JP2017183711A - 基板処理方法および基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
この方法によれば、オゾン含有フッ酸溶液吐出工程の後に、または前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程に並行して、ブラシ洗浄工程が実行される。
オゾン含有フッ酸溶液吐出工程では、ノズルから吐出されたオゾン含有フッ酸溶液は、基板の一方主面に供給される。オゾン含有フッ酸溶液に含まれるオゾンの酸化作用により基板の一方主面に酸化膜が形成される。また、オゾン含有フッ酸溶液に含まれるフッ酸の酸化膜エッチング作用により、基板の一方主面に形成された酸化膜が当該一方主面から剥離(リフトオフ)される。これにより、基板の一方主面に付着または形成されている異物(パーティクル、不純物、当該一方主面の剥れ等)を除去したり、基板の一方主面に形成されている傷(欠け、凹み等)を除去したりできる。酸化力の強いオゾンを用いるから基板の一方主面に多量の酸化膜を形成でき、これにより、多量の酸化膜を基板の一方主面から剥離できる。これにより、基板の一方主面の異物および/または傷を効率良く除去できる。
請求項2に記載の発明は、前記ブラシ洗浄工程は、前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程の後に実行される、請求項1に記載の基板処理方法である。
オゾン含有フッ酸溶液吐出工程では、ノズルから吐出されたオゾン含有フッ酸溶液は、基板の一方主面に供給される。オゾン含有フッ酸溶液に含まれるオゾンの酸化作用により基板の一方主面に酸化膜が形成される。また、オゾン含有フッ酸溶液に含まれるフッ酸の酸化膜エッチング作用により、基板の一方主面に形成された酸化膜が当該一方主面から剥離(リフトオフ)される。これにより、基板の一方主面に付着または形成されている異物(パーティクル、不純物、当該一方主面の剥れ等)を除去したり、基板の一方主面に形成されている傷(欠け、凹み等)を除去したりできる。酸化力の強いオゾンを用いるから基板の一方主面に多量の酸化膜を形成でき、これにより、多量の酸化膜を基板の一方主面から剥離できる。これにより、基板の一方主面の異物および/または傷を効率良く除去できる。
また、疎水化作用を有するフッ酸を含む薬液で基板の主面を処理する場合、当該薬液に含まれるフッ酸の働きによって基板の一方主面が疎水化されるおそれがある。基板の一方主面が疎水性を呈している状態で当該一方主面に洗浄ブラシが当接されると、洗浄ブラシにより掻き取られた異物が、当該洗浄ブラシを介して基板の一方主面に再付着するおそれがある。
この方法によれば、吐出されるオゾン含有フッ酸溶液のフッ酸濃度が前記の範囲内であるので、オゾン含有フッ酸溶液吐出工程において、基板の一方主面の疎水化を抑制しながら、当該一方主面を良好に洗浄できる。これにより、洗浄ブラシを介した基板の一方主面への異物の再付着を抑制または防止できる。
この方法によれば、吐出される前記オゾン含有フッ酸溶液のオゾン濃度が前記の範囲内であるので、オゾン含有フッ酸溶液吐出工程において、基板の一方主面を良好かつ安全に洗浄できる。
この方法によれば、吐出されるオゾン含有フッ酸溶液のフッ酸濃度が前記の範囲内であるので、オゾン含有フッ酸溶液吐出工程において、基板の一方主面の外周部に異物が再付着することなく、当該一方主面を良好に洗浄できる。
この方法によれば、吐出されるオゾン含有フッ酸溶液のオゾン濃度が前記の範囲内であるので、オゾン含有フッ酸溶液吐出工程において、基板の一方主面の外周部に異物が再付着することなく、当該一方主面を良好に洗浄できる。
請求項8に記載の発明は、前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程の後、前記基板の前記一方主面のオゾン含有フッ酸溶液を水で置換する水リンス工程をさらに含み、前記ブラシ洗浄工程は、前記水リンス工程と並行して実行される、請求項1〜7のいずれか一項に記載の基板処理方法である。
また、オゾン含有フッ酸溶液吐出工程に引き続いて水リンス工程を実行し、当該水リンス工程に並行してブラシ洗浄工程を実行する。したがって、オゾン含有フッ酸溶液吐出工程と水リンス工程との間に他の工程を入れる場合と比較して、一連の洗浄処理に要する時間を短縮でき、これにより、スループットの向上を図ることができる。
請求項10に記載の発明は、前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程と並行して、他方主面(Wa)への前記オゾン含有フッ酸溶液の回り込みを抑制または防止すべく、前記他方主面に保護流体を供給する保護流体供給工程(S4;T4)をさらに含む、請求項8または9に記載の基板処理方法である。
請求項11に記載の発明は、前記基板は半導体基板(W)を含み、前記基板の前記他方主面は、デバイスを形成するためのデバイス形成面であり、前記基板の前記一方主面は、前記デバイスが形成されないデバイス非形成面である、請求項10に記載の基板処理方法である。
また、基板のデバイス形成面に供給される保護流体によって、基板のデバイス形成面を保護できる。
請求項12に記載の発明は、前記保護流体供給工程は、前記他方主面に保護液を供給する保護液供給工程(S4)を含む、請求項10または11に記載の基板処理方法である。
この方法によれば、他方主面に保護液が供給される。そのため、オゾン含有フッ酸溶液吐出工程におけるオゾン含有フッ酸溶液の吐出流量の大小に拘らず、当該オゾン含有フッ酸溶液の基板の下面への回り込みを確実に防止できる。これにより、オゾン含有フッ酸溶液吐出工程におけるオゾン含有フッ酸溶液の吐出流量を大流量とすることも可能である。オゾン含有フッ酸溶液の吐出流量を大流量とすることにより、当該オゾン含有フッ酸溶液に含まれるオゾンの量をリッチに保つことができるから、基板の一方主面の外周部までオゾンを届かせることができる。これにより、オゾン含有フッ酸溶液吐出工程の後に実行されるブラシ洗浄工程における、基板の一方主面の外周部への異物の再付着を防止できる。
