボン、グラファイト、ガラス、セラミック、プラスチック等の粒子の表面に金属をコートしたもの、或いは、これらの粒子の表面に更に絶縁薄膜をコートしたもの等が挙げられる。樹脂粒子の表面に金属をコートしたものである場合、樹脂粒子としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、アクリロニトリル・スチレン(AS)樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ジビニルベンゼン系樹脂、スチレン系樹脂等の粒子を挙げることができる。   Examples of the conductive particles 16 include any known conductive particles used in the anisotropic conductive film 3. Examples of the conductive particles 16 include particles of various metals and metal alloys such as nickel, iron, copper, aluminum, tin, lead, chromium, cobalt, silver, gold, metal oxide, carbon, graphite, glass, ceramic, Examples thereof include those in which the surface of particles such as plastic is coated with metal, or those in which the surface of these particles is further coated with an insulating thin film. In the case where the surface of the resin particle is coated with metal, examples of the resin particle include an epoxy resin, a phenol resin, an acrylic resin, an acrylonitrile / styrene (AS) resin, a benzoguanamine resin, a divinylbenzene resin, a styrene resin, and the like. Can be mentioned.

[無機フィラー]
また、バインダー樹脂15の流動性を制御し、粒子捕捉率を向上させるために、バインダー樹脂組成物には、無機フィラーを含有させるようにしてもよい。無機フィラーとしては、特に限定されないが、シリカ、タルク、酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム等を用いることができる。このような無機フィラーは、異方性導電フィルム3によって接続される接続構造体の応力を緩和させる目的によっても適宜用いることができる。
[Inorganic filler]
Moreover, in order to control the fluidity | liquidity of the binder resin 15 and to improve a particle capture rate, you may make it contain an inorganic filler in a binder resin composition. The inorganic filler is not particularly limited, and silica, talc, titanium oxide, calcium carbonate, magnesium oxide and the like can be used. Such an inorganic filler can also be appropriately used for the purpose of relaxing the stress of the connection structure connected by the anisotropic conductive film 3.

なお、異方性導電フィルム3は、取り扱いの容易さ、保存安定性等の見地から、ベースフィルム17が積層された面とは反対の面側にカバーフィルムを設ける構成としてもよい。また、異方性導電フィルム3の形状は、特に限定されないが、例えば、巻取リール18に巻回可能な長尺テープ形状とし、所定の長さだけカットして使用することができる。   In addition, the anisotropic conductive film 3 is good also as a structure which provides a cover film in the surface opposite to the surface where the base film 17 was laminated | stacked from viewpoints of the ease of handling, storage stability, etc. Moreover, the shape of the anisotropic conductive film 3 is not particularly limited. For example, the anisotropic conductive film 3 may be formed into a long tape shape that can be wound around the take-up reel 18 and cut into a predetermined length for use.

[導電性粒子の密度分布]
ここで、本発明に係る異方性導電フィルム3は、熱圧着ツール20によって圧着された後の導電性粒子16が所定の密度分布になるよう設計されることにより、接着強度及び導通信頼性の向上が図られている。具体的に、図3に示すように、異方性導電フィルム3は、基板2とフレキシブル基板4とが接続された後の、並列する端子間領域11における導電性粒子16の密度分布が、熱圧着ツール20による押圧領域21の外縁部21cにおける粒子密度を(c)、熱圧着ツール20による押圧領域21の中央部21aにおける粒子密度を(a)、熱圧着ツール20による押圧領域21の内縁部21bにおける粒子密度を(b)としたときに、c>a>bとなる。
[Density distribution of conductive particles]
Here, the anisotropic conductive film 3 according to the present invention is designed so that the conductive particles 16 after being pressed by the thermocompression bonding tool 20 have a predetermined density distribution. Improvements are being made. Specifically, as shown in FIG. 3, the anisotropic conductive film 3 has a density distribution of the conductive particles 16 in the inter-terminal regions 11 after the substrate 2 and the flexible substrate 4 are connected. The particle density at the outer edge portion 21c of the pressing region 21 by the crimping tool 20 is (c), the particle density at the central portion 21a of the pressing region 21 by the thermocompression bonding tool 20 is (a), and the inner edge portion of the pressing region 21 by the thermocompression bonding tool 20 When the particle density in 21b is (b), c>a> b.

ここで、熱圧着ツール20の押圧領域21とは、熱圧着ツール20が熱加圧面20aによってフレキシブル基板4及び異方性電フィルム3を押圧する領域をいい、図3において点線で囲む領域である。押圧領域21の外縁部21cとは、押圧領域21の縁部に沿った外側の領域、すなわち押圧領域21を囲み押圧領域21と接する領域をいう。また押圧領域の内縁部21bとは、押圧領域21の縁部に沿った内側の領域、すなわち押圧領域21の外縁に囲まれ、かつ外縁に接する領域をいう。   Here, the pressing region 21 of the thermocompression bonding tool 20 refers to a region in which the thermocompression bonding tool 20 presses the flexible substrate 4 and the anisotropic electric film 3 with the heat pressing surface 20a, and is a region surrounded by a dotted line in FIG. . The outer edge portion 21 c of the pressing area 21 refers to an outer area along the edge of the pressing area 21, that is, an area surrounding the pressing area 21 and in contact with the pressing area 21. The inner edge portion 21b of the pressing area refers to an inner area along the edge of the pressing area 21, that is, an area surrounded by the outer edge of the pressing area 21 and in contact with the outer edge.

また、端子間領域11とは、基板2の電極端子6とフレキシブル基板4の接続端子7とが付き合わされたときに、隣接する電極端子6及び接続端子7との間の領域をいい、異方性導電フィルム3が熱加圧されたときに、バインダー樹脂15の流路となる。   The inter-terminal region 11 is a region between the adjacent electrode terminal 6 and the connection terminal 7 when the electrode terminal 6 of the substrate 2 and the connection terminal 7 of the flexible substrate 4 are attached to each other. When the conductive conductive film 3 is hot-pressed, it becomes a flow path for the binder resin 15.

本発明は、熱流動において導電性粒子16が最適配置される設計となることが主目的となる。そのため、同一フィルム内で異なる流動性を持ち、導電性粒子16の移動が適切になされることで、接着性能の向上と導電性粒子16の過度な偏在を解消することにより、接着性能を向上させている。   The main object of the present invention is to have a design in which the conductive particles 16 are optimally arranged in heat flow. Therefore, it has different fluidity within the same film, and the movement of the conductive particles 16 is appropriately performed, thereby improving the bonding performance and eliminating the excessive uneven distribution of the conductive particles 16, thereby improving the bonding performance. ing.

[フィレット]
このような導電性粒子16の密度分布を備えることにより、異方性導電フィルム3は、基板2とフレキシブル基板4との間で、バインダー樹脂15によるフィレットが適切に形成され、接着強度を向上させることができる。すなわち、異方性導電フィルム3によれば、押圧領域21の外縁部21cにおける導電性粒子16の密度(c)が、押圧領域21の内縁部21bにおける導電性粒子の密度(b)よりも高いことから、押圧領域21の外縁部21cにより多くのバインダー樹脂15が流動し、硬化されていることが分かる。そして、図4に示すように、押圧領域21の外縁部21cに流動したバインダー樹脂15によって、基板2とフレキシブル基板4との間に亘ってフィレット23が形成される。これにより、異方性導電フィルム3は、基板2とフレキシブル基板4とを強固に接合することができる。
[Fillet]
By providing such a density distribution of the conductive particles 16, the anisotropic conductive film 3 is appropriately formed with a fillet of the binder resin 15 between the substrate 2 and the flexible substrate 4 to improve the adhesive strength. be able to. That is, according to the anisotropic conductive film 3, the density (c) of the conductive particles 16 at the outer edge portion 21 c of the pressing region 21 is higher than the density (b) of the conductive particles at the inner edge portion 21 b of the pressing region 21. From this, it can be seen that a large amount of the binder resin 15 flows and hardens in the outer edge portion 21c of the pressing region 21. Then, as shown in FIG. 4, a fillet 23 is formed between the substrate 2 and the flexible substrate 4 by the binder resin 15 that has flowed to the outer edge portion 21 c of the pressing region 21. Thereby, the anisotropic conductive film 3 can firmly bond the substrate 2 and the flexible substrate 4.

つまり、このフィレット領域における導電性粒子16の偏在化を制御することによって、接着性と機能性の両立が図られている側面がある。つまり、フィレット部位の局所的な強度の向上により剥離開始点である端部を補強し、且つ異方導電性が良好に保たれる偏在化が成されている。   That is, there is an aspect in which both adhesion and functionality are achieved by controlling the uneven distribution of the conductive particles 16 in the fillet region. That is, uneven distribution is achieved in which the end portion, which is the separation start point, is reinforced by improving the local strength of the fillet region and the anisotropic conductivity is kept good.

また、このような導電性粒子16の密度分布を備えることにより、異方性導電フィルム3は、バインダー樹脂15が電極端子6と接続端子7との間から適度に流出されていることから、熱圧着ツール20による押し込みによって導電性粒子16を確実に挟持することができ、導通信頼性を向上することができる。   In addition, by providing such a density distribution of the conductive particles 16, the anisotropic conductive film 3 has a binder resin 15 that is appropriately discharged from between the electrode terminal 6 and the connection terminal 7. The conductive particles 16 can be reliably held by being pressed by the crimping tool 20, and the conduction reliability can be improved.

