JP2017187530A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017187530A JP2017187530A JP2016074128A JP2016074128A JP2017187530A JP 2017187530 A JP2017187530 A JP 2017187530A JP 2016074128 A JP2016074128 A JP 2016074128A JP 2016074128 A JP2016074128 A JP 2016074128A JP 2017187530 A JP2017187530 A JP 2017187530A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- color filter
- black matrix
- width
- liquid crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】輝度むらの少ない液晶表示装置を実現する。【解決手段】画素電極を有するTFT基板100とブラックマトリクスを有する対向基板200の間に液晶が挟持され、表示領域500を有する液晶表示装置であって、前記表示領域500には、複数の第1の画素を有する第1の領域BBと、複数の第2の画素を有する第2の領域AAを有し、前記第1の領域BBにおける複数の前記第1の画素におけるカラーフィルタの厚さは、前記第2の領域AAにおける複数の前記第2の画素におけるカラーフィルタの厚さよりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。【選択図】図6
Description
本発明は表示装置に係り、特に画面の輝度を均一化した液晶表示装置に関する。
液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ(TFT)等を有する画素がマトリクス状に形成されたTFT基板と、TFT基板に対向して対向基板が配置され、TFT基板と対向基板の間に液晶が挟持されている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。
画面において輝度むらや色むらが存在すると画質を劣化させる。対向基板には、ブラックマトリクスやカラーフィルタが形成されており、カラーフィルタの透過率、ブラックマトリクスの開口率等にむらが存在すると輝度むらや色むらを引き起こしやすい。
特許文献1には、半透過型液晶表示装置において、透過領域と反射領域とにおいて、カラーフィルタを透過率を実質的に同じにするために、同一画素において、反射領域におけるカラーフィルタの厚さを透過領域におけるカラーフィルタの厚さよりも薄くする構成が記載されている。
特許文献2には、カラーフィルタの表面に凹凸を形成することによって、バックライトからの光が他の画素に入射する量を軽減する構成が記載されている。
特許文献3には、対向基板に形成するブラックマトリクスを隔壁として、カラーフィルタをインクジェットで形成する構成が記載されている。この文献においては、隣り合う画素の、カラーフィルタの厚さが色毎に異なる構成も記載されている。
特許文献4には、単位画素内を複数の領域に分け、各領域毎にカラーフィルタの厚さを変化させ、その結果単一画素内において液晶の層厚の異なる領域を形成することにより、液晶駆動の閾値の制御性を向上させた構成が記載されている。
一方、TFT基板における画素電極等の形状も光の透過率を変化させる。特許文献5には、IPS(In Plane Switching)方式の液晶表示装置において、静電気に対する耐性を向上させるために、表示領域の最外周の画素における画素電極の幅を変化させる構成が記載されている。この場合、画素電極の幅が大きくなった部分では、透過率が低下する可能性が考えられる。
液晶表示装置の画面の透過率は、種々の要因で変化する。すなわち、TFT基板における画素の透過率、対向基板におけるカラーフィルタの厚さ、ブラックマトリクスの開口領域の幅、TFT基板と対向基板の間隔を規定するための柱状スペーサの密度等である。
高精細になり、画素ピッチが小さくなると、画面の輝度むらや色むらに対して、これらの要素の影響が、顕著になる。また、マザー基板中の液晶セルの数を多くするために、マザー基板のサイズを大きくした場合、露光装置の大型化を防止するために、マルチレンズを用いたスキャン方式が採用されている。この場合、個々のレンズの境界における照度むらが、カラーフィルタの厚さやブラックマトリクスの幅あるいはブラックマトリクスの開口領域幅に影響を与え、輝度むらや色むらを引き起こす場合がある。
本発明の課題は、以上のような問題を解決して、輝度むらや色むらが少ない液晶表示装置を実現することである。
本発明は上記課題を克服するものであり、主な具体的な手段は次のとおりである。
(1)画素電極を有するTFT基板とブラックマトリクスを有する対向基板の間に液晶が挟持され、表示領域を有する液晶表示装置であって、前記表示領域には、複数の第1の画素を有する第1の領域と、複数の第2の画素を有する第2の領域を有し、前記第1の領域における複数の前記第1の画素におけるカラーフィルタの厚さは、前記第2の領域における複数の前記第2の画素におけるカラーフィルタの厚さよりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。
(2)画素電極を有するTFT基板とブラックマトリクスを有する対向基板の間に液晶が挟持され、表示領域を有する液晶表示装置であって、前記表示領域には、複数の第1の画素を有する第1の領域と、複数の第2の画素を有する第2の領域を有し、前記ブラックマトリクスと前記ブラックマトリクスの間の幅をブラックマトリクス開口領域の幅と定義した場合、前記第1の領域における複数の前記第1の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅は、前記第2の領域における複数の前記第2の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
(3)画素電極を有するTFT基板とブラックマトリクスを有する対向基板の間に液晶が挟持され、表示領域を有する液晶表示装置であって、前記表示領域には、複数の第1の画素を有する第1の領域と、複数の第2の画素を有する第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の間であって、複数の第3の画素を有する第3の領域を有し、前記第1の領域における複数の前記第1の画素におけるカラーフィルタの厚さは、前記第2の領域における複数の前記第2の画素におけるカラーフィルタの厚さよりも大きく、前記第3の領域における複数の前記第3の画素におけるカラーフィルタの厚さは、前記第1の領域から前記第2の領域に向かうに従い、前記第1の前記複数の画素におけるカラーフィルタの厚さから、前記第2の複数の前記第2の画素におけるカラーフィルタの厚さに徐々に薄くなっていくことを特徴とする液晶表示装置。
(4)画素電極を有するTFT基板とブラックマトリクスを有する対向基板の間に液晶が挟持され、表示領域を有する液晶表示装置であって、
前記表示領域には、複数の第1の画素を有する第1の領域と、複数の第2の画素を有する第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の間であって、複数の第3の画素を有する第3の領域を有し、前記第1の領域における複数の前記第1の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅は、前記第2の領域における複数の前記第2の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅よりも小さく、前記第3の領域における複数の前記第3の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅は、前記第1の領域から前記第2の領域に向かうに従い、前記第1の前記複数の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅から、前記第2の複数の前記第2の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅に徐々に大きくなっていくことを特徴とする液晶表示装置。
