JP2017191811A - 紫外線処理装置 - Google Patents
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Description
この光洗浄装置においては、被処理物Wであるナノインプリント用テンプレートは、当該被処理物Wの被処理領域WAが窓部材55に間隙を介して対向するよう図示しない保持部材によって保持されて配置される。
ナノインプリント用テンプレートの光洗浄処理においては、ナノインプリント用テンプレートのスタンプ部に光硬化性樹脂などのレジスト残渣が付着することから、このスタンプ部を被処理領域WAとしてこの領域のみに紫外線が照射することができればよい。従って、紫外線ランプ51からの紫外線が通過する窓部材55の当該ナノインプリント用テンプレートに対向する紫外線透過部55Aは、スタンプ部と略同一またはナノインプリント用テンプレートの外形と略同一の形状に形成される。
なお、図4において、58はガス流路部材であり、59はガス流通路である。
平板状の被処理物の下面に接して当該被処理物を支持する保持部材と、
前記被処理物の下面における被処理領域に紫外線を照射する紫外線照射口を有する支持台と、
前記紫外線照射口を覆う紫外線透過性窓部材とを備える紫外線処理装置であって、
前記紫外線透過性窓部材が周縁部を有し、当該周縁部が前記支持台と枠部材とに挟持されることにより紫外線透過性窓部材が当該支持台に固定され、
当該周縁部が前記被処理物の被処理領域より外方に位置することを特徴とする。
前記周縁部以外の平面部を有し、当該平面部に設けられた、被処理物の被処理領域に対応する領域を包含する矩形の平面領域の一辺およびこれに連続する二辺に沿って、当該平面領域より突出した状態で伸びる平板部分と、
前記平面領域の前記一辺に沿って設けられた処理ガス供給口と、
前記平面領域の前記一辺と対向する他辺に、前記被処理物が載置されることにより形成される処理ガス排出口とを有することが好ましい。
図1は、本発明の紫外線処理装置の一例における構成を示す平面図、図2は、図1に示す紫外線処理装置のA−A線断面を、被処理物が載置された状態で示す断面図、図3は、図1に示す紫外線処理装置のB−B線断面を、被処理物が載置された状態で示す断面図である。
この紫外線処理装置は、例えばナノインプリント用テンプレートを被処理物Wとしてこれの表面を光洗浄処理するために用いられるものである。この紫外線処理装置においては、平板状の被処理物Wが、当該被処理物Wの被処理領域WAが平板状の紫外線透過性窓部材(以下、単に「窓部材」ともいう。)11と間隙を介して対向するよう配置されて光洗浄処理が行われる。
具体的には、窓部材11は、被処理物Wの被処理領域WAの直下に対応する領域を包含する略矩形の平面部(以下、「中央平面部」ともいう。)11Aと、当該中央平面部11Aよりも厚みが小さい周縁部11Bとを有する。そして、略矩形の開口25Hが形成された枠状の枠部材25によって、中央平面部11Aが枠部材25の開口25H内に当該開口25Hと接触しないよう嵌合された状態において、周縁部11Bが支持台22と枠部材25とに挟持されることにより、窓部材11が当該支持台22に固定されている。枠部材25と支持台22との間において窓部材11の周縁部11Bが介在されない部分には、金属の緩衝材27が介在されていてもよい。窓部材11を構成する中央平面部11Aおよび周縁部11Bのそれぞれ下面は連続した平面とされている。この紫外線処理装置において、枠部材25の上面と窓部材11の中央平面部11Aの上面とは、略同一平面上に位置されることが好ましい。
そして、本発明の紫外線処理装置においては、窓部材11の周縁部11Bが、被処理物Wの被処理領域WAより外方に位置されている。従って、窓部材11の中央平面部11Aの側周壁と枠部材25の内周壁との間に不可避的に形成される溝Gが、被処理物Wの被処理領域WAの直下に対応する領域には位置されずにこれより外方に位置される。
被処理領域WAと溝Gとの距離が45mm以上であることにより、当該溝Gに塵埃が溜まったとしても、被処理物Wの被処理領域WAの表面に塵埃が付着することを確実に抑制することができる。
なお、本実施例では、枠部材25における開口25Hの四隅に近接する角部の各々に保持部材23が設けられた構造を示しているが、被処理物Wの裏面(上面)を吸着部材で吸着して保持するよう構成されていてもよい。
また、枠部材25の材料としては、例えばSUSを用いることができる。
また、保持部材23の材料としては、例えばポリエーテルエーテルケトン樹脂(PEEK)などを用いることができる。
これにより、窓部材11の中央平面部11Aにおける被処理物Wの被処理領域WAの直下に対応する領域を包含するようガス流通路が位置される。
この窓部材11の対向する二辺には、被処理物Wを保持部材23上に載置させるよう当該被処理物Wを搬送する搬送つめに対応する形状の切り欠き11Cが2つずつ形成されている。また、窓部材11の中央平面部11Aの四隅には、被処理物Wを保持する保持部材23の形状に適合する形状の切り欠き11Dが形成されている。