また、異方性導電フィルム3は、押圧領域の外縁部21cにおいて基板2とフレキシブル基板4との間に亘る比較的大径のフィレット23が形成されることから、押圧領域21の外縁部21cにおけるバインダー樹脂15の厚みが、押圧領域21の内縁部21b及び中央部21aにおけるバインダー樹脂15の厚みよりも厚くなる。   The anisotropic conductive film 3 has a relatively large diameter fillet 23 formed between the substrate 2 and the flexible substrate 4 at the outer edge 21c of the pressing region. The thickness of the binder resin 15 becomes thicker than the thickness of the binder resin 15 in the inner edge portion 21b and the central portion 21a of the pressing region 21.

[流動性]
このように、異方性導電フィルム3の熱圧着後における導電性粒子16の密度分布は、バインダー樹脂15の流動性に起因する。すなわち、異方性導電フィルム3が熱圧着ツール20によって熱加圧されることにより、バインダー樹脂15が流動性を示すとともに、基板2とフレキシブル基板4との間から流出する。このとき、異方性導電フィルム3には、バインダー樹脂15が押圧領域21から適度に流出されることで、押圧領域21の外縁部21cにおいてフィレット23を形成するとともに、熱圧着ツール20による押し込みによって導電性粒子16を電極端子6と接続端子7とで挟持できるように、バインダー樹脂15が電極端子6と接続端子7との間から適度に流出される流動性を示すことが必要となる。
[Liquidity]
Thus, the density distribution of the conductive particles 16 after the thermocompression bonding of the anisotropic conductive film 3 results from the fluidity of the binder resin 15. That is, when the anisotropic conductive film 3 is heat-pressed by the thermocompression bonding tool 20, the binder resin 15 exhibits fluidity and flows out between the substrate 2 and the flexible substrate 4. At this time, the binder resin 15 is appropriately discharged from the pressing region 21 to the anisotropic conductive film 3, thereby forming a fillet 23 at the outer edge portion 21 c of the pressing region 21, and by pressing with the thermocompression bonding tool 20. It is necessary that the binder resin 15 has a fluidity that allows the conductive resin 16 to flow out appropriately between the electrode terminal 6 and the connection terminal 7 so that the conductive particles 16 can be sandwiched between the electrode terminal 6 and the connection terminal 7.

このような流動性を示す異方性導電フィルム3としては、例えば、図5に示すように、第1の面3aから、第1の面3aと反対側の第2の面3bにかけて、バインダー樹脂15の流動性が低くなるように形成されたものがある。模式的に表現すれば、異方性導電フィルム3は、相対的に流動性の高い第1のバインダー樹脂15aと、相対的に流動性の低い第2のバインダー樹脂15bを積層して形成すればよい。この異方性導電フィルム3は、バインダー樹脂15の流動性が相対的に高い第1のバインダー樹脂15aが設けられた第1の面3a側から熱圧着ツール20によって押圧される。すると、図6に示すように、異方性導電フィルム3は、第1の面3a側の第1のバインダー樹脂15aが流動し、次いで第2の面3b側の第2のバインダー樹脂15bが流動する。   As the anisotropic conductive film 3 exhibiting such fluidity, for example, as shown in FIG. 5, a binder resin is formed from the first surface 3a to the second surface 3b opposite to the first surface 3a. 15 is formed to have a low fluidity. If it expresses typically, if anisotropic conductive film 3 is formed by laminating first binder resin 15a with relatively high fluidity and second binder resin 15b with relatively low fluidity, Good. The anisotropic conductive film 3 is pressed by the thermocompression bonding tool 20 from the first surface 3a side on which the first binder resin 15a having relatively high fluidity of the binder resin 15 is provided. Then, as shown in FIG. 6, in the anisotropic conductive film 3, the first binder resin 15 a on the first surface 3 a side flows, and then the second binder resin 15 b on the second surface 3 b side flows. To do.

このとき、第1の面3a側の第1のバインダー樹脂15aの流動性と第2の面3b側の第2のバインダー樹脂15bの流動性との差を適度に調整することにより、図4に示すように、第1のバインダー樹脂15aが第2のバインダー樹脂15b上を押圧領域21の外縁部21cまで流動した後に第2のバインダー樹脂15bが流動を開始することで、第1、第2のバインダー樹脂15a、15bが共に押圧領域21の外縁部21cにおいて硬化し基板2及びフレキシブル基板4の両面にわたる適切なフィレット23を形成することができる。   At this time, by appropriately adjusting the difference between the fluidity of the first binder resin 15a on the first surface 3a side and the fluidity of the second binder resin 15b on the second surface 3b side, FIG. As shown, after the first binder resin 15a flows on the second binder resin 15b to the outer edge portion 21c of the pressing region 21, the second binder resin 15b starts to flow, whereby the first and second Both the binder resins 15 a and 15 b are cured at the outer edge portion 21 c of the pressing region 21, and an appropriate fillet 23 covering both surfaces of the substrate 2 and the flexible substrate 4 can be formed.

尚、バインダー樹脂15の厚み方向における流動性の差は、積層構成によって設けられるものには限定されない。   The difference in fluidity in the thickness direction of the binder resin 15 is not limited to that provided by the laminated configuration.

また、第1の面3a側の第1のバインダー樹脂15aが硬化し始める前に、第2の面3b側の第2のバインダー樹脂15bが流動を開始することにより、第1のバインダー樹脂15aによって第2のバインダー樹脂15bの流動が抑制されることなく、熱圧着ツール20によって押し込むことができ、導通性を確保することができる。なお、図5においては流動性の異なる2つのバインダー樹脂15a、15bを用いて説明したが、異方性導電フィルム3は、流動性の異なる3つ以上のバインダー樹脂を備え、第1の面3aから第2の面3bにかけて漸次流動性が低くなるように形成してもよい。   Also, before the first binder resin 15a on the first surface 3a side begins to harden, the second binder resin 15b on the second surface 3b side starts to flow, so that the first binder resin 15a The flow of the second binder resin 15b can be pushed by the thermocompression bonding tool 20 without being suppressed, and electrical conductivity can be ensured. In addition, in FIG. 5, although demonstrated using two binder resin 15a, 15b from which fluidity | liquidity differs, the anisotropic conductive film 3 is equipped with 3 or more binder resin from which fluidity | liquidity differs, and the 1st surface 3a. Alternatively, the fluidity may gradually decrease from the second surface 3b to the second surface 3b.

このように樹脂の流動性を設計することで、均一分散されている導電性粒子16を任意に偏在化させることができる。これにより、接着性の向上に寄与させることもできる。   Thus, by designing the fluidity of the resin, the uniformly dispersed conductive particles 16 can be arbitrarily distributed. Thereby, it can also contribute to the improvement of adhesiveness.

[最低溶融粘度の到達温度]
バインダー樹脂15がこのような流動性を示す異方性導電フィルム3としては、例えば、図5に示す異方性導電フィルム3において、相対的に流動性の高い第1のバインダー樹脂15aを、最低溶融粘度の到達温度が相対的に低い樹脂により形成し、相対的に流動性の低い第2のバインダー樹脂15bを、最低溶融粘度の到達温度が相対的に高い樹脂により形成することにより得る。ここで、図7に示すように、第1、第2のバインダー樹脂15a、15bの最低溶融粘度の到達温度差は、10〜30℃とすることが好ましい。
[Minimum melt viscosity temperature]
As the anisotropic conductive film 3 in which the binder resin 15 exhibits such fluidity, for example, in the anisotropic conductive film 3 shown in FIG. The second binder resin 15b having a relatively low melt viscosity and a relatively low fluidity is formed by using a resin having a relatively low melt viscosity and a relatively low fluidity. Here, as shown in FIG. 7, the ultimate temperature difference between the minimum melt viscosities of the first and second binder resins 15 a and 15 b is preferably 10 to 30 ° C.

なお、表裏面でこのように最低溶融粘度の到達温度差になるような流動性の違いが得られれば、積層フィルムのような層構成である必要は特にない。   In addition, if the difference in fluidity is obtained on the front and back surfaces in such a way that the temperature difference between the minimum melt viscosities is reached, there is no particular need for the layer configuration as in a laminated film.

最低溶融粘度の到達温度差を10〜30℃とすることにより、異方性導電フィルム3は、第1の面3a側から熱圧着ツール20を押し当てると、先ず、第1のバインダー樹脂15aが第2のバインダー樹脂15b上を押圧領域21の外縁部21cまで流動し、その後に第2のバインダー樹脂15bが流動を開始する。これにより、異方性導電フィルム3は、第1、第2のバインダー樹脂15a、15bが共に押圧領域21の外縁部21cにおいて硬化し基板2及びフレキシブル基板4の両面にわたる大きなフィレット23を形成することができる(図4参照)。   By setting the temperature difference of minimum melt viscosity to 10 to 30 ° C., when the anisotropic conductive film 3 presses the thermocompression bonding tool 20 from the first surface 3 a side, first, the first binder resin 15 a The second binder resin 15b flows to the outer edge portion 21c of the pressing region 21 and then the second binder resin 15b starts to flow. Thereby, in the anisotropic conductive film 3, both the first and second binder resins 15a and 15b are cured at the outer edge portion 21c of the pressing region 21 to form a large fillet 23 over both surfaces of the substrate 2 and the flexible substrate 4. (See FIG. 4).