前記表示領域には、複数の第1の画素を有する第1の領域と、複数の第2の画素を有する第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の間であって、複数の第3の画素を有する第3の領域を有し、前記第1の領域における複数の前記第1の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅は、前記第2の領域における複数の前記第2の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅よりも小さく、前記第3の領域における複数の前記第3の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅は、前記第1の領域から前記第2の領域に向かうに従い、前記第1の前記複数の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅から、前記第2の複数の前記第2の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅に徐々に大きくなっていくことを特徴とする液晶表示装置。
以下に実施例を用いて本発明の内容を詳細に説明する。
図1は、本発明が適用される液晶表示装置の例である。図1は携帯電話に使用される液晶表示パネルの平面図である。図1において、TFT基板100と対向基板200が周辺において、シール材150によって接着し、内部に液晶が挟持されている。シール材150の内側に表示領域500が形成されている。
表示領域500において、走査線10が第1の方向に延在して、第2の方向に配列している。また、映像信号線20が第2の方向に延在して、第1の方向に配列している。走査線10と映像信号線20で囲まれた領域が画素になっている。TFT基板100は対向基板200よりも大きく形成され、TFT基板100が1枚になっている部分は端子領域160であり、この部分には、ドライバICが搭載され、フレキシブル配線基板等が接続される。
図2は表示領域における画素部の断面図である。液晶表示装置は視野角が問題である。IPS方式は、液晶分子を回転させることによって透過率を制御するもので優れた視野角特性を有している。IPS方式も種々存在するが、例えば、コモン電極を平面状に形成し、その上に、絶縁膜を挟んで櫛歯状の画素電極を配置し、画素電極とコモン電極の間に発生する電界によって液晶分子を回転させる方式が、比較的、透過率を大きくすることが出来るので、現在主流となっている。
図2はこのようなIPS方式の液晶表示装置の断面図である。図2におけるTFTは、いわゆるトップゲートタイプのTFTであり、使用される半導体としては、LTPS(Low Temperature Poli−Si)が使用されている。一方、a−Si半導体を使用した場合は、いわゆるボトムゲート方式のTFTが多く用いられる。以後の説明では、トップゲート方式のTFTを用いた場合を例にして説明するが、ボトムゲート方式のTFTを用いた場合についても、本発明を適用することが出来る。
図1において、ガラス基板100の上にSiNからなる第1下地膜101およびSiO2からなる第2下地膜102がCVD(Chemical Vapor Deposition)によって形成される。第1下地膜101および第2下地膜102の役割はガラス基板100からの不純物が半導体層103を汚染することを防止することである。
第2下地膜102の上には半導体層103が形成される。この半導体層103は、第2下地膜102に上にCVDによってa−Si膜を形成し、これをレーザアニールすることによってpoly−Si膜に変換したものである。このpoly−Si膜をフォトリソグラフィによってパターニングする。
半導体膜103の上にはゲート絶縁膜104が形成される。このゲート絶縁膜104はTEOS(テトラエトキシシラン)によるSiO2膜である。この膜もCVDによって形成される。その上にゲート電極105が形成される。ゲート電極105は走査線10が兼ねている。ゲート電極105は例えば、MoW膜によって形成される。ゲート電極105あるいは走査線10の抵抗を小さくする必要があるときはAl合金が使用される。
その後、ゲート電極105を覆って層間絶縁膜106をSiO2によって形成する。層間絶縁膜106はゲート配線105とコンタクト電極107を絶縁するためである。層間絶縁膜106およびゲート絶縁膜104には、半導体層103のソース部Sをコンタクト電極107と接続するためのコンタクトホール120が形成される。層間絶縁膜106とゲート絶縁膜104にコンタクトホール120を形成するためのフォトリソグラフィは同時に行われる。
層間絶縁膜106の上にコンタクト電極107が形成される。コンタクト電極107は、コンタクトホール130を介して画素電極112と接続する。TFTのドレイン部Dは、図示しない部分において映像信号線とコンタクトホールを介して接続している。
コンタクト電極107および映像信号線は、同層に、同材料で形成される。コンタクト電極107および映像信号線は、抵抗を小さくするために、例えば、AlSi合金が使用される。AlSi合金はヒロックを発生したり、Alが他の層に拡散したりするので、例えば、図示しないMoWによるバリア層、およびキャップ層によってAlSiをサンドイッチする構造がとられている。
TFTおよび層間絶縁膜106を覆って有機パッシベーション膜109が形成される。なお、品種によっては、TFTを覆って無機パッシベーション膜が形成される場合もあるが、図2では存在しない。有機パッシベーション膜109は感光性のアクリル樹脂で形成される。有機パッシベーション膜109は、アクリル樹脂の他、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等でも形成することが出来る。有機パッシベーション膜109は平坦化膜としての役割を持っているので、厚く形成される。有機パッシベーション膜109の膜厚は1〜4μmであるが、多くの場合は2〜3.5μm程度である。
画素電極110とコンタクト電極107との導通を取るために、有機パッシベーション膜109にコンタクトホール130が形成され、さらに、後で述べる容量絶縁膜111にコンタクトホールが形成される。有機パッシベーション膜109は感光性の樹脂を使用している。感光性の樹脂を塗付後、この樹脂を露光すると、光が当たった部分のみが特定の現像液に溶解する。すなわち、感光性樹脂を用いることによって、フォトレジストの形成を省略することが出来る。有機パッシベーション膜109にコンタクトホール130を形成したあと、230℃程度で有機パッシベーション膜を焼成することによって有機パッシベーション膜109が完成する。
その後コモン電極110となるITO(Indium Tin Oxide)をスパッタリングによって形成し、コンタクトホール130およびその周辺からITOを除去するようにパターニングする。コモン電極110は各画素共通に平面状に形成することが出来る。その後、容量絶縁膜111となるSiNをCVDによって全面に形成する。その後、コンタクトホール130内において、コンタクト電極107と画素電極112の導通をとるためのコンタクトホールを容量絶縁膜111に形成する。