また、平板土手部分14の表面と被処理物Wとの間に形成される間隙の大きさが0.3mm、矩形領域12と平板土手部分14の高さ(図3における上下方向の高さ)が0.7mm、平板土手部分14の縦土手部分14Xの幅(図1における左右方向の長さ)が15mm、横土手部分14Y,14Zの幅(図1における上下方向の長さ)がそれぞれ35mm、矩形領域12の幅(図1における上下方向の長さ)が70mmである。
この状態において、処理ガスが処理ガス供給口15から窓部材11と被処理物Wとの間に形成される被処理空間に供給されると、矩形領域12と被処理物Wとの距離が、平板土手部分14と被処理物Wとの距離よりも大きいので、当該処理ガスは、平板土手部分14と被処理物Wとの間隙から僅かずつ漏洩しながら、全体的には処理ガス排出口19に向かって安定的に流通する。平板土手部分14と被処理物Wとの間隙から処理ガスが僅かずつ漏洩することによって外部からのガスに対する流れ抵抗が生じ、外部のガスの被処理空間への流入が抑制される。そして、この状態で、紫外線ランプ30を点灯させることにより、紫外線ランプ30からの紫外線が窓部材11を介して被処理空間および被処理物Wの被処理領域WAに照射され、これにより、当該被処理物Wの被処理領域WAの光洗浄処理が行われる。
また、被処理物Wに対する紫外線の照射時間は、例えば3〜3600秒間である。
例えば、本発明においては、処理ガス供給口15は、矩形領域12の一辺12xに沿って伸びるスリットから構成されていてもよい。
また例えば、本発明の紫外線処理装置の被処理物は、ナノインプリント用テンプレートに限定されず、紫外線照射処理が必要とされる種々のものに適用することができる。
図1に示される紫外線処理装置を作製した。紫外線処理装置の各寸法は以下の通りとした。これを紫外線処理装置〔1〕とする。
・支持台の大きさ:250mm×250mm
・紫外線照射口の大きさ:65mm×65mm
・窓部材の大きさ:165mm×165mm
・中央平面部の大きさ:155mm×155mm
・中央平面部の厚さ:5mm
・周縁部の厚さ:2mm
・枠部材の大きさ:250mm×250mm
・枠部材の開口の大きさ:157mm×157mm
(・被処理領域と窓部材の周縁部との距離:45mm)
・矩形領域からの平板土手部分の高さ:0.7mm
・縦土手部分の幅:15mm
・横土手部分の幅:35mm
・矩形領域の幅:70mm
・窓部材と被処理物との距離:1mm
・処理ガス種:CDA
・処理ガスの供給量:0.5L/min
・窓部材における紫外線照度:70mW/cm2
・紫外線の照射時間:600秒間
の光洗浄処理条件(処理ガスの供給条件および紫外線の照射条件)で被処理物(テンプレート)の光洗浄処理を行った後、溝に溜まった塵埃を収集し、その大きさ(最大径)と個数を測定した。結果を図5(a)のヒストグラムに示す。
実施例1に用いた紫外線処理装置において、窓部材に平板土手部分が形成されておらず、枠部材に平板土手部分が形成され、各寸法は以下の通りとした比較用の紫外線処理装置〔2〕を作製した。
・支持台の大きさ:250mm×250mm
・紫外線照射口の大きさ:65mm×65mm
・窓部材の大きさ:78mm×78mm
・中央平面部の大きさ:58mm×58mm
・中央平面部の厚さ:5mm
・周縁部の厚さ:2mm
・枠部材の大きさ:250mm×250mm
・枠部材の開口の大きさ:60mm×60mm
(・被処理領域と窓部材の周縁部との距離:1mm)
・窓部材からの平板土手部分の高さ:0.7mm
・縦土手部分の幅:15mm
・横土手部分の幅:35mm
・矩形領域の幅:70mm
・窓部材と被処理物との距離:1mm
これを用いて、上記の紫外線処理装置〔1〕と同様の光洗浄処理条件で被処理物(テンプレート)の光洗浄処理を行った後、溝に溜まった塵埃を収集し、その大きさ(最大径)と個数を測定した。結果を図5(b)のヒストグラムに示す。
11A 中央平面部
11B 周縁部
11C 切り欠き
11D 切り欠き
12 矩形領域
12v,12x,12y,12z 辺
14 平板土手部分
14X 縦土手部分
14Y,14Z 横土手部分
15 処理ガス供給口
19 処理ガス排出口
20 筺体
21 紫外線照射口
22 支持台
23 保持部材
23A 突起
25 枠部材
25A 切り欠き
25H 開口
27 緩衝材
30 紫外線ランプ
51 紫外線ランプ
55 窓部材
55A 紫外線透過部
55B 周縁部
56 筺体
56A 天板
57 枠部材
58 ガス流路部材
59 ガス流通路
G 溝
W 被処理物
WA 被処理領域
Claims (2)
- 紫外線を放射する紫外線ランプと、
平板状の被処理物の下面に接して当該被処理物を支持する保持部材と、
前記被処理物の下面における被処理領域に紫外線を照射する紫外線照射口を有する支持台と、
前記紫外線照射口を覆う紫外線透過性窓部材とを備える紫外線処理装置であって、
前記紫外線透過性窓部材が周縁部を有し、当該周縁部が前記支持台と枠部材とに挟持されることにより紫外線透過性窓部材が当該支持台に固定され、