このフィレット部分での導電性粒子16の含有量を、所定範囲内に収め且つ偏在させるように設計することで、フィレットによる接着性向上の効果をより強く発現させることができる。また導電性粒子16の局所的なバランスが崩れれば、フィレットそのものが脆くなるため接着性の低下も招くと考えられる。つまり、流動された導電性粒子16によって、フィルム内の移動メカニズムのおおよそは判明されることになり、これによって最適な導電性粒子16の偏在条件を求め、フィルムの設計に反映させることができる。   By designing the content of the conductive particles 16 in the fillet portion so as to be within a predetermined range and unevenly distributed, the effect of improving the adhesion by the fillet can be expressed more strongly. In addition, if the local balance of the conductive particles 16 is lost, the fillet itself becomes brittle, and it is considered that the adhesiveness is also lowered. That is, the flow of the conductive particles 16 reveals an approximate movement mechanism in the film, whereby the optimum uneven distribution condition of the conductive particles 16 can be obtained and reflected in the design of the film.

また、最低溶融粘度の到達温度差を10〜30℃と、大きくすることにより、異方性導電フィルム3は、バインダー樹脂15aが硬化し始める前に、バインダー樹脂15bが流動を開始することにより、バインダー樹脂15aによってバインダー樹脂15bの流動が抑制されることなく、熱圧着ツール20によって押し込むことができる。したがって、異方性導電フィルム3は、電極端子6と接続端子7とで導電性粒子16を挟持し、この状態でバインダー樹脂15が硬化することにより、導通信頼性を確保することができる。   In addition, by increasing the temperature difference of minimum melt viscosity to 10 to 30 ° C., the anisotropic conductive film 3 starts to flow before the binder resin 15a begins to harden. The binder resin 15a can be pushed in by the thermocompression bonding tool 20 without the flow of the binder resin 15b being suppressed. Therefore, the anisotropic conductive film 3 can ensure conduction reliability by sandwiching the conductive particles 16 between the electrode terminals 6 and the connection terminals 7 and curing the binder resin 15 in this state.

一方、最低溶融粘度の到達温度差が小さく、10℃未満であると、図8に示すように、異方性導電フィルム3は、第1のバインダー樹脂15aと第2のバインダー樹脂15aとの流動がほぼ同時に起きるため、図9に示すように、バインダー樹脂15a、15bが共に押圧領域21の外縁部21cにおいて基板2側に偏ったフィレット23が形成されてしまう。このため、基板2とフレキシブル基板4との間の接続強度が不足する。つまり、導電性粒子16の偏在化も適切に生じることがない。   On the other hand, when the temperature difference between the minimum melt viscosities is small and less than 10 ° C., the anisotropic conductive film 3 flows between the first binder resin 15a and the second binder resin 15a as shown in FIG. As shown in FIG. 9, a fillet 23 in which the binder resins 15a and 15b are both biased toward the substrate 2 at the outer edge portion 21c of the pressing region 21 is formed. For this reason, the connection strength between the substrate 2 and the flexible substrate 4 is insufficient. That is, the uneven distribution of the conductive particles 16 does not occur appropriately.

また、最低溶融粘度の到達温度差が30℃より高いと、図10に示すように、異方性導電フィルム3は、第1のバインダー樹脂15aが第2のバインダー樹脂15b上を流動し第2のバインダー樹脂15bが流動する前に硬化してしまう。そのため、第2のバインダー樹脂の流動が妨げられ、図11に示すように、基板2側に偏ってフィレット23が形成され、基板2とフレキシブル基板4との間の接続強度が不足する。また、第2のバインダー樹脂15bの流動が妨げられるために、熱圧着ツール20による押し込みも不足し、電極端子6と接続端子7とで導電性粒子16を十分に挟持することができず、この状態でバインダー樹脂15が硬化することにより、導通抵抗も高くなってしまう。つまり、導電性粒子16の偏在化の効果も消失する状態になっている。   Further, when the temperature difference of the minimum melt viscosity is higher than 30 ° C., as shown in FIG. 10, the anisotropic conductive film 3 has the second binder resin 15a flowing on the second binder resin 15b, as shown in FIG. Before the binder resin 15b flows. Therefore, the flow of the second binder resin is hindered, and as shown in FIG. 11, the fillet 23 is formed biased toward the substrate 2 side, and the connection strength between the substrate 2 and the flexible substrate 4 is insufficient. Further, since the flow of the second binder resin 15b is hindered, the pressing by the thermocompression bonding tool 20 is insufficient, and the conductive particles 16 cannot be sufficiently sandwiched between the electrode terminals 6 and the connection terminals 7. When the binder resin 15 is cured in the state, the conduction resistance is also increased. That is, the effect of uneven distribution of the conductive particles 16 is lost.

[第2の面を押したときの強度]
異方性導電フィルム3は、第1の面3aから第2の面3bにかけて流動性が漸次低くなるように構成されている。そのため、上記とは反対に第2の面3b側を熱圧着ツール20によって押圧すると、バインダー樹脂15の挙動が変わり、接着強度が落ちる。例えば、図5に示す、バインダー樹脂15として、最低溶融粘度の到達温度が相対的に低い第1のバインダー樹脂15aと、最低溶融粘度の到達温度が相対的に高い第2のバインダー樹脂15bとを積層して形成された異方性導電フィルム3において、第2の面3b側から熱圧着ツール20を押し当てた場合、第2のバインダー樹脂15bが流れにくいことから、押圧領域21の外縁部21cの厚さが足りず、フィレット23が第1の面3a側に偏って形成される。このため、基板2とフレキシブル基板4との接着強度が低下してしまう。
[Strength when pressing the second surface]
The anisotropic conductive film 3 is configured such that the fluidity gradually decreases from the first surface 3a to the second surface 3b. Therefore, if the 2nd surface 3b side is pressed with the thermocompression-bonding tool 20 contrary to the above, the behavior of the binder resin 15 will change and adhesive strength will fall. For example, as the binder resin 15 shown in FIG. 5, a first binder resin 15a having a relatively low minimum melt viscosity reaching temperature and a second binder resin 15b having a relatively low minimum melt viscosity reaching temperature are used. In the anisotropic conductive film 3 formed by laminating, when the thermocompression bonding tool 20 is pressed from the second surface 3b side, the second binder resin 15b is difficult to flow. The fillet 23 is formed to be biased toward the first surface 3a. For this reason, the adhesive strength between the substrate 2 and the flexible substrate 4 is lowered.

つまり、全体的な流動の仕方そのものを制御することが接着性に直接的に起因することになる。そして、導電性粒子16の偏在化はこの流動によって制御し、縁在部に局所的に存在することでフィルム全体の接合性に影響を及ぼすと推測される。   In other words, controlling the overall flow itself is directly attributable to adhesion. The uneven distribution of the conductive particles 16 is controlled by this flow, and it is presumed that the presence of the conductive particles 16 locally affects the bondability of the entire film.

[その他]
異方性導電フィルム3は、導電性粒子16を含有する導電性接着剤層と、導電性粒子16を含有せずバインダー樹脂のみからなる絶縁性接着剤層とを積層して形成することができる。例えば、異方性導電フィルム3は、図5に示すように、第1、第2のバインダー樹脂15a、15bを積層する場合、第1のバインダー樹脂15aを絶縁性接着剤層とし、第2のバインダー樹脂15bを導電性接着剤層とすることができる。また、異方性導電フィルム3は、流動性の異なる接着剤層を複数積層させ、そのいずれか一又は複数の層を導電性接着剤層とし、その他の層を絶縁性接着剤層としてもよい。
[Others]
The anisotropic conductive film 3 can be formed by laminating a conductive adhesive layer containing the conductive particles 16 and an insulating adhesive layer containing only the binder resin without containing the conductive particles 16. . For example, as shown in FIG. 5, when the first and second binder resins 15a and 15b are laminated, the anisotropic conductive film 3 uses the first binder resin 15a as an insulating adhesive layer, The binder resin 15b can be used as a conductive adhesive layer. The anisotropic conductive film 3 may be formed by laminating a plurality of adhesive layers having different fluidity, and any one or a plurality of layers may be used as a conductive adhesive layer, and the other layers may be used as an insulating adhesive layer. .

もしくは異方性導電フィルム3は、1層よりなり、表裏面で流動性が異なるように調整したものでもよい。この調整は、例えば作製時の乾燥風量などで行う。また、溶剤などの希釈性・揮発性を持つものを噴霧・浸透させるなどしてもよい。このような表裏面の流動性の差異は、微小圧縮試験などの、表面の微小な圧縮性などから確認することができる。   Or the anisotropic conductive film 3 consists of one layer, and the thing adjusted so that fluidity | liquidity may differ on front and back. This adjustment is performed by, for example, the amount of dry air at the time of production. Moreover, you may spray and infiltrate what has dilution property and volatility, such as a solvent. Such a difference in fluidity between the front and back surfaces can be confirmed from the minute compressibility of the surface such as a minute compression test.