この方法によれば、オゾン含有フッ酸溶液吐出工程の後ブラシ洗浄工程に先立って、基板の一方主面にオゾン水が供給され、これにより、基板の一方主面の全域が親水化される。したがって、オゾン含有フッ酸溶液吐出工程後に基板の一部が疎水性を呈していても、オゾン水の供給により、当該疎水性を呈している部分が親水性を呈するようになる。これにより、ブラシ洗浄工程における、基板の一方主面への異物の再付着を防止できる。
請求項16に記載の発明は、前記基板の前記一方主面は、シリコン成分を含むシリコン含有面を含む、請求項1〜15のいずれか一項に記載の基板処理方法である。
この方法によれば、オゾン含有フッ酸溶液に含まれるオゾンの酸化作用により基板の一方主面にシリコン酸化膜が形成される。また、オゾン含有フッ酸溶液に含まれるフッ酸の酸化膜エッチング作用により、基板の一方主面に形成されたシリコン酸化膜が当該一方主面から剥離される。これにより、基板の一方主面に付着または形成されている異物(パーティクル、不純物、当該一方主面の剥れ等)を除去したり、基板の一方主面に形成されている傷(欠け、凹み等)を除去したりできる。酸化力の強いオゾンを用いるから基板の一方主面に多量のシリコン酸化膜を形成でき、これにより、多量のシリコン酸化膜を基板の一方主面からリフトオフできる。これにより、基板の一方主面の異物および/または傷を効率良く除去できる。
請求項18に記載のように、前記基板の前記一方主面は、イリジウム金属残渣を含むイリジウム金属残渣含有面を含んでいてもよい。
前記の目的を達成するための請求項19に記載の発明は、基板(W)を保持する基板保持ユニット(5;205)と、前記基板保持ユニットに保持されている基板の一方主面(Wb)に向けてオゾン含有フッ酸溶液を吐出するためのノズル(6;206)と、前記ノズルに、前記オゾン含有フッ酸溶液を供給するオゾン含有フッ酸溶液供給装置(7;207)と、前記一方主面に接触して当該一方主面を洗浄するための洗浄ブラシ(10;210)と、前記洗浄ブラシを駆動するための洗浄ブラシ駆動ユニット(11;211)とを含み、前記オゾン含有フッ酸溶液供給装置および前記洗浄ブラシ駆動ユニットを制御して、前記基板保持ユニットに保持されている前記基板の一方主面に向けて、前記ノズルから、フッ酸溶液にオゾンが溶解したオゾン含有フッ酸溶液を吐出するオゾン含有フッ酸溶液吐出工程(S5;T6)と、前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程の後に、または前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程に並行して、前記基板の前記一方主面に前記洗浄ブラシを当接させて当該一方主面を洗浄するブラシ洗浄工程(S7;T9)とを実行する制御装置(3;203)を含む、基板処理装置(1;201;301)を提供する。
一方、オゾン含有フッ酸溶液に含まれるフッ酸によって、基板の一方主面が疎水化されるおそれがある。基板の一方主面が疎水性を呈している状態で、当該一方主面に洗浄ブラシが当接されると、洗浄ブラシにより掻き取られた異物が基板の一方主面に再付着するおそれがある。
請求項20に記載の発明は、前記ノズル(6;206)は、フッ酸溶液とオゾン水とを混合して前記オゾン含有フッ酸溶液を生成するための混合室(35,235)と、前記混合室で生成された前記オゾン含有フッ酸溶液を吐出するための吐出口(37,237)を有し、前記オゾン含有フッ酸溶液供給装置は、フッ酸溶液供給源からの前記フッ酸溶液を前記混合室に供給するフッ酸配管(23;123)と、オゾン水供給源からの前記オゾン水を前記混合室に供給するオゾン水配管(24;124)とを含む、請求項19に記載の基板処理装置である。
また、ノズルの内部でフッ酸溶液とオゾン水とを混合するので、混合直後(生成直後)のオゾン含有フッ酸溶液をノズルから吐出できる。フッ酸溶液に溶解されたオゾンは、溶解直後から分解を開始するのであるが、混合直後(生成直後)のオゾン含有フッ酸溶液をノズルから吐出できるので、オゾンの分解が進んでいないオゾン含有フッ酸溶液を、基板に供給できる。
図1は、この発明の第1の実施形態に係る基板処理装置1の内部のレイアウトを説明するための図解的な平面図である。
基板処理装置1は、半導体ウエハ(半導体基板)からなる円板状の基板Wを、処理液や処理ガスによって一枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置1は、複数のキャリアCを保持するロードポートLPと、基板Wの姿勢を上下反転させる反転ユニットTUと、基板Wを処理する複数の処理ユニット2とを含む。ロードポートLPおよび処理ユニット2は、水平方向に間隔を空けて配置されている。反転ユニットTUは、ロードポートLPと処理ユニット2との間で搬送される基板Wの搬送経路上に配置されている。
処理ユニット2は、内部空間を有する箱形の処理チャンバー4と、処理チャンバー4内で一枚の基板Wを水平な姿勢で保持して、基板Wの中心を通る鉛直な回転軸線A1まわりに基板Wを回転させるスピンチャック(基板保持ユニット)5と、スピンチャック5に保持されている基板Wの上面(裏面(一方主面)Wb)に向けて、オゾン含有フッ酸溶液(以下、FOMという)を吐出するためのFOMノズル6と、FOMノズル6にFOMを供給するためのFOM供給装置7と、スピンチャック5に保持されている基板Wの上面に水を供給するための水供給ユニット8と、基板Wの上面(裏面Wb)に接触して当該上面をスクラブ洗浄するための洗浄ブラシ10と、洗浄ブラシ10を駆動するための洗浄ブラシ駆動ユニット11と、スピンチャック5に保持されている基板Wの下面(表面(他方主面)Wa)に保護液を供給するための保護液供給ユニット12と、スピンチャック5を取り囲む筒状の処理カップ(図示しない)とを含む。