その後、ITOをスパッタリングによって形成し、パターニングして画素電極112を形成する。図3に本発明における画素電極112の平面形状の例を示す。画素電極112の上に配向膜材料をフレキソ印刷あるいはインクジェット等によって塗布し、焼成して配向膜113を形成する。配向膜113の配向処理にはラビング法のほか偏光紫外線による光配向が用いられる。
画素電極112とコモン電極110の間に電圧が印加されると図2に矢印で示すような電気力線が発生する。この電界によって液晶分子301を回転させ、液晶層300を通過する光の量を画素毎に制御することによって画像を形成する。
図2において、液晶層300を挟んで対向基板200が配置されている。対向基板200の内側には、カラーフィルタ201が形成されている。カラーフィルタ201は画素毎に、赤、緑、青のカラーフィルタが形成されており、これによってカラー画像が形成される。カラーフィルタ201とカラーフィルタ201の間にはブラックマトリクス202が形成され、画像のコントラストを向上させている。なお、ブラックマトリクス202はTFTの遮光膜としての役割も有し、TFTに光電流が流れることを防止している。
カラーフィルタ201およびブラックマトリクス202を覆ってオーバーコート膜203が形成されている。カラーフィルタ201およびブラックマトリクス202の表面は凹凸となっているために、オーバーコート膜203によって表面を平らにしている。オーバーコート膜203の上には、液晶の初期配向を決めるための配向膜113が形成される。配向膜113の配向処理はTFT基板100側の配向膜113と同様、ラビング法あるいは光配向法が用いられる。
TFT基板100と対向基板200の間隔は柱状スペーサ40によって規定される。柱状スペーサ40は、対向基板200において、オーバーコート膜203を形成した後、あるいはオーバーコート膜203と同時に形成される。柱状スペーサ40が形成された部分では、液晶の配向が乱れるために、光漏れが生ずる。光漏れを防止するために、柱状スペーサ40に対応する部分には対向基板においてブラックマトリクス202が形成されている。また柱状スペーサ40に対応する位置では柱状スペーサ40の径より大きくなるようにブラックマトリクス202は拡張されている。
図3は画素部の平面図である。図3では、図が複雑化することを避けるためにTFTは省略されている。図3において、液晶分子の初期配向を決める配向膜の配向方向90は紙面の縦方向である。画素電極112はスリットを有するストライプ状の電極である。なお、画素電極112はスリットを有さない、1本のストライプ状である場合もある。液晶に電圧を印加したときに、液晶分子の回転方向を規定するために、画素電極112の長径は配向方向90に対して所定の角度θを有している。この角度θは、5度乃至15である。
画素電極112は走査線10と映像信号線20によって囲まれた領域に形成されている。映像信号線20は、画素電極の傾きθに合わせて傾いているので、屈曲しながら、縦方向に延在し、横方向に配列している。また、走査線10は、横方向に延在し、縦方向に配列している。図3において、走査線10に対して上側と下側の画素とで、画素電極112の傾きが異なるのは、視野角特性をより均一にするためである。
図3において、走査線10と映像信号線20との交点に柱状スペーサが形成されている。柱状スペーサには、通常状態において、TFT基板100と対向基板200の間隔を規定するメイン柱状スペーサ40と、通常状態ではTFT基板100と接触していないが、対向基板200に押し圧力が加わった場合に、TFT基板100と接触して、間隔を維持するサブ柱状スペーサ50とが存在する。図3ではこの両方が記載されている。以後特に断らない限り、柱状スペーサという場合は、メイン柱状スペーサ40で代表させて説明する。
柱状スペーサ40の部分は、液晶の配向が乱れるので、この部分における光漏れを防止するために、対向基板側にブラックマトリクス202が形成されている。また、対向基板200側には、TFT基板100側の走査線10及び映像信号線20に対応してブラックマトリクス202が形成されている。隣接する画素間の混色を防止するためである。図4は、TFT基板100と対向基板200の間隔が対向基板側に形成された柱状スペーサ40によって規定されている様子を示す模式断面図である。
ところで、液晶表示パネルは、TFT基板100あるいは対向基板200を薄く形成することによって、容易に曲げることができるので、曲面ディスプレイとして使用することも出来る。図5は、液晶表示パネルを曲面ディスプレイとして使用した場合の模式断面図である。
もともとフラットであった液晶表示パネルを湾曲させると、表示領域の中央部分において、曲げ応力が大きくなり、TFT基板100と対向基板200の間隔を小さくしようとする力が働く。これを防止して、表示領域の中央部分と周辺部分とで、TFT基板100と対向基板200の間隔を均一にするために、表示領域の中央付近における柱状スペーサ40のピッチを表示領域の周辺よりも小さくする必要がある。
柱状スペーサ40に対応する部分の対向基板200側には、光もれを防止するためにブラックマトリクスが形成されている。つまり、柱状スペーサ40の密度が大きい画面の中央付近では、透過率が減少することになる。図6はこの様子を示す平面図である。図6において、曲線の矢印は、湾曲する方向を示している。中央付近における透過率が低下する領域AAをハッチングで示している。ハッチングの領域は例であり、ハッチング領域AA内でも透過率の変化は存在している。また、ハッチング領域外BBにおいても透過率は変化する場合もある。
図7は、図6の液晶表示パネルにおける柱状スペーサの密度を示すグラフである。図7の横軸は位置であり、ゼロは図6の中央線ゼロに対応している。縦軸は、柱状スペーサの密度である。図7において、柱状スペーサの密度は画面中央から周辺に行くにしたがって、線形に小さくなっている。但し、これは例であり、各場所の応力のかかりかたによって柱状スペーサの密度を変化させる必要がある。図7に示すように、柱状スペーサが周辺から中央に行くにしたがって、密度が増えるということは、ブラックマトリクスの割合が大きくなるということであるので、中央において画面の輝度が低下する。
この問題を解決するために、本実施例における第1の実施形態は、画面中央におけるカラーフィルタの厚さを画面周辺におけるカラーフィルタの厚さよりも小さくするものである。図8Aは画面中央である図6の領域AAにおける対向基板200の断面図であり、図8Bは画面周辺である図6の領域BBにおける対向基板200の断面図である。図8Aおよび図8Bにおいて、ブラックマトリクス202とブラックマトリクス202の間にカラーフィルタ201が形成されている。カラーフィルタ201の厚さは、画面中央ではtcf1であり、画面周辺ではtcf2であり、tcf2>tcf1である。
カラーフィルタ202の厚さが小さいということは、その分、光を多く透過させるので、輝度は増加する。通常、カラーフィルタ202の厚さは、2μm乃至3μmであるが、tcf2−tcf1を0.02μm乃至、0.4μm、より効果的には0.2μm乃至、0.4μmとすることによって、殆どの場合の輝度補償に対応することができる。このときtcf2−tcf1が0.02μm程度のカラーフィルタが表示領域500の中で、単体で少量まばらにある場合では、表示領域全体の輝度で考えれば輝度変化に与える影響は少ないが、0.02μm程度のカラーフィルタがある程度広い領域において集中して配置される場合には輝度変化に影響を及ぼすことが考えられる。なお、カラーフィルタ202の厚さという場合、カラーフィルタ202の厚さには製造ばらつきがあるので、特定場所における10ケのカラーフィルタ202の厚さの平均をいうものとする。以下の説明において、カラーフィルタ202の厚さという場合も、同様である。