このように設けられた異方性導電フィルム3は、厚み方向で最低溶融粘度の到達温度に勾配を設けることで特異な流動性を示すことになる。これはガラス板などの平坦且つ強剛性の部材上に第1の面を上にしてフィルムを載せた場合と第2の面を上にしてフィルムを載せた場合において、2〜30℃/分のようにゆっくりと且つ硬化が過度に進行しない温度で過熱をすると、その流動性の違いは顕著に現れる。つまり、フィルムの広がりは最低溶融粘度の到達温度の勾配が大きい方が、より広い面積になる。これが接合後のフィレットに相当しているともみなされるため、上記勾配が接合強度に関係することになる。   The anisotropic conductive film 3 provided in this way exhibits a specific fluidity by providing a gradient in the temperature at which the lowest melt viscosity is reached in the thickness direction. This is when the film is placed with the first side up on a flat and highly rigid member such as a glass plate, and when the film is placed with the second side up. Thus, when heating is carried out slowly and at a temperature at which curing does not proceed excessively, the difference in fluidity appears remarkably. In other words, the film has a wider area when the gradient of the ultimate temperature of the minimum melt viscosity is larger. Since this is considered to correspond to the fillet after bonding, the gradient is related to the bonding strength.

本発明は、この厚み方向での最低溶融粘度の到達温度勾配と導電性粒子16の移動性ないし偏在のさせ方により、接着性を適宜制御させることで、フィルムの機能性を最適化させることを目的とする。   The present invention optimizes the functionality of the film by appropriately controlling the adhesiveness depending on the ultimate temperature gradient of the minimum melt viscosity in the thickness direction and the mobility or uneven distribution of the conductive particles 16. Objective.

[熱圧着ツール]
フレキシブル基板4を熱加圧する熱圧着ツール20は、基板2及びフレキシブル基板4が載置されるステージの上方に昇降自在に設けられている。
[Thermo-compression tool]
A thermocompression bonding tool 20 that heat-presses the flexible substrate 4 is provided so as to be movable up and down above the stage on which the substrate 2 and the flexible substrate 4 are placed.

熱圧着ツール20は、適宜、緩衝材を介して、フレキシブル基板4の接続端子7が並列する端子領域を、基板2のFOB実装部5に加熱押圧するものである。熱圧着ツール20は、フレキシブル基板4及び基板2を熱加圧することにより、両端子6、7間に熱と圧力を掛けることができ、導電性粒子16を確実に挟持させるとともに、この状態でバインダー樹脂15を硬化させることができる。   The thermocompression bonding tool 20 heats and presses the terminal region where the connection terminals 7 of the flexible substrate 4 are arranged in parallel to the FOB mounting portion 5 of the substrate 2 through a cushioning material. The thermocompression bonding tool 20 can apply heat and pressure between the terminals 6 and 7 by heat-pressing the flexible substrate 4 and the substrate 2 to securely sandwich the conductive particles 16, and in this state the binder The resin 15 can be cured.

なお、熱圧着ツール20のフレキシブル基板4と接する熱加圧面20aは平坦化されており、また熱加圧面20aとフレキシブル基板4との間に適宜介在される緩衝材は、シート状の弾性材からなり、例えばシリコンラバーが用いられる。   The heat pressing surface 20a in contact with the flexible substrate 4 of the thermocompression bonding tool 20 is flattened, and the buffer material appropriately interposed between the heat pressing surface 20a and the flexible substrate 4 is made of a sheet-like elastic material. For example, silicon rubber is used.

[接続構造体の製造工程]
次いで、流動性の高い第1のバインダー樹脂15aと流動性の低い第2のバインダー樹脂15bを積層させた異方性導電フィルム3を用いた場合を例に、接続構造体の製造工程について説明する。先ず、ステージ上に基板2を載置し、FOB実装部5上に異方性導電フィルム3を低温低圧で押圧することにより仮貼りする。このとき、異方性導電フィルム3は、流動性の低い第2のバインダー樹脂15bが設けられた第2の面3bをFOB実装部5側に向けて載置され、また、ベースフィルム17は剥離される。次いで、流動性の高い第1のバインダー樹脂15aが設けられた第1の面3aにフレキシブル基板2を配置する。このとき、フレキシブル基板4は、接続端子7と基板2の電極端子6とのアライメントを行う。
[Manufacturing process of connection structure]
Next, the manufacturing process of the connection structure will be described by taking as an example the case where the anisotropic conductive film 3 in which the first binder resin 15a having high fluidity and the second binder resin 15b having low fluidity are laminated is used. . First, the substrate 2 is placed on the stage, and the anisotropic conductive film 3 is temporarily pasted onto the FOB mounting portion 5 by pressing at a low temperature and low pressure. At this time, the anisotropic conductive film 3 is placed with the second surface 3b provided with the second binder resin 15b having low fluidity facing the FOB mounting portion 5 side, and the base film 17 is peeled off. Is done. Next, the flexible substrate 2 is disposed on the first surface 3a on which the first binder resin 15a having high fluidity is provided. At this time, the flexible substrate 4 performs alignment between the connection terminal 7 and the electrode terminal 6 of the substrate 2.

次いで、バインダー樹脂層15を硬化させる所定の温度に加熱された熱圧着ツール20を、FOB実装部5に所定の圧力で押圧する。これにより、異方性導電フィルム3は、熱圧着ツール20によってフレキシブル基板4を介して第1の面3a側から熱加圧され。バインダー樹脂15は流動性を示し、フレキシブル基板4の接続端子7と基板2の電極端子6との間から流出する。   Next, the thermocompression bonding tool 20 heated to a predetermined temperature for curing the binder resin layer 15 is pressed against the FOB mounting portion 5 with a predetermined pressure. Thereby, the anisotropic conductive film 3 is heat-pressed from the 1st surface 3a side via the flexible substrate 4 with the thermocompression-bonding tool 20. The binder resin 15 exhibits fluidity and flows out from between the connection terminal 7 of the flexible substrate 4 and the electrode terminal 6 of the substrate 2.

このとき、異方性導電フィルム3は、図6に示すように、流動性の高い第1のバインダー樹脂15aが第2のバインダー樹脂15b上を押圧領域21の外縁部21cまで流動した後に第2のバインダー樹脂15bが流動を開始することで、第1、第2のバインダー樹脂15a、15bが共に押圧領域21の外縁部21cにおいて硬化し、図4に示すように、基板2及びフレキシブル基板4の両面にわたる大きなフィレット23を形成する。   At this time, as shown in FIG. 6, the anisotropic conductive film 3 has a second fluid after the first binder resin 15 a having high fluidity flows on the second binder resin 15 b to the outer edge portion 21 c of the pressing region 21. When the binder resin 15b starts to flow, both the first and second binder resins 15a and 15b are cured at the outer edge portion 21c of the pressing area 21, and as shown in FIG. A large fillet 23 is formed across both sides.

また、第1の面3a側の第1のバインダー樹脂15aが硬化し始める前に、第2の面3b側の第2のバインダー樹脂15bが流動を開始することにより、第1のバインダー樹脂15aによってバインダー樹脂15bの流動が抑制されることなく、熱圧着ツール20によって押し込むことができる。したがって、導電性粒子16を電極端子6と接続端子7とで挟持でき、この状態で熱圧着ツール20によって加熱されたバインダー樹脂15が硬化することにより、良好な導通性を確保することができる。電極端子6及び接続端子7の間にない導電性粒子16は、バインダー樹脂15に分散されており、電気的に絶縁した状態を維持している。これにより、フレキシブル基板4の接続端子7と基板2の電極端子6との間のみで電気的導通が図られる。   Also, before the first binder resin 15a on the first surface 3a side begins to harden, the second binder resin 15b on the second surface 3b side starts to flow, so that the first binder resin 15a It can be pushed in by the thermocompression bonding tool 20 without the flow of the binder resin 15b being suppressed. Therefore, the conductive particles 16 can be sandwiched between the electrode terminals 6 and the connection terminals 7, and in this state, the binder resin 15 heated by the thermocompression bonding tool 20 is cured, so that good conductivity can be ensured. The conductive particles 16 that are not between the electrode terminal 6 and the connection terminal 7 are dispersed in the binder resin 15 and maintain an electrically insulated state. Thereby, electrical conduction is achieved only between the connection terminal 7 of the flexible substrate 4 and the electrode terminal 6 of the substrate 2.

これにより、異方性導電フィルム3を介して基板2とフレキシブル基板4とが接合された接続構造体1を形成することができる。   Thereby, the connection structure 1 by which the board | substrate 2 and the flexible substrate 4 were joined via the anisotropic conductive film 3 can be formed.

次いで、本発明の実施例について説明する。本実施例では、バインダー樹脂として、最低溶融粘度の到達温度が相対的に低い第1のバインダー樹脂と、最低溶融粘度の到達温度が相対的に高い第2のバインダー樹脂とを積層することにより厚み方向で異なる流動性を備える異方性導電フィルムを用いて接続構造体を形成し、導通抵抗及び接合強度を測定、評価した。異方性導電フィルムのサンプルは、表裏面での最低溶融粘度の到達温度の差が約10℃刻みになるように作成した。   Next, examples of the present invention will be described. In this embodiment, as the binder resin, a thickness is obtained by laminating a first binder resin having a relatively low minimum melt viscosity reaching temperature and a second binder resin having a relatively low minimum melt viscosity reaching temperature. A connection structure was formed using anisotropic conductive films having different fluidity in directions, and conduction resistance and bonding strength were measured and evaluated. Samples of the anisotropic conductive film were prepared so that the difference in the reached temperature of the lowest melt viscosity on the front and back surfaces was about 10 ° C.