スピンベース17は、基板Wの外径よりも大きな外径を有する水平な円形の上面17aを含む。上面17aには、その周縁部に複数個(3個以上。たとえば6個)の挟持部材18が配置されている。複数個の挟持部材18は、スピンベース17の上面17aの周縁部において、基板Wの外周形状に対応する円周上で適当な間隔を空けてたとえば等間隔に配置されている。
保護液として、たとえば水が採用される。水は、たとえば脱イオン水(DIW)である。DIWに限らず、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水および希釈濃度(たとえば、10ppm〜100ppm程度)の塩酸水のいずれかであってもよい。
フッ酸配管23の途中部には、フッ酸配管23を開閉するためのフッ酸バルブ25、およびフッ酸流量調整バルブ26が介装されている。フッ酸バルブ25は、制御装置3による制御により開閉される。図示はしないが、フッ酸流量調整バルブ26は、弁座が内部に設けられたバルブボディと、弁座を開閉する弁体と、開位置と閉位置との間で弁体を移動させるアクチュエータとを含む。他の流量調整バルブについても同様である。
図3に示すように、FOMノズル6は、たとえば、いわゆるストレートノズルの構成を有している。FOMノズル6は、略円筒状をなすケーシング31を備える。FOMノズル6は、ケーシング31の中心軸線が鉛直方向に延びる鉛直姿勢で、ノズルアーム21(図2参照)に取り付けられている。ケーシング31は、第1の円筒部38と、第1の円筒部38よりも小径でかつ第1の円筒部38と同軸の円筒形状の第2の円筒部39とを備える。第2の円筒部39が第1の円筒部38よりも小径であるので、第2の円筒部39内の内部の流路断面は、第1の円筒部38の流路断面よりも小面積である。第1の円筒部38および第2の円筒部39は鉛直方向に沿う内壁を有している。
フッ酸バルブ25(図2参照)およびオゾン水バルブ27(図2参照)が開かれると、フッ酸配管23からの希フッ酸が、フッ酸導入口32から混合室35へと供給されるとともに、オゾン水配管24からのオゾン水が、オゾン水導入口33から混合室35へと供給される。混合室35に流入した希フッ酸およびオゾン水は、混合室35の下部分において十分に混合(攪拌)される。この混合によって、希フッ酸とオゾン水とが均一に混ざり合い、フッ酸およびオゾンの混合液(FOM)が生成される。ケーシング31の第2の円筒部39の先端(下端)には、生成されたFOMを外部空間36に向けて吐出するための吐出口37を有している。混合室35において生成されたFOMは、第2の円筒部39の内部を通って、吐出口37から吐出される。これにより、簡単な構成で、FOMノズルからFOMを吐出できる。
保護液供給ユニット12は、前述の下面供給配管19および下面ノズル20と、下面供給配管19に接続された保護液配管44と、保護液配管44を開閉するための保護液バルブ45と、保護液配管44の開度を調整して、保護液配管44の流通流量を調整するための保護液流量調整バルブ46とを含む。下面ノズル20から吐出される保護液としての水は、たとえば脱イオン水(DIW)である。DIWに限らず、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水および希釈濃度(たとえば、10ppm〜100ppm程度)の塩酸水のいずれかであってもよい。保護液バルブ45が開かれると、保護液配管44および下面供給配管19を介して下面ノズル20に保護液が供給される。下面ノズル20は、供給された保護液をほぼ鉛直上向きに吐出し、下面ノズル20から吐出された処理液は、スピンチャック5に保持された基板Wの下面中央部に対してほぼ垂直に入射する。下面ノズル20から吐出される保護液の流量は、保護液流量調整バルブ46によって調節されるようになっている。
洗浄ブラシ駆動ユニット11は、洗浄ブラシ10を先端部に保持する揺動アーム47と、揺動アーム47を駆動するためのアーム駆動ユニット48とを含む。アーム駆動ユニット48は、揺動アーム47を、鉛直方向に延びる揺動軸線A2回りに揺動させたり、揺動アーム47を上下動させたりすることができるように構成されている。この構成により、基板Wがスピンチャック5に保持されて回転しているときに、洗浄ブラシ10を、基板Wの上方の位置と、スピンチャック5の側方に設定されたホーム位置との間で水平に移動させることができる。
このスクラブ洗浄の際に、水ノズル41から水(たとえば純水(deionized Water:脱イオン水))が供給されることによって、基板Wの上面(裏面Wb)の異物が取れやすくなり、また、洗浄ブラシ10によって擦り落とされた異物を基板W外へと排出することができる。
制御装置3は、予め定められたプログラムに従って、スピンモータ15、ノズル移動ユニット22、アーム駆動ユニット48等の動作を制御する。さらに、制御装置3は、 フッ酸バルブ25、フッ酸流量調整バルブ26、オゾン水バルブ27、オゾン水流量調整バルブ28、水バルブ43、保護液バルブ45、保護液流量調整バルブ46等の開閉動作等を制御する。
図1、図2、図5および図6を参照しながら説明する。また、図7A〜7Eについては適宜参照する。なお、図7B〜7Eでは、説明の関係上、スピンベース17および挟持部材18の構成は省略して記載している。
FOMノズル6から吐出されるFOMのオゾン濃度は、22.5ppm以上67.2ppm以下である。より好ましくは、22.5ppm以上42.0ppm以下である。吐出されるFOMのオゾン濃度が22.5ppm未満であれば、FOMに含まれるオゾンが少なく、基板Wの裏面Wbの外周部まで届かない。そのため、基板Wの裏面Wbの外周部が、フッ酸による疎水化のために疎水性を呈するおそれがある。基板Wの裏面Wbの外周部が疎水性を呈している状態でブラシ洗浄工程が実行されると、基板Wの裏面Wbの外周部に異物が再付着するおそれがある。また、オゾン濃度が42.0ppmを超すと、FOMに大量の気泡が含まれるため、基板処理に適さない。また、FOMのオゾン濃度が42.0ppmを超すと、PFA配管からなるオゾン水配管24の管壁を透過して、オゾンがオゾン水配管24から露出するおそれがある。さらに、オゾンの濃度が高くなるにつれて、オゾンの毒性が高くなる。吐出されるFOMのオゾン濃度が42.0ppmを超すことは、安全面の観点から望ましくない。