図9は、画面輝度に対して、柱状スペーサの密度の影響とカラーフィルタの膜厚の影響の関係を示すグラフである。図9において、柱状スペーサは画面中央において密度が大きいので、柱状スペーサの影響は、画面周辺に行くにしたがって、輝度を大きくする。一方、カラーフィルタは、中央で膜厚が小さいので、画面周辺に行くにしたがって、輝度を小さくする。柱状スペーサの密度による輝度変化に合わせてカラーフィルタの膜厚を制御することによって、画面全体における輝度を均一にすることができる。一方、カラーフィルタを薄くすると、彩度が低下する。したがって、どの程度カラーフィルタを薄くするかは、輝度と彩度を兼ね合いで決める必要がある。
図10Aおよび図10Bは本実施例における第2の実施形態を示す平面図である。図10Aは画面中央付近におけるブラックマトリクス202の形状を示す平面図である。図10Bは画面周辺におけるブラックマトリクス202の形状を示す平面図である。図10Aおよび図10Bにおいて、ブラックマトリクス202とブラックマトリクス202の間はブラックマトリクス開口領域2021となっている。
図10Aおよび図10Bにおいて、中央におけるブラックマトリクスの幅wbm1は周辺におけるブラックマトリクスの幅wbm2よりも小さい。したがって、光を透過させるブラックマトリクス開口領域2021の幅は画面中央において、画面周辺よりも大きくなる。これによって、画面中央において、柱状スペーサの密度が大きくなっていることによる画面輝度の減少を補償することができる。
図11はこの関係を示すグラフである。図11において、横軸は位置であり、縦軸は画面の透過率である。図11において、柱状スペーサの密度は画面中央において大きいので、柱状スペーサの影響は、画面周辺に行くにしたがって、輝度を大きくする。一方、ブラックマトリクスの幅は、画面中央で狭いので、ブラックマトリクス幅の影響は、画面周辺に行くにしたがって、輝度を小さくする。柱状スペーサの密度の影響に合わせてブラックマトリクス幅を制御することによって、画面全体にわたって輝度を均一にすることができる。ブラックマトリクスの幅が、例えば、5μmの場合、0.2μm乃至0.3μmでも効果を出すことができる。
なお、ブラックマトリクスの幅、あるいは、ブラックマトリクスマトリクス間の透過領域の幅(以下ブラックマトリクス開口領域の幅ともいう)は、製造ばらつきが存在する。したがって、ブラックマトリクス幅あるいはブラックマトリクス開口領域幅という場合は、ブラックマトリクス幅の10個の平均、あるいは、ブラックマトリクス開口領域幅の10個の平均をいうものとする。以下の説明において、ブラックマトリクス幅、あるいは、ブラックマトリクス開口領域幅という場合も、同様である。
図12および図13は、液晶表示パネルにおいて、柱状スペーサの密度を異ならせる場合の他の例を示すものである。液晶表示パネルは、TFT基板と対向基板の間で横ずれを起こすと、混色を生じ、色純度を劣化させる。これを防止するために、対向基板に形成された柱状スペーサを、TFT基板側の有機パッシベーション膜に形成した凹部に勘合させて、TFT基板と対向基板の横ずれを防止するという手段が存在する。
図12はこの様子を示す断面図である。図12では、詳細な層構造は省略されている。図12において、対向基板200にブラックマトリクス202とカラーフィルタ201が形成され、これを覆ってオーバーコート膜203が形成されている。ブラックマトリクス202に対応する部分で、オーバーコート膜203の上に柱状スペーサ40が形成されている。
図12のTFT基板100側には、有機パッシベーション膜109が形成され、有機パッシベーション膜109には凹部が形成されている。有機パッシベーション膜109に形成された凹部に柱状スペーサ40が挿入されることによって、TFT基板100と対向基板200の間の横ずれを防止することができる。
このような、柱状スペーサ40によるTFT基板100と対向基板200の横ずれを防止する効果は、画面の周辺、特にコーナー部において効果が大きい。つまり、画面のコーナー部において、図12に示すような柱状スペーサの密度を大きくすることによって、効果的に横ずれを防止することができる。しかし、柱状スペーサ40に対応して対向基板200にはブラックマトリクス202が形成されるので、この部分における透過率が低下し、その結果、画面輝度は低下することになる。
図13はこの様子を示す液晶表示パネルの平面図である。図13において、画面コーナー部のハッチングで示す領域が、画面輝度が小さくなる部分である。これを対策するために、ハッチング部と他の部分とで、先に説明した、図8Aおよび図8Bに示すようなカラーフィルタの厚さの制御あるいは、図10A、図10Bに示すようなブラックマトリクス幅の制御をおこなうことによって、画面の輝度を均一にすることができる。
図14は、画面輝度がTFT基板側の画素構造によって、変化する場合の例を示す平面図である。液晶表示パネルは、外部から静電気が侵入すると、絶縁破壊を起こす。静電気による破壊を防止するためには、種々の方法がある。その一つは、画面周辺において、画素電極の幅を大きくすることである。外部から侵入する静電気の影響は画面周辺で大きいからである。画素電極の幅は、例えば、図3における幅wpである。
しかし、静電気対策として画素電極の幅を大きくすると、画素の透過率を低下させることになる。つまり、図14に示すように、画面周辺において、画面が暗い部分が発生することになる。これを対策するために、図14におけるハッチング部と他の部分とで、先に説明した、図8Aおよび図8Bに示すようなカラーフィルタの厚さの制御あるいは、図10A、図10Bに示すようなブラックマトリクス幅の制御をおこなうことによって、画面全体において輝度を均一にすることができる。
液晶表示パネルは、1個1個製造したのでは効率が悪いので、マザー基板に多数の液晶表示セルを配置し、完成後、マザー基板から個々の液晶表示セルを分離して液晶表示パネルとすることが行われている。図15はマザー基板を示す平面図である。図15では、マザー基板1000に8×6=48個の液晶セル400が形成されている。マザー基板が完成後、各液晶セルは、スクライビング線401に沿って分離される。マザー基板1000は大きいほど多数の液晶表示セル400を一度に形成できるので、効率が良い。大きなマザー基板1000に対応するために、フォトリソグラフィにおける露光には、マルチレンズを用いたスキャン方式が用いられる。
図16は、この露光方法を示す一例としての斜視図である。図16において、露光装置には、光源620、露光マスク610、マルチレンズ600が順に配置し、マルチレンズ600の下をマザー基板1000が移動することによって、マザー基板1000全体が露光される。
図16において、光源から光630が露光マスク610に向かって照射され、露光マスク610を通過した光は、マルチレンズ600によってコリメートされ、マザー基板1000に照射される。マザー基板1000は、矢印の方向に移動することによって、マザー基板1000全体が露光される。
図17は、マルチレンズ600を用いた露光システムを示す模式断面図である。図17において、光源からの光630が露光マスク610に照射され、露光マスク610を通過した光はマルチレンズ600を通過してマザー基板1000を露光する。図17において、マザー基板1000は、紙面垂直方向に移動する。
マルチレンズ600を使用した場合、レンズとレンズの境界601の照度分布が問題となる。図17において、マザー基板1000の下側に記載されている台形は、各マルチレンズ600からの光の照度分布である。マルチレンズとマルチレンズの境界dでは、各レンズからの照度が低下するが、隣接するレンズからの照度が足し合わされるために、設計上は、点線で示すように、照度が一定になるようになっている。
しかし、レンズ間の反射等の影響のために、実際は、レンズとレンズの間の境界601は照度が低下する。カラーフィルタやブラックマトリクスは、ネガ型のレジストである。ネガ型のレジストは光が照射された部分が現像液に対して不溶化する。つまり、光の照射が少ないと幅あるいは、厚さが小さくなる。
