JPH04206723A - 表面処理装置 - Google Patents
表面処理装置Info
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- JPH04206723A JPH04206723A JP33711290A JP33711290A JPH04206723A JP H04206723 A JPH04206723 A JP H04206723A JP 33711290 A JP33711290 A JP 33711290A JP 33711290 A JP33711290 A JP 33711290A JP H04206723 A JPH04206723 A JP H04206723A
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- JP
- Japan
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- lamp house
- nozzle plate
- reaction gas
- quartz nozzle
- plate
- Prior art date
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- Pending
Links
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Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、半導体などの固体表面に紫外線と反応ガスを
供給して表面反応させ、アッシング、エツチング、皮膜
形成、洗浄などを行う表面処理装置に関するものである
。
供給して表面反応させ、アッシング、エツチング、皮膜
形成、洗浄などを行う表面処理装置に関するものである
。
従来、オゾンを含む反応ガスと紫外線とを用いる表面処
理装置における反応処理室へのオゾンを含む反応ガス供
給部の構造は次のようになっていた。
理装置における反応処理室へのオゾンを含む反応ガス供
給部の構造は次のようになっていた。
反応処理室へオゾンを含む反応ガスを供給するノズルは
紫外線透過用石英窓と一体構造で、ランプハウス下板の
周囲に設けた切欠き溝穴に嵌め込んで取り付けられてい
る。反応ガスを供給するノズルはランプハウス上板より
上面で反応ガス供給チューブと接続されている。ランプ
ハウス内には、紫外線ランプが収容され、反応処理室本
体に載せられている。石英ノズル板の下側には、被処理
物を載せるステージが近接対向して設置されている。
紫外線透過用石英窓と一体構造で、ランプハウス下板の
周囲に設けた切欠き溝穴に嵌め込んで取り付けられてい
る。反応ガスを供給するノズルはランプハウス上板より
上面で反応ガス供給チューブと接続されている。ランプ
ハウス内には、紫外線ランプが収容され、反応処理室本
体に載せられている。石英ノズル板の下側には、被処理
物を載せるステージが近接対向して設置されている。
上記従来技術では、メンテナンス時等にランプハウスを
移動させる場合、反応ガス供給チューブからの無理な力
が直接、石英ノズル板に加わり破損する恐れが有るため
メンテナンスの度毎に、石英ノズル板と反応ガス供給チ
ューブを分離する必要が合った。また、石英ノズル板は
破損しやすい部品であるため、取り扱いが難しいものに
なっていた。このため保守コストがかさむという問題が
あった。
移動させる場合、反応ガス供給チューブからの無理な力
が直接、石英ノズル板に加わり破損する恐れが有るため
メンテナンスの度毎に、石英ノズル板と反応ガス供給チ
ューブを分離する必要が合った。また、石英ノズル板は
破損しやすい部品であるため、取り扱いが難しいものに
なっていた。このため保守コストがかさむという問題が
あった。
一方、ランプハウス内はランプを点灯し表面処理を行う
時と組立調整時の温度差が大きく、石英ノズル板とそれ
を取り付けているランプハウス下板の材質が異なるため
それぞれの熱膨張に差がでる。また、石英ノズル板は破
損しやすいので石英ノズル板をランプハウス下板に固定
する場合、石英ノズル板に無理な力が加わらないように
するために石英ノズル板とそれを固定する保持体との間
にある程度の隙間を設ける必要がある。このため、反応
ガス供給チューブからの力が直接、石英ノズル板に加わ
ると、石英ノズル板とランプハウス下板の固定精度が変
化する。石英ノズル板とランプハウス下板の固定精度は
、表面処理速度を左右するギャップ即ち石英ノズル板下
面と被処理物の間隙寸法に影響を与えるので重要な問題
であった。
時と組立調整時の温度差が大きく、石英ノズル板とそれ