これにより、FOM供給工程(S5)の終了時点において、基板Wの裏面Wbを親水面に保つことができる。
具体的には、制御装置3は、図7Dに示すように、水バルブ43を開いて、基板Wの裏面Wbの中央部に向けて水ノズル41から水を吐出させる。水ノズル41から吐出された水は、FOMによって覆われている基板Wの裏面Wbの中央部に着液する。基板Wの裏面Wbの中央部に着液した水は、基板Wの回転による遠心力を受けて基板Wの裏面Wb上を基板Wの外周部に向けて流れ、基板Wの裏面Wbの全域へと広がる。そのため、基板W上のFOMが、水によって外方に押し流され、基板Wの周囲に排出される。これにより、基板W上のFOMの液膜LF2が、基板Wの裏面Wb全域を覆う水の液膜LF3に置換される。また、このとき、水ノズル41からの水吐出流量は、たとえば0.5(リットル/分)〜2(リットル/分)である。
ところで、基板Wの裏面Wbが疎水性を呈している状態で、基板Wの裏面Wbを洗浄ブラシ10でスクラブすると、洗浄ブラシ10により掻き取られた異物が、疎水化している裏面Wbに移り、当該裏面Wbに付着するおそれがある。すなわち、洗浄ブラシ10を介して基板Wの裏面Wbに再付着するおそれがある。
洗浄ブラシ10の往動が予め定める回数(たとえば4回)行われた後、制御装置3は、アーム駆動ユニット48を制御して、洗浄ブラシ10をスピンチャック5の上方からホーム位置に戻す。また、制御装置3は、水バルブ43を閉じて、水ノズル41からの水の吐出を停止させる。制御装置3は、保護液バルブ45を閉じて、下面ノズル20からの保護液の吐出を停止させる。これにより、ブラシ洗浄工程(S7)が終了する。
次に、基板Wを乾燥させるスピンドライ工程(ステップS8)が行われる。具体的には、制御装置3は、スピンモータ15を制御することにより、FOM供給工程(S5)およびブラシ洗浄工程(S7)での回転速度よりも大きい乾燥回転速度(たとえば数千rpm)まで基板Wを加速させ、乾燥回転速度で基板Wを回転させる。これにより、大きな遠心力が基板W上の液体に加わり、基板Wに付着している液体が基板Wの周囲に振り切られる。このようにして、基板Wから液体が除去され、基板Wが乾燥する。
これに対しこの実施形態では、FOM供給工程(S5)の終了時に基板Wの裏面Wbの基板Wの裏面Wbの全域が親水性に保たれている。そのため、基板Wの裏面Wbが親水性を呈している状態で、基板Wにスピンドライ工程(S8)が実行される。これにより、スピンドライ工程(S8)における基板処理不良の発生を抑制または防止できる。
次に、処理チャンバー4内から基板Wが搬出される(ステップS10)。具体的には、制御装置3は、全てのノズル等がスピンチャック5の上方から退避している状態で、センターロボットCRのハンドH2を処理チャンバー4の内部に進入させる。挟持部材18が、挟持姿勢から非挟持姿勢に切り換えられ、これにより、スピンチャック5により離脱可能となる。そして、制御装置3は、センターロボットCRのハンドH2にスピンチャック5上の基板Wを保持させる。その後、制御装置3は、センターロボットCRのハンドH2を処理チャンバー4内から退避させる。これにより、洗浄処理済みの基板Wが処理チャンバー4から搬出される。制御装置3は、センターロボットCRのハンドH2によって、洗浄処理済みの基板Wを反転ユニットTUに搬送させる。そして、制御装置3は、搬送されてきた基板Wを、反転ユニットTUによって反転させる(ステップS11)。これにより、基板Wの表面Waが上に向けられる。その後、制御装置3は、インデクサロボットIRのハンドH1によって、反転ユニットTUから基板Wを取り出し、洗浄処理済みの基板Wを、その表面Waを上に向けた状態でキャリアCに収容する。洗浄処理済みの基板Wが収容されたキャリアC、基板処理装置1から、露光装置等の後処理装置に向けて搬送される。
また、疎水化作用を有するフッ酸を含む薬液で基板Wの裏面Wbを処理する場合、当該薬液に含まれるフッ酸の働きによって基板Wの裏面Wbが疎水化されるおそれがある。基板Wの裏面Wbが疎水性を呈している状態で当該一方主面に洗浄ブラシ10が当接されると、洗浄ブラシ10により掻き取られた異物が、洗浄ブラシ10を介して基板Wの裏面Wbに再付着するおそれがある。
図8は、第2の実施形態に係る基板処理装置201に備えられた処理ユニット202の構成例を説明するための図解的な断面図である。
昇降永久磁石125は、回転軸線A1と同軸の円環状に形成されていて、回転軸線A1に直交する平面(水平面)に沿って配置されている。昇降永久磁石125は、より具体的には、回転軸線A1に対して、保護ディスク側永久磁石160よりも遠く、かつピン駆動用永久磁石156よりも近い位置に配置されている。つまり、平面視において、円環状の昇降永久磁石125は、保護ディスク側永久磁石160とピン駆動用永久磁石156との間に位置している。また、昇降永久磁石125は、保護ディスク側永久磁石160よりも低い位置に配置されている。昇降永久磁石125の磁極方向は、この実施形態では、水平方向、すなわち回転台107の回転半径方向に沿っている。保護ディスク側永久磁石160が下面にS極を有する場合には、昇降永久磁石125は、回転半径方向内方に同じ磁極、すなわちS極をリング状に有するように構成される。
可動ピン112は、回転軸線112aから偏心した位置に上軸部152を有している(図13参照)。したがって、下軸部151の回転により、上軸部152は、回転軸線A1から離れた遠い開放位置と、回転軸線A1に近づいた保持位置との間で変位することになる。可動ピン112の上軸部152は、ばね等の弾性押圧部材(図示しない)の弾性押圧力によって開放位置へと付勢されている。したがって、ピン駆動用永久磁石156が昇降永久磁石125からの吸引磁力を受けないときには、回転軸線A1から離れた開放位置に可動ピン112が位置している。