カラーフィルタのレジストが、このような、微妙な照度に変化に反応しないような材料であれば、大きな問題にはならないが、このようなレジスト材料は限定される。また、カラーフィルタの色によってもレジストの性質が異なる。特に、青カラーフィルタのレジストは、わずかな照度の変化に対して敏感に反応し、例えば、カラーフィルタの膜厚が変化する。ブラックマトリクスを形成するレジストも同様である。
図17に戻り、レンズの境界において、照度が小さくなる領域の幅dは、周期的に生ずる。図18は、図17に示すような、照度が小さい領域が生じたことにより、マザー基板1000の各液晶セル400に青カラーフィルタのむら550が生じた様子を示す平面図である。この明細書では、このむらをスキャンむらと称する。
以上では、特に、青カラーフィルタの場合について説明したが、ブラックマトリクスを形成するレジストもこの傾向がある。すなわち、ブラックマトリクスもネガ型レジストを使用するが、スキャンむらが生ずる部分では、ブラックマトリクスの幅が小さくなる。
図19は、個々の液晶セルにおけるスキャンむらを示す平面図である。図19において、領域Iがスキャンむらの部分であり、横方向にストライプ状に生じている。この部分は、青カラーフィルタの厚さが小さくなった部分、あるいは、ブラックマトリクスの幅が小さくなった部分である。領域IIIは通常に露光されている部分である。
図20Aは、図19の領域IIIにおける対向基板200の断面図であり、図20Bは、領域Iにおける対向基板200の断面図である。図20Aでは、カラーフィルタの厚さは、赤201R、青201B、緑201Gとも同じ厚さである。一方、図20Bでは、青カラーフィルタ201Bの厚さが他のカラーフィルタの厚さよりも小さくなっている。この厚さの差は、0.02μm程度であっても一定の領域において集中して存在することで視認される。なお、領域IIIにおけるカラーフィルタの厚さは2乃至3μmである。
図21は、領域Iと領域IIIにおける青カラーフィルタ膜厚を示すグラフである。図21に示すように、領域Iと領域IIIは明確な境界が形成されている。このために、カラーフィルタのわずかな膜厚差もむらとして認識されてしまう。
図22Aは、図19の領域IIIにおけるブラックマトリクス202の幅を示す対向基板の平面図であり、図22Bは図19の領域Iにおけるブラックマトリクス202の幅を示す対向基板の平面図である。ブラックマトリクス202はネガレジストを使用しているので、スキャンむらが生じている部分では、ブラックマトリクスの幅が小さくなる。したがって、この部分は領域IIIの部分に比べて画面が明るくなっている。
図23は、領域Iと領域IIIにおけるブラックマトリクスの幅を示すグラフである。領域Iにおけるブラックマトリクスの幅は例えば5μmである。領域Iと領域IIIにおけるブラックマトリクスの幅の差は0.2μm乃至0.3μmである。図23に示すように、領域Iと領域IIIの間は明確な境界が形成されている。このために、ブラックマトリクス幅のわずかな差もむらとして認識されてしまう。
本発明は、図24に示すように、通常領域である領域IIIとスキャンむらが生じている領域Iとの間にグラデーション領域IIを設け、スキャンむらを目立たなくするものである。図24において、グラデーションを形成する領域IIは、領域Iの端部から10mm以上の範囲にわたることが望ましい。グラデーションの領域が広いほうがむらを目立たなくすることができるからである。
図25Aは、図24の領域IIIにおけるカラーフィルタの膜厚を示す対向基板200の断面図であり、図25Bは、図24の領域IIにおけるカラーフィルタの膜厚を示す対向基板200の断面図であり、図25Cは、図24の領域Iにおけるカラーフィルタの膜厚を示す対向基板200の断面図である。図25A乃至25Cにおいて、赤カラーフィルタ201Rと緑カラーフィルタ201Gは同じ厚さであるが、青カラーフィルタ201Bは、図25Bでは、図25Aと図25Cに対して中間の厚さとなっている。
図26Aは、図24における領域I、II、IIIにおける青カラーフィルタの厚さを示すグラフである。図26の横軸は位置であり、図26のゼロは図24の線ゼロに対応している。図26の縦軸は、青カラーフィルタの厚さであり、領域IIにおいて、領域Iの厚さから領域IIIの厚さまで徐々に変化している。図26Aのカラーフィルタの膜厚は各測定場所における平均値である。このために、青カラーフィルタの厚さの変化による輝度むらは目立たなくなっている。
図26Aに示すような、カラーフィルタ膜厚のグラデーションはハーフトーンマスクを用いることによって形成することができる。一方、露光マスクの上に図27に示すような特性を持つフィルタを領域IIの部分に用いることによっても実現することができる。図27に示すような特性を有するフィルタは、図16において、光源と露光マスクの間に配置することができる。
図28はこのようなグラデーションを形成するためのフィルタを示す例である。フィルタを用いれば、狭い幅のパターンにハーフトーンマスクを形成しなくともよいので、製造が容易になる。なお、図28はドットを用いてハーフトーンを形成しているが、この方法は、ハーフトーンの露光マスクを作成する場合にも適用することができる。
ところで、各領域において、カラーフィルタの膜厚は分布を持っている。図26Bは、この様子を示す例である。図26Bの横軸は青カラーフィルタの膜厚、縦軸は確率密度である。図26BのIは、図24の領域Iにおける青カラーフィルタの膜厚分布を示している。領域Iにおいては、膜厚の平均値はμ1であり、分散はσ1である。図26BのIIIは、図24の領域IIIにおける青カラーフィルタの膜厚分布を示している。領域IIIにおいては、膜厚の平均値はμ3であり、分散は領域Iと同じσ1である。
領域IIの分布は点線で示している。領域IIの分布は、領域Iに近い領域から領域IIIに近い領域に行くにしたがって、領域Iの分布から領域IIIの分布に変化していく。領域IIにおける分散も領域Iと同じσ1である。領域IIIと領域Iとの膜厚差(μ3−μ1)は、膜厚の分散σ1よりも小さい。これを言い換えると、同じ膜厚のカラーフィルタに着目すると、領域Iから領域IIIに行くにしたがって、数が変化するということもできる。
図29A、図29B、図29Cは、ブラックマトリクス幅に起因するスキャンむらを、図24の領域IIにブラックマトリクス幅のグラデーションを形成することによって対策する場合を示す図である。図29Aは、図24の領域IIIにおけるブラックマトリクス202の幅を示す対向基板200の平面図である。図29Bは図24の領域IIにおけるブラックマトリクス202の幅を示す対向基板200の平面図である。図29Cは、図24の領域IIIにおけるブラックマトリクス202の幅を示す対向基板200の平面図である。図29Bのブラックマトリクス202の幅は、図29Aと図29Cのブラックマトリクス202の幅の中間の値である。
図30は、図24における領域I、II、IIIにおけるブラックマトリクス幅を示すグラフである。図30の横軸は位置であり、図30のゼロは図24の線ゼロに対応している。図30の縦軸は、ブラックマトリクス幅であり、領域IIにおいて、領域Iの幅から領域IIIの幅まで徐々に変化している。このために、ブラックマトリクス幅に起因する輝度むらは目立たなくなっている。なお、ブラックマトリクス幅は、各測定場所における平均値である。
図30に示すような、ブラックマトリクス幅のグラデーションは、ハーフトーンマスクを用いることによって形成することができる。また、図27および図28で説明したようなフィルタを用いることによっても形成することができる。
図29A−図29Cおよび図30で説明したブラックマトリクス幅は、3色全てのブラックマトリクスの幅に対してグラデーションを形成する場合である。この場合、例えば、青カラーフィルタのみの膜厚が変化した場合には、青カラーフィルタの輝度むらは対策することができるが、赤カラーフィルタに対応する赤画素、および、緑カラーフィルタに対応する緑画素については、輝度むらが発生する場合がある。