実施例及び比較例に係る接続構造体は、異方性導電フィルムを介してガラス基板にフレキシブル基板が接合された接合体である。ガラス基板は、厚さ0.7mmで、全面にITOコーティングを施した。フレキシブル基板は、厚さ38μmのポリイミド基板の一面に、厚さ8μmのCu配線が、50μmピッチ(L/S=50μm/50μm)で形成されている。   The connection structures according to Examples and Comparative Examples are joined bodies in which a flexible substrate is joined to a glass substrate via an anisotropic conductive film. The glass substrate had a thickness of 0.7 mm and was coated with ITO on the entire surface. In the flexible substrate, Cu wiring having a thickness of 8 μm is formed on one surface of a polyimide substrate having a thickness of 38 μm at a pitch of 50 μm (L / S = 50 μm / 50 μm).

[実施例1]
フェノキシ樹脂(YP50;東都化成株式会社製)70部と、ラジカル重合性樹脂(EB−600;ダイセルサイテック株式会社製)30部と、反応開始剤(パーヘキサC;日本油脂株式会社製)5部とで構成された、厚さ10μmの第1のバインダー樹脂層Aを作成した。
[Example 1]
70 parts of phenoxy resin (YP50; manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), 30 parts of radical polymerizable resin (EB-600; manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.), 5 parts of reaction initiator (Perhexa C; manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) A first binder resin layer A having a thickness of 10 μm was prepared.

フェノキシ樹脂(YP50;東都化成株式会社製)70部と、ラジカル重合性樹脂(EB−600;ダイセルサイテック株式会社製)30部とで構成された樹脂組成物中に、平均粒径5μmの導電性粒子(AUL705;積水化学工業株式会社製)を分散させた。この樹脂組成物中に、反応開始剤(パーヘキサC;日本油脂株式会社製)2部と、シランカップリング剤(KBE−503;信越化学工業株式会社製)2部を添加し、厚さ10μmの第2のバインダー樹脂層Aを作成した。   In a resin composition composed of 70 parts of a phenoxy resin (YP50; manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) and 30 parts of a radical polymerizable resin (EB-600; manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.), a conductive material having an average particle diameter of 5 μm Particles (AUL705; manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) were dispersed. In this resin composition, 2 parts of a reaction initiator (Perhexa C; manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) and 2 parts of a silane coupling agent (KBE-503; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) are added, and the thickness is 10 μm. A second binder resin layer A was created.

次いで、第1のバインダー樹脂層Aと、第2のバインダー樹脂層Aを貼り合わせ、厚さ20μmのバインダー樹脂層を有する異方性導電フィルムを作成した。   Subsequently, the 1st binder resin layer A and the 2nd binder resin layer A were bonded together, and the anisotropic conductive film which has a 20-micrometer-thick binder resin layer was created.

また、第1のバインダー樹脂層Aと第2のバインダー樹脂層Aの最低溶融粘度の到達温度を測定した。具体的に、各バインダー樹脂層を500μmの厚みになるように重ねあわせ、溶融粘度計(HAAKE Rheostress RS−150;Thermo Fisher Scientific社製)を用いて、昇温温度10℃/min、周波数1Hz、測定温度範囲30〜180℃の条件で測定を行った。   Moreover, the reached temperature of the minimum melt viscosity of the 1st binder resin layer A and the 2nd binder resin layer A was measured. Specifically, each binder resin layer was overlaid so as to have a thickness of 500 μm, and using a melt viscometer (HAAKE Rheoless RS-150; manufactured by Thermo Fisher Scientific), the temperature rising temperature was 10 ° C./min, the frequency was 1 Hz, Measurement was performed under conditions of a measurement temperature range of 30 to 180 ° C.

その結果、第1のバインダー樹脂層Aの最低溶融粘度の到達温度は91℃、第2のバインダー樹脂層Aの最低溶融粘度の到達温度は110℃であった。第1のバインダー樹脂層Aと第2のバインダー樹脂層Aの最低溶融粘度の到達温度差は19℃である。また、実施例1に係るバインダー樹脂層全体の最低溶融粘度の到達温度は99℃であった。   As a result, the lowest melt viscosity reached temperature of the first binder resin layer A was 91 ° C., and the lowest melt viscosity reached temperature of the second binder resin layer A was 110 ° C. The temperature difference between the minimum melt viscosities of the first binder resin layer A and the second binder resin layer A is 19 ° C. Moreover, the ultimate temperature of the minimum melt viscosity of the whole binder resin layer according to Example 1 was 99 ° C.

[実施例2]
フェノキシ樹脂(YP50;東都化成株式会社製)70部と、ラジカル重合性樹脂(EB−600;ダイセルサイテック株式会社製)30部と、反応開始剤(パーヘキサC;日本油脂株式会社製)4部とで構成された、厚さ10μmの第1のバインダー樹脂層Bを作成した。
[Example 2]
70 parts of phenoxy resin (YP50; manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), 30 parts of radical polymerizable resin (EB-600; manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.), 4 parts of reaction initiator (Perhexa C; manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) A first binder resin layer B having a thickness of 10 μm was prepared.

次いで、第1のバインダー樹脂層Bと、第2のバインダー樹脂層Aを貼り合わせ、厚さ20μmのバインダー樹脂層を有する異方性導電フィルムを作成した。   Subsequently, the 1st binder resin layer B and the 2nd binder resin layer A were bonded together, and the anisotropic conductive film which has a 20-micrometer-thick binder resin layer was created.

また、実施例1と同様に、第1のバインダー樹脂層Bの最低溶融粘度の到達温度を測定したところ、99℃であった。第1のバインダー樹脂層Bと第2のバインダー樹脂層Aの最低溶融粘度の到達温度差は11℃である。また、実施例2に係るバインダー樹脂層全体の最低溶融粘度の到達温度は104℃であった。   Further, as in Example 1, the temperature at which the lowest melt viscosity of the first binder resin layer B was reached was 99 ° C. The temperature difference between the minimum melt viscosities of the first binder resin layer B and the second binder resin layer A is 11 ° C. Moreover, the ultimate temperature of the minimum melt viscosity of the whole binder resin layer according to Example 2 was 104 ° C.

[実施例3]
フェノキシ樹脂(YP50;東都化成株式会社製)70部と、ラジカル重合性樹脂(EB−600;ダイセルサイテック株式会社製)30部と、反応開始剤(パーヘキサC;日本油脂株式会社製)6部とで構成された、厚さ10μmの第1のバインダー樹脂層Cを作成した。
[Example 3]
70 parts of phenoxy resin (YP50; manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), 30 parts of radical polymerizable resin (EB-600; manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.), 6 parts of reaction initiator (Perhexa C; manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) A first binder resin layer C having a thickness of 10 μm was prepared.

次いで、第1のバインダー樹脂層Cと、第2のバインダー樹脂層Aを貼り合わせ、厚さ20μmのバインダー樹脂層を有する異方性導電フィルムを作成した。   Subsequently, the 1st binder resin layer C and the 2nd binder resin layer A were bonded together, and the anisotropic conductive film which has a 20-micrometer-thick binder resin layer was created.

また、実施例1と同様に、第1のバインダー樹脂層Cの最低溶融粘度の到達温度を測定したところ、82℃であった。第1のバインダー樹脂層Cと第2のバインダー樹脂層Aの最低溶融粘度の到達温度差は28℃である。また、実施例3に係るバインダー樹脂層全体の最低溶融粘度の到達温度は93℃であった。   Further, as in Example 1, the temperature at which the lowest melt viscosity of the first binder resin layer C was measured was 82 ° C. The temperature difference between the minimum melt viscosities of the first binder resin layer C and the second binder resin layer A is 28 ° C. Moreover, the ultimate temperature of the minimum melt viscosity of the whole binder resin layer according to Example 3 was 93 ° C.

[比較例1]
フェノキシ樹脂(YP50;東都化成株式会社製)70部と、ラジカル重合性樹脂(EB−600;ダイセルサイテック株式会社製)30部と、反応開始剤(パーヘキサC;日本油脂株式会社製)2部とで構成された、厚さ10μmの第1のバインダー樹脂層Dを作成した。
[Comparative Example 1]
70 parts of phenoxy resin (YP50; manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), 30 parts of radical polymerizable resin (EB-600; manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.), 2 parts of reaction initiator (Perhexa C; manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) A first binder resin layer D having a thickness of 10 μm was prepared.

次いで、第1のバインダー樹脂層Dと、第2のバインダー樹脂層Aを貼り合わせ、厚さ20μmのバインダー樹脂層を有する異方性導電フィルムを作成した。   Subsequently, the 1st binder resin layer D and the 2nd binder resin layer A were bonded together, and the anisotropic conductive film which has a 20-micrometer-thick binder resin layer was created.

また、実施例1と同様に、第1のバインダー樹脂層Dの最低溶融粘度の到達温度を測定したところ、108℃であった。第1のバインダー樹脂層Dと第2のバインダー樹脂層Aの最低溶融粘度の到達温度差は2℃である。また、比較例1に係るバインダー樹脂層全体の最低溶融粘度の到達温度は108℃であった。   Further, as in Example 1, the temperature at which the lowest melt viscosity of the first binder resin layer D was reached was measured and found to be 108 ° C. The temperature difference between the minimum melt viscosities of the first binder resin layer D and the second binder resin layer A is 2 ° C. Moreover, the ultimate temperature of the minimum melt viscosity of the whole binder resin layer according to Comparative Example 1 was 108 ° C.