フッ酸配管223の途中部には、フッ酸配管223を開閉するためのフッ酸バルブ225、およびフッ酸流量調整バルブ226が介装されている。フッ酸バルブ225は、制御装置203による制御により開閉される。図示はしないが、フッ酸流量調整バルブ226は、弁座が内部に設けられたバルブボディと、弁座を開閉する弁体と、開位置と閉位置との間で弁体を移動させるアクチュエータとを含む。他の流量調整バルブについても同様である。
図14に示すように、FOMノズル206は、略円筒状をなすケーシング231を備える。FOMノズル206は、ケーシング231の中心軸線が鉛直方向に延びる鉛直姿勢で、ノズルアーム221(図8参照)に取り付けられている。ケーシング231は、第1の円筒部238と、第1の円筒部238よりも小径でかつ第1の円筒部238と同軸の円筒形状の第2の円筒部239とを備える。第2の円筒部239が第1の円筒部238よりも小径であるので、第2の円筒部239内の内部の流路断面は、第1の円筒部238の流路断面よりも小面積である。第1の円筒部238および第2の円筒部239は鉛直方向に沿う内壁を有している。
洗浄ブラシ210は、たとえばPVA(ポリビニルアルコール)からなるスポンジ状のスクラブ部材であり、円柱状をなしている。洗浄ブラシ210は、その下面に、平坦状の洗浄面210aを有している。洗浄面210aが、基板Wの上面と接触する接触面として機能する。
このスクラブ洗浄の際に、水ノズル241から水(たとえば純水(deionized Water:脱イオン水))が供給されることによって、基板Wの上面(裏面Wb)の異物が取れやすくなり、また、洗浄ブラシ210によって擦り落とされた異物を基板W外へと排出することができる。
制御装置203は、予め定められたプログラムに従って、回転駆動ユニット103、ノズル移動ユニット222、アーム駆動ユニット248、磁石昇降ユニット126等の動作を制御する。さらに、制御装置203は、フッ酸バルブ225、フッ酸流量調整バルブ226、オゾン水バルブ227、オゾン水流量調整バルブ228、水バルブ243、不活性ガスバルブ173、不活性ガス流量調整バルブ174等の開閉動作等を制御する。
図1、図8〜図13および図17を参照しながら説明する。また、図18A〜18Fおよび図19については適宜参照する。また、基板Wの裏面Wbの外周部は、たとえば、直径300mmの基板Wの裏面Wbにおいて、当該基板Wの周縁に沿う幅10mm程度の環状領域である。
FOM供給工程(T6)におけるFOMの供給流量は、0.5(リットル/分)以上1.0(リットル/分)以下であることが好ましい。この場合、基板Wの表面WaへのFOMの回り込みを防止できる。また、当該吐出流量は、0.8(リットル/分)以下であることがさらに好ましく、この場合、基板Wの表面WaへのFOMの回り込みを、より一層確実に防止できる。
FOMノズル206から吐出されるFOMのオゾン濃度は、22.5ppm以上67.2ppm以下である。より好ましくは、22.5ppm以上42.0ppm以下である。オゾン濃度が42.0ppmを超すと、FOMに大量の気泡が含まれるため、基板処理に適さない。また、FOMのオゾン濃度が42.0ppmを超すと、PFA配管からなるオゾン水配管224の管壁を透過して、オゾンがオゾン水配管224から露出するおそれがある。さらに、オゾンの濃度が高くなるにつれて、オゾンの毒性が高くなる。吐出されるFOMのオゾン濃度が42.0ppmを超すことは、安全面の観点から望ましくない。
FOMの吐出開始から予め定めるFOM処理時間が経過すると、FOM供給工程(T6)が終了する。FOM供給工程(T6)の終了に引き続いて、オゾン水を基板Wに供給するオゾン水供給工程(ステップT7)が行われる。
FOMノズル206からのオゾン水の吐出開始から予め定めるオゾン水供給時間が経過すると、制御装置203は、オゾン水バルブ227を閉じて、FOMノズル206からのオゾン水の吐出を停止させる。オゾン水供給時間は、5秒以上であることが好ましく、この場合には、基板Wの裏面Wbの全域(外周部を含む)を良好に疎水化できる。また、制御装置203は、FOMノズル206を中央位置からホーム位置に移動させる。これにより、FOMノズル206が基板Wの上方から退避させられる。
具体的には、制御装置203は、図18Eに示すように、水バルブ243を開いて、基板Wの裏面Wbの中央部に向けて水ノズル241から水を吐出させる。水ノズル241から吐出された水は、オゾン水によって覆われている基板Wの裏面Wbの中央部に着液する。基板Wの裏面Wbの中央部に着液した水は、基板Wの回転による遠心力を受けて基板Wの裏面Wb上を基板Wの外周部に向けて流れ、基板Wの裏面Wbの全域へと広がる。そのため、基板W上のオゾン水が、水によって外方に押し流され、基板Wの周囲に排出される。これにより、基板W上のオゾン水の液膜LF4が、基板Wの裏面Wb全域を覆う水の液膜LF3に置換される。
また、この実施形態では、洗浄ブラシ210によって基板Wの周縁にごく近い位置まで洗浄できるように揺動アーム247のスキャン幅が設定されている。
しかしながら、本実施形態では、ブラシ洗浄工程(T9)に先立ってオゾン水供給工程(T7)を実行している。したがって、ブラシ洗浄工程(T9)の開始時に、基板Wの裏面Wbの全域が親水性に保持されており、これにより、FOM供給工程(T6)において、洗浄ブラシ210を介した基板Wの裏面Wbへの異物の再付着が発生しない。
洗浄ブラシ210の往動が予め定める回数(たとえば4回)行われた後、制御装置203は、アーム駆動ユニット248を制御して、洗浄ブラシ210をスピンチャック205の上方からホーム位置に戻す。また、制御装置203は、水バルブ243を閉じて、水ノズル241からの水の吐出を停止させる。制御装置203は、保護液バルブ245を閉じて、不活性ガス供給管170からの保護気体(不活性ガス)の吐出を停止させる。これにより、ブラシ洗浄工程(T9)が終了する。