図31A−図31Cは、このような場合に対応する、ブラックマトリクス幅の規定を示す平面図である。図31Aは、本実施形態における、図24の領域IIIにおけるブラックマトリクス202の幅及びブラックマトリクス開口領域幅bwを示す対向基板200の平面図である。図31Bは図24の領域IIにおけるブラックマトリクス202の幅及びブラックマトリクス開口領域幅bwを示す対向基板の平面図である。図31Cは、図24の領域IIIにおけるブラックマトリクス202の幅及びブラックマトリクス開口領域幅bwを示す対向基板の平面図である。
青カラーフィルタに対応する部分のブラックマトリクス202の幅は、図31Aで最も大きく、図31Cで最も小さく、図31Bはその中間である。言い換えると、青カラーフィルタに対応する部分のブラックマトリクス開口領域の幅bwは、図31Aで最も大きく、図31Cで最も小さく、図31Bはその中間である。一方、赤カラーフィルタおよび緑カラーフィルタに対応するブラックマトリクス開口領域の幅bwは、領域I、II、IIIで同じである。以後、赤カラーフィルタに対応するブラックマトリクス開口を赤開口といい、緑カラーフィルタに対応するブラックマトリクス開口を緑開口といい、青カラーフィルタに対応するブラックマトリクス開口を青開口という。
図32は、図24における領域I、II、IIIにおけるブラックマトリクス開口領域幅bwを示すグラフである。図32の横軸は位置であり、図32のゼロは図24の線ゼロに対応している。図32の縦軸は、ブラックマトリクス開口領域幅bwである。ブラックマトリクス開口領域幅は各測定場所における平均値である。
青開口は、領域IIにおいて、領域Iの幅から領域IIIの幅まで徐々に大きくなっている。一方、赤開口幅および緑開口幅は、領域I、II、IIIにて同じである。
ところで、各領域において、BM開口領域幅は分布を持っている。図32Bは、この様子を示す例である。図32Bの横軸は青カラーフィルタに対応するBM開口幅(以後青開口領域幅という)、縦軸は確率密度である。図32BのIは、図24の領域Iにおける青開口領域幅の分布を示している。領域Iにおいては、青開口領域幅の平均値はμ1であり、分散はσ1である。図32BのIIIは、図24の領域IIIにおける青開口領域幅の分布を示している。領域IIIにおいては、青開口領域幅の平均値はμ3であり、分散は領域Iと同じσ1である。
領域IIの分布は点線で示している。領域IIの分布は、領域Iに近い領域から領域IIIに近い領域に行くにしたがって、領域Iの分布から領域IIIの分布に変化していく。領域IIにおける分散も領域Iと同じσ1である。領域IIIと領域Iとの青開口領域幅の差(μ3−μ1)は、青開口領域幅の分散σ1よりも小さい。これを言い換えると、同じ青開口領域幅に着目すると、領域Iから領域IIIに行くにしたがって、その数が変化するということもできる。
図33は、赤、緑、青の各カラーフィルタの膜厚分布を示すグラフである。図33において、横軸は位置であり、縦軸はカラーフィルタの膜厚である。青カラーフィルタは、領域I、II、IIIにおいて、膜厚が変化しているが、赤カラーフィルタと緑カラーフィルタは領域I、II、IIIにおいて一定である。青カラーフィルタのみがスキャンむらの影響を受けた結果である。
図32に示すようなブラックマトリクスの開口領域幅の分布とすることで、カラーフィルタの膜厚が図33に示すような分布となった場合でも、色むらを生ずることなく、各色とも輝度を均一にすることが出来る。
一方、次のような方法によっても、むらを軽減することが出来る。すなわち、
以上の説明では、カラーフィルタの内、青カラーフィルタがスキャンむらの影響を最も受けるとして説明した。しかし、本発明は、他のカラーフィルタがスキャンむらの影響を受ける場合にも同様に適用することができる。
以上の説明では、カラーフィルタの内、青カラーフィルタがスキャンむらの影響を最も受けるとして説明した。しかし、本発明は、他のカラーフィルタがスキャンむらの影響を受ける場合にも同様に適用することができる。
また、以上の説明では、カラーフィルタは対向基板側に形成されるとして説明したが、カラーフィルタがTFT基板側に形成される場合も、本発明を同様に適用することができる。カラーフィルタがTFT基板側に形成される場合も、スキャンむらが発生することは同じだからである。
さらに、以上の説明では、IPS方式の液晶表示装置を例にとって本発明を説明したが、他の方式の液晶表示装置に対しても本発明を適用することが出来る。
10…走査線、 20…映像信号線、 30…画素、 40…メイン柱状スペーサ、 50…サブ柱状スペーサ、 90…配向方向、 100…TFT基板、 101…第1下地膜、 102…第2下地膜、 103…半導体層、 104…ゲート絶縁膜、 105…ゲート電極、 106…層間絶縁膜、 107…コンタクト電極、 108…無機パッシベーション膜、 109…有機パッシベーション膜、 110…コモン電極、 111…容量絶縁膜、 112…画素電極、 113…配向膜、 120…コンタクトホール、 130…コンタクトホール、 150…シール材、 160…端子領域、 200…対向基板、 201…カラーフィルタ、 201R…赤カラーフィルタ、 201G…緑カラーフィルタ、 201B…青カラーフィルタ、 202…ブラックマトリクス、 203…オーバーコート膜、 300…液晶層、 301…液晶分子、 400…液晶セル、 401…スクライビング線、 500…表示領域、 550…スキャンむら、 600…マルチレンズ、 601…マルチレンズ境界部、 610…露光マスク、 620…光源、 630…光、 650…照度分布、 1000…マザー基板、 2021…ブラックマトリクス開口領域、 D…ドレイン部、S…ソース部、 d…マルチレンズ境界部
Claims (16)
- 画素電極を有するTFT基板とブラックマトリクスを有する対向基板の間に液晶が挟持され、表示領域を有する液晶表示装置であって、
前記表示領域には、複数の第1の画素を有する第1の領域と、複数の第2の画素を有する第2の領域を有し、
前記第1の領域における複数の前記第1の画素におけるカラーフィルタの厚さは、前記第2の領域における複数の前記第2の画素におけるカラーフィルタの厚さよりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第1の領域における複数の前記第1の画素には、第1のカラーフィルタ、第2のカラーフィルタ、第3のカラーフィルタが対応し、前記第2の領域における複数の前記第2の画素には、前記第1のカラーフィルタ、前記第2のカラーフィルタ、前記第3のカラーフィルタが対応し、
前記第1のカラーフィルタの前記第1の領域における厚さは、前記第1のカラーフィルタの前記第2の領域における厚さよりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記第1のカラーフィルタは青カラーフィルタであることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。
- 前記表示領域には、TFT基板と対向基板の間隔を規定する柱状スペーサが形成されており、前記第1の領域における前記柱状スペーサの密度は、前記第2の領域における前記柱状スペーサの密度よりも大きいことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
- 前記第1の領域における画素電極の幅は、前記第2の領域における画素電極の幅よりも小さいことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
- 画素電極を有するTFT基板とブラックマトリクスを有する対向基板の間に液晶が挟持され、表示領域を有する液晶表示装置であって、
前記表示領域には、複数の第1の画素を有する第1の領域と、複数の第2の画素を有する第2の領域を有し、