を取り付けているランプハウス下板の材質が異なるため
それぞれの熱膨張に差がでる。また、石英ノズル板は破
損しやすいので石英ノズル板をランプハウス下板に固定
する場合、石英ノズル板に無理な力が加わらないように
するために石英ノズル板とそれを固定する保持体との間
にある程度の隙間を設ける必要がある。このため、反応
ガス供給チューブからの力が直接、石英ノズル板に加わ
ると、石英ノズル板とランプハウス下板の固定精度が変
化する。石英ノズル板とランプハウス下板の固定精度は
、表面処理速度を左右するギャップ即ち石英ノズル板下
面と被処理物の間隙寸法に影響を与えるので重要な問題
であった。
[課題を解決するための手段1
上記目的を達成するために、次の手段をもちいる。
表面処理装置の紫外線を透過し、且つオゾンを含有する
反応ガスを反応処理室に供給するノズルを備えた石英ノ
ズル板に反応ガスを供給する接続部をランプハウス上板
に固定する。
反応ガスを反応処理室に供給するノズルを備えた石英ノ
ズル板に反応ガスを供給する接続部をランプハウス上板
に固定する。
上記の構造により、反応ガス供給チューブからの無理な
力が直接、石英ノズル板に加わらないので、石英ノズル
板が破損する恐れがないためメンテナンスの度毎に反応
ガス供給チューブと石英ノズル板を分離する必要がない
。また、石英ノズル板とランプハウス下板の固定精度が
変化しない。
力が直接、石英ノズル板に加わらないので、石英ノズル
板が破損する恐れがないためメンテナンスの度毎に反応
ガス供給チューブと石英ノズル板を分離する必要がない
。また、石英ノズル板とランプハウス下板の固定精度が
変化しない。
従って、表面処理速度を左右するギャップ即ち石英ノズ
ル板下面と被処理物の間隙寸法の変化を防止できる。
ル板下面と被処理物の間隙寸法の変化を防止できる。
[実施例]
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。尚、
第1図は一実施例の断面図である。
第1図は一実施例の断面図である。
被処理物1を載置する、回転可能なステージ2が容器3
に収容されている。表面処理に必要な紫外線ランプ4は
ランプハウス5に収納されている。
に収容されている。表面処理に必要な紫外線ランプ4は
ランプハウス5に収納されている。
ランプハウス5の下面には、石英ノズル板6が保持体7
により固定されている。また、石英ノズル板6には反応
ガスを供給する中間ノズル8はランプハウス5の上板に
固定されている。ランプハウス5の上部の石英ノズル板
6用貫通穴の周囲にはシール9が取り付けられ、ランプ
ハウス5内部の気密を保っている。また、ランプハウス
5にはその内部の雰囲気をガス置換するノズル10a。
により固定されている。また、石英ノズル板6には反応
ガスを供給する中間ノズル8はランプハウス5の上板に
固定されている。ランプハウス5の上部の石英ノズル板
6用貫通穴の周囲にはシール9が取り付けられ、ランプ
ハウス5内部の気密を保っている。また、ランプハウス
5にはその内部の雰囲気をガス置換するノズル10a。
10bが取り付けられている。
以上の構成において、その作用を以下に示す。
ステージ2に載置した被処理物1の表面に反応ガス供給
チューブ12.継手11.中間ノズル8を介して石英ノ
ズル板6からオゾンを含有する反応ガスを供給し、且つ
紫外線ランプ4から紫外線を照射して表面処理を行う。
チューブ12.継手11.中間ノズル8を介して石英ノ
ズル板6からオゾンを含有する反応ガスを供給し、且つ
紫外線ランプ4から紫外線を照射して表面処理を行う。
処理に利用された排ガスは処理室容器3の排気孔3bか
ら系外へ排出される。ノズル10aから窒素ガスを供給
しノズル10bから排出することによってランプハウス
5の内部を窒素置換して、ランプハウス5内の紫外線の
吸収を防止している。
ら系外へ排出される。ノズル10aから窒素ガスを供給
しノズル10bから排出することによってランプハウス
5の内部を窒素置換して、ランプハウス5内の紫外線の
吸収を防止している。
多数の被処理物1を処理すると処理室容器3内部には反
応生成物が徐々に付着堆積してくるので、そのままでは
製品の歩留まりが低下するため、定期的に処理室容器3
内部をクリーニングする必要がある。この場合、ランプ
ハウス5を処理室容器3より分離し移動する必要がある
。尚、石英ノズル板6への反応ガス供給接続部の中間ノ
ズル8はランプハウス5の上板に固定されているのでラ
ンプハウス5を移動する時のチューブ12からの無理な
力を中間ノズル8で吸収できるため石英ノズル板6が破
損することがない。従って、メンテナンスの度毎にチュ
ーブ12と中間ノズル8を分離する必要がない。