次に、基板Wを乾燥させるスピンドライ工程(ステップT10)が行われる。具体的には、制御装置203は、回転駆動ユニット103を制御することにより、FOM供給工程(T6)からブラシ洗浄工程(T9)までの回転速度よりも大きい乾燥回転速度(たとえば数千rpm)まで基板Wを加速させ、乾燥回転速度で基板Wを回転させる。これにより、大きな遠心力が基板W上の液体に加わり、基板Wに付着している液体が基板Wの周囲に振り切られる。このようにして、基板Wから液体が除去され、基板Wが乾燥する。
これに対しこの実施形態では、FOM供給工程(T6)の後にオゾン水供給工程(T7)が実行されているため、基板Wの裏面Wbが親水性を呈している状態で、基板Wにスピンドライ工程(T10)が実行される。これにより、スピンドライ工程(T10)における基板処理不良の発生を抑制または防止できる。
そして、制御装置203は、磁石昇降ユニット126を制御することにより、昇降永久磁石125を下方位置へと下降させる(ステップT12)。これにより、昇降永久磁石125と保護ディスク側永久磁石160との間の距離が広がり、それらの間の磁気反発力が減少していく。それに伴い、保護ディスク115は、回転台107の上面に向かって降下していく。これにより、保護ディスク115の上面と基板Wの裏面Wb(下面)との間には、センターロボットCRのハンドH2を進入させることができるだけの空間が確保される。一方、昇降永久磁石125がピン駆動用永久磁石156に対向しなくなるので、可動ピン112を保持位置へと付勢する外力が失われ、弾性押圧部材(図示しない)からの弾性押圧力を受けて、可動ピン112は開放位置へと付勢されることになる。これによって、基板Wの握持が解除される。
FOM供給工程(T6)では、基板Wの裏面WbにFOMが供給され、FOMに含まれるオゾンの酸化作用により、シリコン基板である基板Wの裏面Wbにシリコン酸化膜が形成される。また、FOMに含まれるフッ酸の酸化膜エッチング作用により、基板Wの裏面Wbに形成されたシリコン酸化膜が当該裏面Wbから剥離(リフトオフ)される。これにより、基板Wの裏面Wbから異物(パーティクル、不純物、当該基板Wの裏面Wbの剥れ等)を除去したり、基板Wの裏面Wbに形成されている傷(欠け、凹み等)を除去したりできる。酸化力の強いオゾンを用いるから基板Wの裏面Wbに多量の酸化膜を形成でき、これにより、多量の酸化膜を基板Wの裏面Wbから剥離できる。これにより、基板Wの裏面Wbの異物および/または傷を効率良く除去できる。
また、オゾン水供給工程(T7)において基板Wの裏面Wbに供給されるオゾン水のオゾン濃度が50ppm以上である。そのため、基板Wの裏面Wbの全域を、良好に親水化できる。これにより、基板Wの裏面Wbの全域が親水化された状態で、ブラシ洗浄工程(T9)を行うことができる。
<第1の洗浄試験>
次に、第1の洗浄試験について説明する。第1の洗浄試験では、合計11個の試料に対し、下記の実施例1、実施例2または比較例の態様の洗浄試験を行った。
図20から、洗浄薬液としてFOMを用いた実施例では、洗浄薬液としてFOMを用いた比較例と比較して、洗浄処理によるパーティクル除去率が著しく向上していることがわかる。
<第2の洗浄試験>
次に、第2の洗浄試験について説明する。第2の洗浄試験は、パーティクル除去率(洗浄性能)の、ウエハWに供給されるFOMの流量依存性を調べることを目的としている。第2の洗浄試験では、アモルファスシリコンウエハ(直径300mm)Wを試料として採用し、実施例2では、第2の実施形態に係る図17に示す洗浄処理からステップT7の工程を削除した処理を、ウエハWに対して施した。このとき、FOM供給工程(T6)において処理対象面に供給されるFOMは、フッ酸濃度0.559wt.%(フッ酸と水との体積比1:100)の希釈フッ酸と、30ppmのオゾン水とを、1:3の割合で混合させて生成する。このときのFOMのフッ酸濃度は0.140wt.%であり、当該FOMのオゾン濃度は22.5ppmである。
そして、各洗浄処理後のウエハWについて、80nm以上のパーティクルおよび0.5μm以上のパーティクルの除去率を調べた。当該除去率は、洗浄処理によりウエハWの処理対象面上から減少したパーティクルを、洗浄処理前の当該処理対象面上のパーティクルで除した値である。その結果を図21Aに示す。また、図21A中の「PRE」とは、除去率(Particle Removal Efficiency)の略である。
一方、供給流量が1.0(LPM)以上である場合に、洗浄処理によるパーティクル除去率が高いことがわかる。とくに、供給流量が1.5(LPM)以上である場合には、0.5μm以上の大きなパーティクルだけでなく、80nm以上の微細パーティクルも良好に除去されていることがわかる。
一方、図21Dに示すように、供給流量が1.0(LPM)以上では、外周モードの発生が見られなかった。
<第3の洗浄試験>
ところで、本願発明者らは、第2の実施形態に係る基板処理装置201(処理対象面の反対面(以下、単に「反対面」という場合がある。)を不活性ガス等の保護気体で保護)を用いながら、第2の実施形態に係る図17に示す洗浄処理からステップT7の工程を削除した処理を実施することを検討していた。
そして、各洗浄処理後のウエハWについて、26nm以上のパーティクル数を、パーティクルカウンタを用いて調べた。その結果を図22に示す。
図22から、FOMの供給流量が900(ミリリットル/分)である場合には、当該供給流量が800(ミリリットル/分)である場合と比較して、発生するパーティクルの量が格段に少ない。このことから、FOMの供給流量800(ミリリットル/分)程度が下限であるが、当該供給流量を900(ミリリットル/分)に上昇させれば、より洗浄性能が向上することがわかる。
<第4の洗浄試験>
また、本願発明者らは、供給するFOM中のフッ酸濃度を低下させれば外周モードの発生を抑制でき、その結果洗浄効率が向上するのはないかと考えている。また、本願発明者らは、供給するFOM中のオゾン濃度を上昇させれば、洗浄効率が向上するのではないかと考えている。そして、これらを組み合わせることにより、FOMの供給流量を低く抑えながら、外周モードの発生を抑制または防止することを実現できると考えている。