前記ブラックマトリクスと前記ブラックマトリクスの間の幅をブラックマトリクス開口領域と定義した場合、前記第1の領域における複数の前記第1の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅は、前記第2の領域における複数の前記第2の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第1の領域における複数の前記第1の画素は、第1のカラーフィルタと第2のカラーフィルタと第3のカラーフィルタを含み、前記第2の領域における複数の前記第2の画素は、第1のカラーフィルタと第2のカラーフィルタと第3のカラーフィルタを含み、
前記第1の領域における前記第1のカラーフィルタに対応する前記ブラックマトリクス開口領域幅は、前記第2の領域における前記第1のカラーフィルタに対応する前記ブラックマトリクス開口領域幅よりも小さいことを特徴とする請求項6に記載の液晶表示装置。 - 前記第1のカラーフィルタは青カラーフィルタであることを特徴とする請求項7に記載の液晶表示装置。
- 前記表示領域には、TFT基板と対向基板の間隔を規定する柱状スペーサが形成されており、前記第1の領域における前記柱状スペーサの密度は、前記第2の領域における前記柱状スペーサの密度よりも大きいことを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
- 前記第1の領域における画素電極の幅は、前記第2の領域における画素電極の幅よりも小さいことを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
- 画素電極を有するTFT基板とブラックマトリクスを有する対向基板の間に液晶が挟持され、表示領域を有する液晶表示装置であって、
前記表示領域には、複数の第1の画素を有する第1の領域と、複数の第2の画素を有する第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の間であって、複数の第3の画素を有する第3の領域を有し、
前記第1の領域における複数の前記第1の画素におけるカラーフィルタの厚さは、前記第2の領域における複数の前記第2の画素におけるカラーフィルタの厚さよりも大きく、前記第3の領域における複数の前記第3の画素におけるカラーフィルタの厚さは、前記第1の領域から前記第2の領域に向かうに従い、前記第1の前記複数の画素におけるカラーフィルタの厚さから、前記第2の複数の前記第2の画素におけるカラーフィルタの厚さに徐々に薄くなっていくことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記カラーフィルタは、第1のカラーフィルタ、第2のカラーフィルタ、第3のカラーフィルタを含み、前記第1の領域における前記第1のカラーフィルタの厚さは、前記第2の領域における前記第1のカラーフィルタの厚さよりも大きく、前記第3の領域における前記第1のカラーフィルタの厚さは、前記第1の領域から前記第2の領域に向かうに従い、前記第1の領域の前記第1のカラーフィルタの厚さから、前記第2の領域における前記第1のカラーフィルタの厚さに徐々に薄くなっていくことを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置。
- 前記第1のカラーフィルタは青カラーフィルタであることを特徴とする請求項12に記載の液晶表示装置。
- 画素電極を有するTFT基板とブラックマトリクスを有する対向基板の間に液晶が挟持され、表示領域を有する液晶表示装置であって、
前記表示領域には、複数の第1の画素を有する第1の領域と、複数の第2の画素を有する第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の間であって、複数の第3の画素を有する第3の領域を有し、
前記ブラックマトリクスと前記ブラックマトリクスの間の幅をブラックマトリクス開口領域と定義した場合、前記第1の領域における複数の前記第1の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅は、前記第2の領域における複数の前記第2の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅よりも小さく、
前記第3の領域における複数の前記第3の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅は、前記第1の領域から前記第2の領域に向かうに従い、前記第1の前記複数の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅から、前記第2の複数の前記第2の画素における前記ブラックマトリクス開口領域の幅に徐々に大きくなっていくことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記カラーフィルタは、第1のカラーフィルタ、第2のカラーフィルタ、第3のカラーフィルタを含み、
前記第1の領域における前記第1の領域における前記第1のカラーフィルタに対応する前記ブラックマトリクス開口領域の幅は、前記第2の領域における前記第1のカラーフィルタに対応する前記ブラックマトリクスの開口領域の幅よりも小さく、前記第3の領域における前記第1のカラーフィルタに対応する前記ブラックマトリクスの開口領域の幅は、前記第1の領域から前記第2の領域に向かうに従い、前記第1の領域における前記第1のカラーフィルタに対応する前記ブラックマトリクス開口領域の幅から、前記第2の領域における前記第1のカラーフィルタに対応する前記ブラックマトリクスの開口領域の幅に徐々に大きくなっていくことを特徴とする請求項14に記載の液晶表示装置。 - 前記第1のカラーフィルタは、青カラーフィルタであることを特徴とする請求項15に記載の液晶表示装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016074128A JP2017187530A (ja) | 2016-04-01 | 2016-04-01 | 液晶表示装置 |
CN201720338919.0U CN207337004U (zh) | 2016-04-01 | 2017-03-31 | 液晶显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016074128A JP2017187530A (ja) | 2016-04-01 | 2016-04-01 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017187530A true JP2017187530A (ja) | 2017-10-12 |
Family
ID=60043995
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016074128A Pending JP2017187530A (ja) | 2016-04-01 | 2016-04-01 | 液晶表示装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017187530A (ja) |
CN (1) | CN207337004U (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019116745A1 (ja) * | 2017-12-14 | 2019-06-20 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置およびその製造方法 |
JP6625310B1 (ja) * | 2019-06-24 | 2019-12-25 | 三菱電機株式会社 | 湾曲型の液晶表示装置 |