[比較例2]
フェノキシ樹脂(YP50;東都化成株式会社製)70部と、ラジカル重合性樹脂(EB−600;ダイセルサイテック株式会社製)30部と、反応開始剤(パーヘキサC;日本油脂株式会社製)8部とで構成された、厚さ10μmの第1のバインダー樹脂層Eを作成した。
[Comparative Example 2]
70 parts of phenoxy resin (YP50; manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), 30 parts of radical polymerizable resin (EB-600; manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.), 8 parts of reaction initiator (Perhexa C; manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) A first binder resin layer E having a thickness of 10 μm was prepared.

次いで、第1のバインダー樹脂層Eと、第2のバインダー樹脂層Aを貼り合わせ、厚さ20μmのバインダー樹脂層を有する異方性導電フィルムを作成した。   Subsequently, the 1st binder resin layer E and the 2nd binder resin layer A were bonded together, and the anisotropic conductive film which has a 20-micrometer-thick binder resin layer was created.

また、実施例1と同様に、第1のバインダー樹脂層Eの最低溶融粘度の到達温度を測定したところ、72℃であった。第1のバインダー樹脂層Eと第2のバインダー樹脂層Aの最低溶融粘度の到達温度差は38℃である。また、比較例2に係るバインダー樹脂層全体の最低溶融粘度の到達温度は89℃であった。   Further, as in Example 1, the temperature at which the lowest melt viscosity of the first binder resin layer E was measured was 72 ° C. The ultimate temperature difference between the minimum melt viscosities of the first binder resin layer E and the second binder resin layer A is 38 ° C. Moreover, the ultimate temperature of the minimum melt viscosity of the whole binder resin layer according to Comparative Example 2 was 89 ° C.

[参考例]
参考例として、厚さ20μmの第2のバインダー樹脂層A単層からなる異方性導電フィルムを作成した。
[Reference example]
As a reference example, an anisotropic conductive film composed of a second binder resin layer A single layer having a thickness of 20 μm was prepared.

これら実施例1〜3、比較例1、2及び参考例に係る異方性導電フィルムを幅1.5mmにカットし、上述したガラス基板上に載置し、熱加圧面の幅1.5mmの仮圧着ツールにて、緩衝材として150μm厚のテフロン(登録商標)を介して、70℃‐1MPa‐1secの条件で仮圧着した。このとき、実施例1〜3、比較例1、2に係る異方性導電フィルムは、第1のバインダー樹脂層を仮圧着ツール側に向けたサンプルと、第2のバインダー樹脂層を仮圧着ツール側に向けたサンプルの2種類を用意した。   The anisotropic conductive films according to Examples 1 to 3, Comparative Examples 1 and 2 and Reference Example were cut to a width of 1.5 mm, placed on the glass substrate described above, and the heat pressing surface having a width of 1.5 mm. Using a temporary pressure bonding tool, temporary pressure bonding was performed under conditions of 70 ° C.-1 MPa-1 sec through 150 μm thick Teflon (registered trademark) as a buffer material. At this time, the anisotropic conductive films according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 are a sample in which the first binder resin layer faces the temporary pressure bonding tool side, and the second binder resin layer is a temporary pressure bonding tool. Two types of samples facing the side were prepared.

次いで、上述したフレキシブル基板を各異方性導電フィルム上に載置し、フレキシブル基板の上から、同仮圧着ツールにて、80℃‐0.5MPa‐0.5secの条件で仮圧着した。最後に、熱加圧面の幅1.5mmの熱圧着ツールにて、190℃‐2MPa‐10secの条件で本圧着し、接続構造体を得た。   Subsequently, the flexible substrate mentioned above was mounted on each anisotropic conductive film, and was temporarily crimped | bonded on the conditions of 80 degreeC-0.5MPa-0.5sec with the same temporary crimping tool from on the flexible substrate. Finally, a final pressure bonding was performed with a thermocompression bonding tool having a heat pressing surface width of 1.5 mm under the condition of 190 ° C.−2 MPa−10 sec to obtain a connection structure.

得られた各接続構造体について、導通抵抗、及び接着強度の測定を行った。導通抵抗は、いわゆる4端子法を用いて、1mAの電流を流した時の接続抵抗値を測定した。2.0Ω未満であれば実用上問題はない。接着強度は、引っ張り試験機(AND社製)を用い、測定速度50mm/secにてフレキシブル基板を90°方向に引き上げた時の接着強度を測定した。6.0N/cm以上であれば実用上問題はない。   About each obtained connection structure, the conduction resistance and the adhesive strength were measured. As for the conduction resistance, the connection resistance value when a current of 1 mA was passed was measured using a so-called four-terminal method. If it is less than 2.0Ω, there is no practical problem. The adhesive strength was measured by using a tensile tester (manufactured by AND) and measuring the adhesive strength when the flexible substrate was pulled up in the 90 ° direction at a measurement speed of 50 mm / sec. If it is 6.0 N / cm or more, there is no practical problem.

また、各接続構造体について、熱圧着ツールの押圧領域及びその周辺におけるバインダー樹脂の厚みと導電性粒子の体積数密度を測定した。測定箇所は、押圧領域の中央部a、内縁部b、外縁部cに加え、押圧領域外におけるバインダー樹脂の流出領域の端部d、及び押圧領域内におけるフレキシブル基板の長手方向の端部と電極との間の領域eとした(図3参照)。導電性粒子の体積は、200×200μmのエリアにおける厚みと、導電性粒子数をカウントして算出した。   Moreover, about each connection structure, the thickness of binder resin in the press area | region of the thermocompression-bonding tool and its periphery and the volume number density of electroconductive particle were measured. In addition to the central portion a, the inner edge b, and the outer edge c of the pressing area, the measurement locations are the end d of the binder resin outflow area outside the pressing area, and the longitudinal end of the flexible substrate and the electrode in the pressing area. It was set as the area | region e between (refer FIG. 3). The volume of the conductive particles was calculated by counting the thickness in the area of 200 × 200 μm and the number of conductive particles.

また、各接続構造体について、各測定箇所におけるバインダー樹脂の厚みより、バインダー樹脂の流動性を求めた。バインダー樹脂の流動性は、接続端子間領域におけるフレキシブル基板の幅方向(a〜d方向)、及び押圧領域内におけるフレキシブル基板の長手方向(a〜e方向)について求めた。さらに、各接続構造体について、バインダー樹脂の、熱圧着ツールの押圧領域外への最大流動幅を測定した。   Moreover, about each connection structure, the fluidity | liquidity of binder resin was calculated | required from the thickness of binder resin in each measurement location. The fluidity of the binder resin was determined in the width direction (a to d direction) of the flexible substrate in the region between the connection terminals and the longitudinal direction (a to e direction) of the flexible substrate in the pressing region. Furthermore, the maximum flow width of the binder resin to the outside of the pressing region of the thermocompression bonding tool was measured for each connection structure.

表1に示すように、実施例1〜3に係る異方性導電フィルムにおいては、流動性の高い第1のバインダー樹脂側を熱圧着ツールで熱加圧することにより、いずれも7.6N/cm以上と高い接着強度を有し、また、導通抵抗値も1.5Ω以下と低く、良好な結果となった。   As shown in Table 1, in the anisotropic conductive films according to Examples 1 to 3, both are 7.6 N / cm by hot pressing the first binder resin side having high fluidity with a thermocompression bonding tool. The adhesive strength was high as described above, and the conduction resistance value was as low as 1.5Ω or less, which was a favorable result.

これは、実施例1〜3では、ガラス基板とフレキシブル基板とが接続された後の、並列する端子間領域において、押圧領域の中央部a、内縁部b、外縁部c、押圧領域外におけるバインダー樹脂の流出領域の端部dでの導電性粒子の密度分布がc>a>b>dとなることによる。すなわち、押圧領域の外縁部cにおいて導電性粒子の密度が高くなることから、実施例1〜3では、押圧領域の外縁部cにより多くのバインダー樹脂が流動し、硬化されていることが分かる。そして、押圧領域の外縁部cに流動したバインダー樹脂によって、ガラス基板とフレキシブル基板との間に亘ってフィレットが形成される(図4参照)。これにより、実施例1〜3に係る異方性導電フィルムは、ガラス基板とフレキシブル基板とを強固に接合することができる。   In Examples 1 to 3, in the inter-terminal region in parallel after the glass substrate and the flexible substrate are connected, the central portion a of the pressing region, the inner edge portion b, the outer edge portion c, and the binder outside the pressing region. This is because the density distribution of the conductive particles at the end d of the resin outflow region is c> a> b> d. That is, since the density of the conductive particles is increased in the outer edge portion c of the pressing region, it can be seen that in Examples 1 to 3, more binder resin flows and is cured in the outer edge portion c of the pressing region. And a fillet is formed between a glass substrate and a flexible substrate with the binder resin which flowed to the outer edge part c of a press area | region (refer FIG. 4). Thereby, the anisotropic conductive film which concerns on Examples 1-3 can join a glass substrate and a flexible substrate firmly.