また、洗浄処理後のウエハWについて実施例3〜実施例6について、洗浄処理後のウエハWの処理対象面の状態を観察した。図23Bに実施例3のウエハWの処理対象面の画像図を示し、図23Cに実施例4のウエハWの処理対象面の画像図を示す。実施例5および実施例6は、それぞれ、実施例4の場合と同様の図であるので、図示を省略する。
図24は、この発明の第3の実施形態に係る基板処理装置301に含まれる処理ユニット302の構成例を説明するための図解的な断面図である。
第2の実施形態において、第1の実施形態に示された各部に対応する部分には、図1〜図7Eの場合と同一の参照符号を付して示し、説明を省略する。
次いで、制御装置3は、FOMを基板Wの裏面Wbに供給するFOM供給工程を行う(図6のステップS5)。FOM供給工程(S5)では、FOMノズル6が基板Wの中央部の上方に配置される。FOMノズル6が基板Wの上方に配置された後、制御装置3は、フッ酸バルブ325および水バルブ43を同時に開く。これにより、フッ酸配管223の内部を流通する濃フッ酸がFOMノズル6に供給されると共に、オゾン水配管24を流通するオゾン水がFOMノズル6に供給される。そして、FOMノズル6のケーシング内において濃フッ酸とオゾン水とが混合され、フッ酸濃度の高いFOMが生成される。図25Cに示すように、フッ酸濃度の高いFOMが、FOMノズル6の吐出口37から吐出され、基板Wの裏面Wbの中央部に供給される。基板Wの中央部に供給されたFOMは、基板Wの回転による遠心力を受けて、基板Wの裏面Wbを外周部に向けて放射状に広がり、これにより、基板Wの裏面Wbの全域にフッ酸濃度の高いFOMを行き渡らせることができる。その結果、図25Cに示すように、基板Wの裏面Wb全域を覆うFOMの液膜LF12が基板W上に形成される。フッ酸濃度の高いFOMにより、基板Wの裏面Wb(とくに外周部)に付着しているイリジウム金属残渣が良好に除去される。これにより、基板Wの裏面Wbを良好に洗浄できる。
FOMノズル6から吐出されるFOMにおける濃フッ酸とオゾン水の混合比は、約1:1〜約1:3の範囲である。
FOMの吐出開始から予め定める期間が経過すると、FOM供給工程(図6のS5)が終了する。FOM供給工程(S5)の終了に引き続いて、リンス液である水が基板Wの裏面Wbに供給開始される(図6のステップS6)。
制御装置3は、水バルブ43を開いて、基板Wの裏面Wbの中央部に向けて水ノズル41から水を吐出させる。これにより、図25Dに示すように、基板W上のFOMの液膜LF12が、基板Wの裏面Wb全域を覆う水の液膜LF13に置換される。水ノズル41の水の吐出開始から、予め定める時間が経過すると、制御装置3は、アーム駆動ユニット48を制御して、図25Eに示すように、洗浄ブラシ10による基板Wの裏面Wbのスクラブ洗浄を実行する(図6のS7:ブラシ洗浄工程)。これにより、基板Wの裏面Wbに対して、水を供給しながら洗浄ブラシ10によるスクラブ洗浄が行われる。洗浄ブラシ10によるスクラブ洗浄は、第1の実施形態に係る洗浄処理におけるブラシ洗浄工程(図6のS7)の場合と同等であり、そのため、説明を省略する。
FOM処理(S5)およびブラシ洗浄工程(S7)を連続して行うことにより、基板Wの裏面Wbの全域からチャック痕の大半を除去できる。これにより、一連の洗浄処理の次工程(たとえば露光工程)における歩留まりを向上させることができる。
これに対しこの実施形態では、FOM供給工程(S5)の終了時に基板Wの裏面Wbの基板Wの裏面Wbの全域が親水性に保たれている。そのため、基板Wの裏面Wbが親水性を呈している状態で、基板Wにスピンドライ工程(S8)が実行される。これにより、スピンドライ工程(S8)における基板処理不良の発生を抑制または防止できる。
次に、処理チャンバー4内から基板Wが搬出される(ステップS10)。搬出された基板Wは、反転ユニットTU(図1参照)によって反転させられ(図6のステップS11)、洗浄処理済みの基板Wは、その表面Waを上に向けた状態でキャリアCに収容される。洗浄処理済みの基板Wが収容されたキャリアCは、基板処理装置1から、露光装置等の後処理装置に向けて搬送される。
<第5の洗浄試験>
次に、第5の洗浄試験について説明する。第5の洗浄試験では、下記の実施例7〜実施例9および比較例1,比較例2の合計5つの試験を行った。
実施例7:洗浄薬液としてFOMを処理対象面に供給した。実施例7では、ウエハWの処理対象面に対し図25A〜図25Eに示す洗浄処理と同等の処理を施した。このとき、FOM供給工程(図6のS5)において、処理対象面に供給されるFOMにおける濃フッ酸とオゾン水の混合比は、約1:1であり、このときのフッ酸濃度は約26.26wt.%である。また、このFOMのオゾン濃度は約50ppmである。図27において、「FOM→ブラシA」との記載は、FOM供給工程(図6のS5)の後にブラシ洗浄工程(図6のS7)を実行するということである。図27における他の同様の標記についても同じ。また、「ブラシA」は、ブラシ工程(図6のS7)において用いられる洗浄ブラシ10として、耐薬性を有しないブラシを用いることを指し示している。
実施例8:洗浄薬液としてFOMを処理対象面に供給した。実施例8では、ウエハWの処理対象面に対し図25A〜図25Eに示す洗浄処理と同等の処理を施した。このとき、FOM供給工程(図6のS5)において、処理対象面に供給されるFOMにおける濃フッ酸とオゾン水の混合比は、約1:3であり、このときのフッ酸濃度は約13.62wt.%である。また、このFOMのオゾン濃度は約50ppmである。
実施例9:洗浄薬液としてFOMを処理対象面に供給した。実施例9では、ウエハWの処理対象面に対し図26に示す洗浄処理と同等の処理を施した。このとき、FOM供給工程(図6のS5)において、処理対象面に供給されるFOMにおける濃フッ酸とオゾン水の混合比は、約1:1であり、このときのフッ酸濃度は約26.26wt.%である。また、このFOMのオゾン濃度は約50ppmである。図27において、「FOM+ブラシB」との記載は、FOM供給工程(図6のS5)と並行してブラシ洗浄工程(図6のS7)を実行するということである。図27における他の同様の標記についても同じ。また、「ブラシB」は、ブラシ工程(図6のS7)において用いられる洗浄ブラシ10として、耐薬性を有する耐薬ブラシを用いることを指し示している。
