JP2017191626A - 磁気センサ、磁気ヘッド及び磁気記録装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明の第1実施形態にかかる磁気記録装置を模式的に示した断面模式図である。第1実施形態にかかる磁気記録装置は、磁気ヘッド200と、磁気記録媒体Wとを有する。
磁気記録部110は、磁気記録媒体Wの記録層W1に磁場を印加し、記録層W1の磁化の向きを決定する。すなわち、磁気記録部110は、磁気記録媒体Wの磁気記録を行う。
磁気センサ100は、磁気記録部110によって書き込まれた記録層W1の磁化の情報を読み取る。
磁気記録部110は、主磁極111と、コンタクト部112と、リターンヨーク113と、コイル114とを有する。主磁極111は、リターンヨーク113上に、コンタクト部112を挟んで設けられている。コンタクト部112の周りには、コンタクト部112を取り囲むように、コイル114が配設されている。
磁気センサ100は、図1に示すようにスピン蓄積型磁気センサである。
磁気センサ100は、チャネル層10と、外部磁場を検出する検出部20と、チャネル層10にスピンを注入する第1スピン注入部30と、電位の基準となる参照電極40と、参照電極40に対する電位差を測定する電圧計50と、を備える。また図1では、第1スピン注入部30に電流を流す電流源60が設けられている。
チャネル層10は、第1スピン注入部30から注入されたスピンを蓄積する層であり、注入されたスピンによる純スピン流の流路である。チャネル層10は、磁気ヘッド200のエアベアリング面Sからz方向に延在している。
例えば、チャネル層10に用いる材料として、B、C、Mg、Ag、Al、Cu及びZnからなる群から選択される1以上の元素を含む材料を用いることができる。Cu及びAlは、スピン拡散長が長く、これらの材料種の中でも特に好ましい。
検出部20は、磁気記録媒体Wの記録層W1に記録された情報を読み出す部分である。検出部20は、チャネル層10の磁気ヘッド200のエアベアリング面S側の端部である第1の部分に設けられている。
第1スピン注入部30は、上述のように、チャネル層10にスピンを注入する部分である。第1スピン注入部30は、チャネル層10の第1の部分とは異なる第2の部分に、y方向に積層されている。
第1磁化結合層32には、Ru等の材料を用いることができる。
また第1下部電極38とチャネル層10の間には、チャネル層10内の純スピン流が磁化自由層21以外の部分に流出することを防ぐための第1トンネル層37が設けられている。第1トンネル層37は、第2絶縁層23と連結し、一つの層となっていてもよい。
参照電極40は、後述する電圧計50で測定する電位差の基準電位となる部分である。
参照電極40は、チャネル層10の第2の部分を挟み、第1の部分と反対側に位置する第3の部分に設けられている。すなわち、参照電極40と検出部20とで、第1スピン注入部30をz方向に挟んでいる。
電圧計50は、公知の電圧計を用いることができる。図1において、電圧計50は、一端側が検出部20の第1磁気シールド24を介して磁化自由層21に電気的に接続され、他端側が参照電極40に接続されている。すなわち、電圧計50は、参照電極40に対する磁化自由層21の電位差を測定する。電圧計50には、電位差を測定するための電圧源が含まれる。
磁気センサ100の動作について説明する。図3は、本発明の第1実施形態にかかる磁気記録装置の動作を説明するための断面模式図である。
図5は、本発明の第2実施形態にかかる磁気記録装置を模式的に示した断面模式図である。第2実施形態にかかる磁気記録装置を構成する磁気ヘッド201は、磁気センサ101が第2スピン注入部70を有する点が、第1実施形態にかかる磁気ヘッド200と異なる。以下の説明では、共通な箇所の説明は省略する。また、説明に用いる各図面において、図1〜図4と共通の構成要素には同一の符号を付すものとする。
図6は、本発明の第3実施形態にかかる磁気記録装置を模式的に示した断面模式図である。第3実施形態にかかる磁気記録装置を構成する磁気ヘッド202は、磁気センサ102が障壁層80を有する点が、第2実施形態にかかる磁気ヘッド201と異なる。以下の説明では、共通な箇所の説明は省略する。また、説明に用いる各図面において、図5と共通の構成要素には同一の符号を付すものとする。
図7は、本発明の第4実施形態にかかる磁気記録装置を模式的に示した断面模式図である。第4実施形態にかかる磁気記録装置を構成する磁気ヘッド203は、第1スピン注入部30と、第2スピン注入部70がy軸方向重なる位置にない点が、第3実施形態にかかる磁気ヘッド202と異なる。以下の説明では、共通な箇所の説明は省略する。また、説明に用いる各図面において、図6と共通の構成要素には同一の符号を付すものとする。
Claims (13)
- チャネル層と、
前記チャネル層の第1の部分に設けられ、外部磁場を検出する磁化自由層と、
前記チャネル層の第1の部分とは異なる第2の部分に設けられ、前記チャネル層にスピンを注入する第1磁化固定層と、
前記チャネル層にスピン流を注入するための電流を前記第1磁化固定層に流す電流源と、
前記チャネル層の前記第2の部分を挟み、前記第1の部分と反対側に位置する第3の部分に設けられた参照電極と、
前記磁化自由層と前記参照電極との間の電圧を測定する電圧計と、
を備える磁気センサ。 - 前記電流は、前記チャネル層において前記チャネル層の延在面に対して交差する方向に流れる構成とされ、前記チャネル層が等電位である請求項1に記載の磁気センサ。
- 前記チャネル層の前記第1磁化固定層が形成された面と反対側の面に設けられ、前記第1磁化固定層から注入されるスピンの向きと同一の向きのスピンを前記チャネル層に注入する第2磁化固定層をさらに備える請求項1または2のいずれかに記載の磁気センサ。
- 前記第1磁化固定層と前記第2磁化固定層の少なくとも一部が、前記チャネル層の延在方向の重なる位置に設けられている請求項3に記載の磁気センサ。
- 前記電流源が、前記第1磁化固定層および前記第2磁化固定層と電気的に接続され、前記第1磁化固定層および前記第2磁化固定層の積層方向に電流を流す請求項4に記載の磁気センサ。
- 前記第1磁化固定層と前記チャネル層の間に障壁層をさらに備える請求項1〜5のいずれか一項に記載の磁気センサ。
- 前記第2磁化固定層と前記チャネル層の間に障壁層をさらに備える請求項3〜6のいずれか一項に記載の磁気センサ。
- 前記参照電極が、前記第1磁化固定層および前記第2磁化固定層から、前記チャネル層のスピン拡散長よりも離れた位置にある請求項3〜7のいずれか一項に記載の磁気センサ。
- 前記磁化自由層が、前記第1磁化固定層または前記第2磁化固定層と、前記チャネル層のスピン拡散長より近い位置にある請求項3〜8のいずれか一項に記載の磁気センサ。
- 前記第1磁化固定層および前記第2磁化固定層は、それぞれ前記チャネル層と反対側の面に、非磁性層と、強磁性体層とを順に有し、
前記第1磁化固定層および前記第2磁化固定層の磁化の向きは、それぞれに積層された前記強磁性体層によってそれぞれ固定されている請求項3〜9のいずれか一項に記載の磁気センサ。 - 前記磁化自由層の少なくとも一部が磁気シールドされている請求項1〜10のいずれか一項に記載の磁気センサ。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載の磁気センサを備える磁気ヘッド。
- 磁化によりデータを記録する磁気記録媒体と、
前記磁気記録媒体の記録層に、前記磁化自由層を対向させて配置された請求項12に記載の磁気ヘッドと、を備える磁気記録装置。
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