また、このような導電性粒子の密度分布を備えることにより、実施例1〜3に係る異方性導電フィルムは、バインダー樹脂がフレキシブル基板の端子上から適度に流出されていることから、熱圧着ツールによる押し込みによって導電性粒子をITO膜との間で確実に挟持することができ、低い導通抵抗を実現することができた。   Further, by providing such a density distribution of conductive particles, the anisotropic conductive films according to Examples 1 to 3 are thermocompression-bonded because the binder resin is appropriately discharged from the terminals of the flexible substrate. The conductive particles can be securely sandwiched between the ITO films by pressing with a tool, and a low conduction resistance can be realized.

さらに、実施例1〜3に係る異方性導電フィルムは、押圧領域の外縁部cにおいてガラス基板とフレキシブル基板との間に亘る大径のフィレットが形成されることから、押圧領域の外縁部cにおけるバインダー樹脂の厚みが、押圧領域の内縁部b及び中央部aにおけるバインダー樹脂の厚みよりも厚くなっている。また、フィレット周辺領域での導電性粒子分布にも偏りがあることがわかる。   Further, since the anisotropic conductive films according to Examples 1 to 3 have a large-diameter fillet extending between the glass substrate and the flexible substrate at the outer edge c of the pressing area, the outer edge c of the pressing area is formed. The thickness of the binder resin in is larger than the thickness of the binder resin in the inner edge portion b and the central portion a of the pressing area. It can also be seen that there is a bias in the distribution of conductive particles in the fillet peripheral region.

実施例1〜3において、このようなバインダー樹脂の流動性を示したのは、第1のバインダー樹脂と第2のバインダー樹脂との最低溶融粘度の到達温度差が10℃〜30℃の範囲内とすることにより、表裏面での流動性を最適な設定にしている。このことから、厚み方向において、バインダー樹脂層の第1の面から第2の面にかけて最適な流動性を備えていることになる。   In Examples 1 to 3, the fluidity of such a binder resin was shown to be within the range where the ultimate temperature difference in minimum melt viscosity between the first binder resin and the second binder resin was 10 ° C to 30 ° C. By doing so, the fluidity on the front and back surfaces is set to the optimum setting. From this, in the thickness direction, optimal fluidity is provided from the first surface to the second surface of the binder resin layer.

すなわち、実施例1〜3に係る異方性導電フィルムは、最低溶融粘度の到達温度差が10℃〜30℃であるため、流動性が相対的に高い第1のバインダー樹脂側から熱圧着ツールによって押圧されると、第1のバインダー樹脂が第2のバインダー樹脂上を流動して押圧領域の外縁部cまで流動した後に、第2のバインダー樹脂が流動を開始する(図6参照)。これにより、実施例1〜3に係る異方性導電フィルムは、第1、第2のバインダー樹脂が共に押圧領域の外縁部cにおいて厚く硬化し(15〜16μm)、ガラス基板及びフレキシブル基板の両面にわたる大きなフィレットを形成することができた。   That is, the anisotropic conductive films according to Examples 1 to 3 have a minimum melt viscosity reaching temperature difference of 10 ° C. to 30 ° C., and therefore the thermocompression bonding tool from the first binder resin side having relatively high fluidity. The first binder resin flows on the second binder resin and flows to the outer edge portion c of the pressing region, and then the second binder resin starts to flow (see FIG. 6). Thereby, as for the anisotropic conductive film which concerns on Examples 1-3, both 1st, 2nd binder resin hardens | cures thickly in the outer edge part c of a press area | region (15-16 micrometers), and both surfaces of a glass substrate and a flexible substrate Large fillets could be formed.

また、実施例1〜3に係る異方性導電フィルムでは、第1のバインダー樹脂が硬化し始める前に、第2のバインダー樹脂が流動を開始することにより、第1のバインダー樹脂によって第2のバインダー樹脂の流動が抑制されることなく、熱圧着ツールによって押し込むことができ、導通性を確保することができた。   Further, in the anisotropic conductive films according to Examples 1 to 3, the second binder resin starts to flow before the first binder resin starts to cure, so that the second binder resin causes the second binder resin to start to flow. The flow of the binder resin was not suppressed, and it could be pushed in by the thermocompression bonding tool, and the electrical conductivity could be ensured.

なお、実施例1〜3に係る異方性導電フィルムにおいて、流動性の低い第2のバインダー樹脂側から熱加圧を行うと、ガラス基板側にバインダー樹脂が偏って流動し、フレキシブル基板側に亘るフィレットが形成されず、接着強度は下がり、その差は1.7〜1.8倍強であった。比較例1,2においては1.1倍程度であることから、接着強度の差は1.2倍以上であることが好ましく、1.7倍以上がさらに好ましい。   In addition, in the anisotropic conductive films according to Examples 1 to 3, when the heat and pressure are applied from the second binder resin side having low fluidity, the binder resin is biased to flow toward the glass substrate side, and toward the flexible substrate side. No fillet was formed, the adhesive strength decreased, and the difference was a little more than 1.7 to 1.8 times. Since the comparative examples 1 and 2 are about 1.1 times, the difference in adhesive strength is preferably 1.2 times or more, and more preferably 1.7 times or more.

これに対し、最低溶融粘度の到達温度差が2℃である比較例1では、第1のバインダー樹脂と第2のバインダー樹脂との流動がほぼ同時に起き、第1、第2のバインダー樹脂が共に押圧領域の外縁部cにおいてガラス基板側に偏ったフィレットが形成された。このため、比較例1では、外縁部cにおけるバインダー樹脂の厚さも薄く(12μm)、ガラス基板とフレキシブル基板との間の接着強度が低下した。これは、第1のバインダー樹脂側から熱加圧を行う場合と(3.8N/cm)、第2のバインダー樹脂側から熱加圧を行う場合とで(4.0N/cm)、ほぼ同じ結果となった。以上のことから、表裏面で流動性の差を設けない場合では、効果が発現しないことが示される。   On the other hand, in Comparative Example 1 in which the temperature difference between the minimum melt viscosities is 2 ° C., the flow of the first binder resin and the second binder resin occurs almost simultaneously, and both the first and second binder resins A fillet biased toward the glass substrate was formed at the outer edge c of the pressing region. For this reason, in the comparative example 1, the thickness of the binder resin in the outer edge part c was also thin (12 micrometers), and the adhesive strength between a glass substrate and a flexible substrate fell. This is almost the same between the case where heat is pressed from the first binder resin side (3.8 N / cm) and the case where heat is pressed from the second binder resin side (4.0 N / cm). As a result. From the above, it is shown that the effect does not appear when there is no difference in fluidity between the front and back surfaces.

なお、比較例1では、第1、第2のバインダー樹脂が流動することから、熱圧着ツールによって押し込みは可能であり、導通抵抗は低い。これは、第2のバインダー樹脂単層からなる参考例においても同様の傾向がみられた。   In Comparative Example 1, since the first and second binder resins flow, they can be pushed in by a thermocompression bonding tool, and the conduction resistance is low. The same tendency was seen also in the reference example which consists of a 2nd binder resin single layer.

また、最低溶融粘度の到達温度差が38℃である比較例2では、第1のバインダー樹脂が第2のバインダー樹脂上を流動し第2のバインダー樹脂が流動する前に硬化してしまった。そのため、比較例2では、第2のバインダー樹脂の流動が妨げられることによりガラス基板側に偏ったフィレットが形成され、外縁部cにおけるバインダー樹脂の厚さも薄く(12μm)、ガラス基板とフレキシブル基板との間の接続強度が低下した。これは、第1のバインダー樹脂側から熱加圧を行う場合と(4.3N/cm)、第2のバインダー樹脂側から熱加圧を行う場合とで(4.8N/cm)、ほぼ同じ結果となった。   Further, in Comparative Example 2 in which the temperature difference in minimum melt viscosity reached 38 ° C., the first binder resin flowed on the second binder resin and cured before the second binder resin flowed. Therefore, in Comparative Example 2, a fillet that is biased toward the glass substrate is formed by preventing the flow of the second binder resin, the thickness of the binder resin at the outer edge c is thin (12 μm), and the glass substrate and the flexible substrate The connection strength between them decreased. This is almost the same between the case where heat is pressed from the first binder resin side (4.3 N / cm) and the case where heat is pressed from the second binder resin side (4.8 N / cm). As a result.

また、比較例2では、第2のバインダー樹脂の流動が妨げられるために、熱圧着ツールによる押し込みも不足し、フレキシブル基板の端子7とITO膜との間で導電性粒子を十分に挟持することができず、この状態でバインダー樹脂が硬化することにより、導通抵抗も高くなった(2.7Ω)。   Further, in Comparative Example 2, since the flow of the second binder resin is hindered, the pressing by the thermocompression bonding tool is insufficient, and the conductive particles are sufficiently sandwiched between the terminal 7 of the flexible substrate and the ITO film. In this state, the binder resin was cured, and the conduction resistance was increased (2.7Ω).