CN112684638A (zh) * | 2019-10-18 | 2021-04-20 | 北京小米移动软件有限公司 | 显示面板和电子设备 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108803154B (zh) * | 2018-05-31 | 2021-10-29 | 厦门天马微电子有限公司 | 一种显示面板及显示装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08220527A (ja) * | 1995-02-13 | 1996-08-30 | Hitachi Ltd | カラーフィルタ基板とその製造方法および液晶表示装置 |
JP2003098517A (ja) * | 2001-09-20 | 2003-04-03 | Seiko Epson Corp | 液晶装置及びその製造方法並びに電子機器 |
US20070153215A1 (en) * | 2005-12-30 | 2007-07-05 | Lg Philips Lcd Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
JP2007271898A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Toray Ind Inc | 半透過型液晶表示装置用カラーフィルターおよびその製造方法、並びにそれを用いた半透過型液晶表示装置 |
-
2016
- 2016-04-01 JP JP2016074128A patent/JP2017187530A/ja active Pending
-
2017
- 2017-03-31 CN CN201720338919.0U patent/CN207337004U/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08220527A (ja) * | 1995-02-13 | 1996-08-30 | Hitachi Ltd | カラーフィルタ基板とその製造方法および液晶表示装置 |
JP2003098517A (ja) * | 2001-09-20 | 2003-04-03 | Seiko Epson Corp | 液晶装置及びその製造方法並びに電子機器 |
US20070153215A1 (en) * | 2005-12-30 | 2007-07-05 | Lg Philips Lcd Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
JP2007271898A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Toray Ind Inc | 半透過型液晶表示装置用カラーフィルターおよびその製造方法、並びにそれを用いた半透過型液晶表示装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019116745A1 (ja) * | 2017-12-14 | 2019-06-20 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置およびその製造方法 |
JP2019105784A (ja) * | 2017-12-14 | 2019-06-27 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置およびその製造方法 |
JP7038537B2 (ja) | 2017-12-14 | 2022-03-18 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置およびその製造方法 |
JP6625310B1 (ja) * | 2019-06-24 | 2019-12-25 | 三菱電機株式会社 | 湾曲型の液晶表示装置 |
WO2020261315A1 (ja) * | 2019-06-24 | 2020-12-30 | 三菱電機株式会社 | 湾曲型の液晶表示装置 |
CN112684638A (zh) * | 2019-10-18 | 2021-04-20 | 北京小米移动软件有限公司 | 显示面板和电子设备 |
CN112684638B (zh) * | 2019-10-18 | 2022-10-11 | 北京小米移动软件有限公司 | 显示面板和电子设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN207337004U (zh) | 2018-05-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10180602B2 (en) | Liquid crystal display device | |
JP6649788B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
US11126043B2 (en) | Liquid crystal display device | |
JP2017219615A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2017187530A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2016014779A (ja) | 液晶表示装置 | |
WO2012124662A1 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2016038433A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2016015404A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP6415856B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP6960002B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP6608014B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
US10001687B2 (en) | Liquid crystal display device | |
JP2020008887A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP7183366B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP6980730B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP6392957B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
WO2019159552A1 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2022020802A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2018124398A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2015219349A (ja) | 表示装置 | |
JP2014021267A (ja) | 液晶表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190130 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191217 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200630 |