当該周縁部が前記被処理物の被処理領域より外方に位置することを特徴とする紫外線処理装置。 - 前記紫外線透過性窓部材は、
前記周縁部以外の平面部を有し、当該平面部に設けられた、被処理物の被処理領域に対応する領域を包含する矩形の平面領域の一辺およびこれに連続する二辺に沿って、当該平面領域より突出した状態で伸びる平板部分と、
前記平面領域の前記一辺に沿って設けられた処理ガス供給口と、
前記平面領域の前記一辺と対向する他辺に、前記被処理物が載置されることにより形成される処理ガス排出口とを有することを特徴とする請求項1に記載の紫外線処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Country Status (1)
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Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0410622A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-14 | Tokyo Electron Ltd | ドライ洗浄装置 |
JPH04206723A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-28 | Hitachi Ltd | 表面処理装置 |
JP2011155160A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Ushio Inc | 光処理装置および光処理方法 |
JP2011245384A (ja) * | 2010-05-25 | 2011-12-08 | Ushio Inc | 光照射装置 |
JP2012049305A (ja) * | 2010-08-26 | 2012-03-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 真空紫外光処理装置 |
JP2012176339A (ja) * | 2011-02-25 | 2012-09-13 | Ushio Inc | 光処理装置 |
US20130160946A1 (en) * | 2005-04-26 | 2013-06-27 | Novellus Systems, Inc. | Purging of porogen from uv cure chamber |
JP2015126162A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-06 | ウシオ電機株式会社 | 光照射装置 |
JP2017050300A (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | ウシオ電機株式会社 | 紫外線処理装置 |
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0410622A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-14 | Tokyo Electron Ltd | ドライ洗浄装置 |
JPH04206723A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-28 | Hitachi Ltd | 表面処理装置 |
US20130160946A1 (en) * | 2005-04-26 | 2013-06-27 | Novellus Systems, Inc. | Purging of porogen from uv cure chamber |
JP2011155160A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Ushio Inc | 光処理装置および光処理方法 |
JP2011245384A (ja) * | 2010-05-25 | 2011-12-08 | Ushio Inc | 光照射装置 |
JP2012049305A (ja) * | 2010-08-26 | 2012-03-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 真空紫外光処理装置 |
JP2012176339A (ja) * | 2011-02-25 | 2012-09-13 | Ushio Inc | 光処理装置 |
JP2015126162A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-06 | ウシオ電機株式会社 | 光照射装置 |
JP2017050300A (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | ウシオ電機株式会社 | 紫外線処理装置 |
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