応生成物が徐々に付着堆積してくるので、そのままでは
製品の歩留まりが低下するため、定期的に処理室容器3
内部をクリーニングする必要がある。この場合、ランプ
ハウス5を処理室容器3より分離し移動する必要がある
。尚、石英ノズル板6への反応ガス供給接続部の中間ノ
ズル8はランプハウス5の上板に固定されているのでラ
ンプハウス5を移動する時のチューブ12からの無理な
力を中間ノズル8で吸収できるため石英ノズル板6が破
損することがない。従って、メンテナンスの度毎にチュ
ーブ12と中間ノズル8を分離する必要がない。
また、表面処理中にもチューブ12がらの力が中間ノズ
ル8で吸収できるため石英ノズル板6とランプハウス5
の下板との固定精度が変化することがない。従って、表
面処理速度を左右するギャップ即ち石英ノズル6下面と
被処理物1の間隙寸法の変化も防止でるので、安定した
表面処理能力を維持できる。
ル8で吸収できるため石英ノズル板6とランプハウス5
の下板との固定精度が変化することがない。従って、表
面処理速度を左右するギャップ即ち石英ノズル6下面と
被処理物1の間隙寸法の変化も防止でるので、安定した
表面処理能力を維持できる。
[発明の効果]
本発明によれば、反応ガス供給チューブからの無理な力
が直接石英ノズル板に加わらないので、石英ノズル板が
破損する恐れがないためメンテナンスの度毎に反応ガス
供給チューブと石英ノズル板を分離する必要がない。従
って、保守作業が容易になるので保守コストを低減でき
る。
が直接石英ノズル板に加わらないので、石英ノズル板が
破損する恐れがないためメンテナンスの度毎に反応ガス
供給チューブと石英ノズル板を分離する必要がない。従
って、保守作業が容易になるので保守コストを低減でき
る。
また、石英ノズル板とランプハウス下板の固定精度が変
化しない。従って、表面処理速度を左右するギャップ即
ち石英ノズル板下面と被処理物の間隙寸法の変化を防止
できるため、安定した表面処理能力を維持できる。
化しない。従って、表面処理速度を左右するギャップ即
ち石英ノズル板下面と被処理物の間隙寸法の変化を防止
できるため、安定した表面処理能力を維持できる。
第1図は本発明の一実施例の表面処理装置の断面図であ
る。
る。
Claims (1)
- 1、固体を加熱し、その表面にオゾンを含有する反応ガ
スを接触させ、これに紫外線を主体とする光を照射して
反応処理を行う表面処理装置において、紫外線を透過し
、且つオゾンを含有する反応ガスを反応処理室に供給す
るノズルを備えた石英ノズル板に反応ガスを供給する接
続部をランプハウス上板に固定したことを特徴とする表
面処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33711290A JPH04206723A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33711290A JPH04206723A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 表面処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04206723A true JPH04206723A (ja) | 1992-07-28 |
Family
ID=18305552
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33711290A Pending JPH04206723A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 表面処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04206723A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017191811A (ja) * | 2016-04-11 | 2017-10-19 | ウシオ電機株式会社 | 紫外線処理装置 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP33711290A patent/JPH04206723A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017191811A (ja) * | 2016-04-11 | 2017-10-19 | ウシオ電機株式会社 | 紫外線処理装置 |
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