1 接続構造体、2 基板、3 異方性導電フィルム、3a 第1の面、3b 第2の面、4 フレキシブル基板、5 FOB実装部、6 電極端子、7 接続端子、8 カバーレイ、9 基板、9a 一面、10 配線パターン、11 端子間領域、15 バインダー樹脂、15a 第1のバインダー樹脂、15b 第2のバインダー樹脂、16 導電性粒子、17 ベースフィルム、18 巻取リール、19 ステージ、20 熱圧着ツール、20a 熱加圧面、21 押圧領域、21a 中央部、21b 内縁部、21c 外縁部、23 フィレット DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Connection structure, 2 board | substrate, 3 anisotropic conductive film, 3a 1st surface, 3b 2nd surface, 4 flexible substrate, 5 FOB mounting part, 6 electrode terminal, 7 connection terminal, 8 coverlay, 9 board | substrate 9a, 10 wiring pattern, 11 terminal area, 15 binder resin, 15a first binder resin, 15b second binder resin, 16 conductive particles, 17 base film, 18 take-up reel, 19 stage, 20 heat Crimping tool, 20a heat pressing surface, 21 pressing area, 21a center, 21b inner edge, 21c outer edge, 23 fillet

Claims (17)

フィラーが分散された接着剤層を有し、押圧されることにより接続対象物同士を接続する接続フィルムにおいて、
上記接着剤層は、厚み方向において流動性に差が設けられ、
上記フィラーの体積密度分布が、押圧領域の外縁部におけるフィラー体積密度(c)、上記押圧領域の中央部におけるフィラー体積密度(a)、上記押圧領域の内縁部におけるフィラー体積密度(b)としたときに、
c>a>b
となるように流動性が設計された接続フィルム。
In the connection film that has the adhesive layer in which the filler is dispersed and connects the objects to be connected by being pressed,
The adhesive layer is provided with a difference in fluidity in the thickness direction,
The filler volume density distribution was the filler volume density (c) at the outer edge of the pressing area, the filler volume density (a) at the center of the pressing area, and the filler volume density (b) at the inner edge of the pressing area. sometimes,
c>a> b
A connection film that is designed to have fluidity.
上記押圧領域外におけるバインダー樹脂の流出領域の端部におけるフィラー体積密度(d)としたときに、
c>a>b>d
となるように流動性が設計された請求項1に記載の接続フィルム。
When the filler volume density (d) at the end of the binder resin outflow region outside the pressing region,
c>a>b> d
The connection film according to claim 1, wherein the fluidity is designed so that
上記接着剤層は、第1の面から第2の面にかけて流動性が低くなる勾配が設けられている請求項1又は2に記載の接続フィルム。   The connection film according to claim 1, wherein the adhesive layer is provided with a gradient in which fluidity decreases from the first surface to the second surface. 上記接着剤層は、上記第1の面から上記第2の面にかけて最低溶融粘度の到達温度が高くなる請求項3記載の接続フィルム。   The connection film according to claim 3, wherein the adhesive layer has a minimum melt viscosity reaching temperature from the first surface to the second surface. 上記最低溶融粘度の到達温度の差は10℃〜30℃である請求項4記載の接続フィルム。   The connection film according to claim 4, wherein the difference in the ultimate temperature of the minimum melt viscosity is 10 ° C. to 30 ° C. 6. 上記接着剤層の第1の面を押圧したとき、上記押圧領域の外縁部における上記接着剤層の厚みが、上記押圧領域の内縁部及び中央部における上記接着剤層の厚みよりも厚い請求項1〜5のいずれか1項に記載の接続フィルム。   When the first surface of the adhesive layer is pressed, the thickness of the adhesive layer at the outer edge portion of the pressing region is thicker than the thickness of the adhesive layer at the inner edge portion and the central portion of the pressing region. The connection film according to any one of 1 to 5. 上記フィラーは、導電性粒子である請求項1〜6のいずれか1項に記載の接続フィルム。   The connection film according to claim 1, wherein the filler is conductive particles. 上記接着剤層の第1の面を押圧したときの接着強度が、上記接着剤層の上記第1の面と反対側の第2の面を押圧したときの接着強度よりも高い請求項1〜7のいずれか1項に記載の接続フィルム。   The adhesive strength when pressing the first surface of the adhesive layer is higher than the adhesive strength when pressing the second surface opposite to the first surface of the adhesive layer. 8. The connection film according to any one of 7 above. 上記接着剤層の第1の面を押圧したときの接着強度が、上記接着剤層の上記第1の面と反対側の第2の面を押圧したときの接着強度よりも、1.2倍以上高い請求項8に記載の接続フィルム。   The adhesive strength when pressing the first surface of the adhesive layer is 1.2 times the adhesive strength when pressing the second surface opposite to the first surface of the adhesive layer. The connection film according to claim 8, which is higher than the above. フィラーが分散された接着剤層を有し、押圧されることにより接続対象物同士を接続する接続フィルムの製造方法において、
上記接着剤層は、厚み方向において流動性に差が設けられ、
上記フィラーの体積密度分布が、押圧領域の外縁部におけるフィラー体積密度(c)、上記押圧領域の中央部におけるフィラー体積密度(a)、上記押圧領域の内縁部におけるフィラー体積密度(b)としたときに、
c>a>b
となるように流動性が設計された接続フィルムの製造方法。
In the method of manufacturing a connection film having an adhesive layer in which a filler is dispersed and connecting objects to be connected by being pressed,
The adhesive layer is provided with a difference in fluidity in the thickness direction,
The filler volume density distribution was the filler volume density (c) at the outer edge of the pressing area, the filler volume density (a) at the center of the pressing area, and the filler volume density (b) at the inner edge of the pressing area. sometimes,
c>a> b
A method for producing a connecting film whose fluidity is designed to be
上記接着剤層は、1層よりなり、表裏面で流動性が異なるように調整される請求項10に記載の接続フィルムの製造方法。   The said adhesive bond layer consists of one layer, The manufacturing method of the connection film of Claim 10 adjusted so that fluidity | liquidity may differ on front and back. 接続対象物の間に、フィラーが分散された接着剤層を有する接続フィルムを挟持し、押圧されることにより、上記接続フィルムを介して接続された接続構造体において、
接続後の上記接続対象物の上記フィラーの体積密度分布が、押圧領域の外縁部におけるフィラー体積密度(c)、上記押圧領域の中央部におけるフィラー体積密度(a)、上記押圧領域の内縁部におけるフィラー体積密度(b)としたときに、
c>a>b
となる接続構造体。
In the connection structure connected via the connection film, the connection film having the adhesive layer in which the filler is dispersed is sandwiched and pressed between the connection objects.
The volume density distribution of the filler of the connection object after connection is such that the filler volume density (c) at the outer edge of the pressing area, the filler volume density (a) at the center of the pressing area, and the inner edge of the pressing area. When the filler volume density (b) is assumed,
c>a> b
Connection structure that becomes.
フィラー体積密度(c)は、上記押圧領域の外縁部に形成されたフィレットにおけるフィラー体積密度である請求項12に記載の接続構造体。   The connection structure according to claim 12, wherein the filler volume density (c) is a filler volume density in a fillet formed at an outer edge portion of the pressing region. 接続対象物の間に、フィラーが分散された接着剤層を有する接続フィルムを挟持し、
上記接続フィルムを介して上記接続対象物を押圧して接続する工程を有し、
接続後の上記接続対象物の上記フィラーの体積密度分布が、押圧領域の外縁部におけるフィラー体積密度(c)、上記押圧領域の中央部におけるフィラー体積密度(a)、上記押圧領域の内縁部におけるフィラー体積密度(b)としたときに、
c>a>b
となる接続構造体の製造方法。
A connection film having an adhesive layer in which a filler is dispersed is sandwiched between objects to be connected,
Having a step of pressing and connecting the connection object through the connection film;
The volume density distribution of the filler of the connection object after connection is such that the filler volume density (c) at the outer edge of the pressing area, the filler volume density (a) at the center of the pressing area, and the inner edge of the pressing area. When the filler volume density (b) is assumed,
c>a> b
A manufacturing method of a connection structure.
フィラー体積密度(c)は、上記押圧領域の外縁部に形成されたフィレットにおけるフィラー体積密度である請求項14に記載の接続構造体の製造方法。   The method for manufacturing a connection structure according to claim 14, wherein the filler volume density (c) is a filler volume density in a fillet formed at an outer edge portion of the pressing region. 接続対象物の間に、フィラーが分散された接着剤層を有する接続フィルムを挟持し、
上記接続フィルムを介して上記接続対象物を押圧して接続する工程を有し、
接続後の上記接続対象物の上記フィラーの体積密度分布が、押圧領域の外縁部におけるフィラー体積密度(c)、上記押圧領域の中央部におけるフィラー体積密度(a)、上記押圧領域の内縁部におけるフィラー体積密度(b)としたときに、
c>a>b
となる接続方法。
A connection film having an adhesive layer in which a filler is dispersed is sandwiched between objects to be connected,
Having a step of pressing and connecting the connection object through the connection film;
The volume density distribution of the filler of the connection object after connection is such that the filler volume density (c) at the outer edge of the pressing area, the filler volume density (a) at the center of the pressing area, and the inner edge of the pressing area. When the filler volume density (b) is assumed,
c>a> b
Connection method that becomes.
フィラー体積密度(c)は、上記押圧領域の外縁部に形成されたフィレットにおけるフィラー体積密度である請求項16に記載の接続方法。   The connection method according to claim 16, wherein the filler volume density (c) is a filler volume density in a fillet formed at an outer edge portion of the pressing region.
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