比較例1:洗浄薬液としてFOMを処理対象面に供給した。比較例1では、ウエハWの処理対象面に対し図25A〜図25Eに示す洗浄処理からブラシ洗浄工程(図6のS7)を削除した処理を、ウエハWに対して施した。このとき、FOM供給工程(図6のS5)において、処理対象面に供給されるFOMにおける濃フッ酸とオゾン水の混合比は、約1:1であり、このときのフッ酸濃度は約26.26wt.%である。また、このFOMのオゾン濃度は約50ppmである。
比較例2:洗浄薬液として濃フッ酸を処理対象面に供給した。比較例2では、洗浄薬液として濃フッ酸を用いる点を除き、図26に示す洗浄処理と同等の処理を施した。このとき、洗浄薬液を供給する工程において処理対象面に供給されるフッ酸濃度はほぼ100wt.%である。
図27から、実施例7〜実施例9において、ウエハWにおいて、インジウムのピークが検出されないか、あるいは検出されたとしてもそのピーク強度は小さいことがわかる。したがって、実施例7〜実施例9の洗浄処理により、インジウム残渣をウエハWから良好に除去できたことがわかる。
また、第1の実施形態において、FOM供給工程(S5)におけるFOMの供給流量を大流量に制御することにより、FOM供給工程(S5)の終了時において基板Wの裏面Wbの全域にオゾンが行き渡るようにした。しかしながら、FOM供給工程(S5)におけるFOMのフッ酸濃度、当該FOMのオゾン濃度、当該FOMにおけるフッ酸とオゾンとの成分比、およびFOM供給工程(S5)における前記基板の回転速度の少なくとも一つを制御することより、FOM供給工程(S5)の終了時において基板Wの裏面Wbの全域にオゾンが行き渡るようにしてもよい。
また、第2の実施形態に係る洗浄処理において、基板Wの裏面Wbにフッ酸を供給するフッ酸供給工程を、FOM供給工程(T6)の前および/または後に、追加してもよい。この実施形態では、制御装置203が、オゾン水バルブ227を開いた状態に維持しつつフッ酸バルブ225だけを閉じることにより、FOMノズル206の吐出口237からオゾン水を吐出することができる。
また、フッ酸供給工程の第2の例として、FOM供給工程(T6)の終了後、オゾン水供給工程(T7)の前に実行されるフッ酸供給工程を例示できる。
さらに、フッ酸供給工程の第3の例として、基板Wの回転開始(T5)後FOM供給工程(T6)の前にフッ酸供給工程を実行すると共に、FOM供給工程(T6)の終了後オゾン水供給工程(T7)の前にフッ酸供給工程を実行する場合を例示できる。
また、第2の実施形態において、希フッ酸を吐出する希フッ酸ノズルと、オゾン水を吐出するオゾン水ノズルとを設け、希フッ酸ノズルからの希フッ酸と、オゾン水ノズルからのオゾン水とを基板Wの裏面Wb上で混合させることによりFOMを生成させてもよい。
また、第1〜第3の実施形態において、処理対象面の反対面を保護液で保護する構成を廃止してもよい。
また、第1および第2の実施形態では、一連の洗浄処理が、基板Wの裏面Wbの異物の除去、とくに裏面Wbに形成されるチャック痕の除去であるとして説明したが、一連の洗浄処理が、チェック痕だけでなく、膜剥れや微小スクラッチ等を含む欠陥を除去することを目的とするものであってもよい。
また、第1〜第3の実施形態において、処理対象面が、基板Wの裏面(デバイス非形成面)Wbであるとして説明したが、基板Wの表面(デバイス形成面)Waを処理対象面としてもよい。この場合、処理対象面は、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、金属膜(たとえばチタンナイトライド等)を含む。また、この場合において、一連の洗浄処理は、異物の除去に限られず、金属の除去、膜中に埋設された不純物の除去を目的とする。
また、第1〜第3の実施形態では、基板処理装置1,201,301が円板状の半導体基板を処理する装置である場合について説明したが、基板処理装置1,201,301は、液晶表示装置用ガラス基板などの多角形の基板を処理する装置であってもよい。
ある。
2 :処理ユニット
3 :制御装置
4 :処理チャンバー
5 :スピンチャック
6 :FOMノズル(ノズル)
7 :FOM供給装置
8 :水供給ユニット
10 :洗浄ブラシ
10a :洗浄面
21 :ノズルアーム
22 :ノズル移動ユニット
23 :フッ酸配管
24 :オゾン水配管
25 :フッ酸バルブ
26 :フッ酸流量調整バルブ
27 :オゾン水バルブ
28 :オゾン水流量調整バルブ
47 :揺動アーム
48 :アーム駆動ユニット
103 :回転駆動ユニット
107 :回転台
110 :保持ピン
111 :固定ピン
112 :可動ピン
115 :保護ディスク
170 :不活性ガス供給管
172 :不活性ガス供給路
173 :不活性ガスバルブ
174 :不活性ガス流量調整バルブ
190 :絞り部
190a :第1の段部
190b :第2の段部
191 :カバー
192 :円環板部
193 :円筒部
201 :基板処理装置
202 :処理ユニット
203 :制御装置
204 :処理チャンバー
205 :スピンチャック
206 :FOMノズル(ノズル)
207 :FOM供給装置
208 :水供給ユニット
210 :洗浄ブラシ
210a :洗浄面
221 :ノズルアーム
222 :ノズル移動ユニット
223 :フッ酸配管
224 :オゾン水配管
225 :フッ酸バルブ
226 :フッ酸流量調整バルブ
227 :オゾン水バルブ
228 :オゾン水流量調整バルブ
247 :揺動アーム
248 :アーム駆動ユニット
301 :基板処理装置
302 :処理ユニット
307 :FOM供給装置
323 :フッ酸配管
325 :フッ酸バルブ
326 :フッ酸流量調整バルブ
M :メタル層
W :基板
Wa :表面
Wb :裏面
Claims (20)
- 基板保持ユニットに保持されている基板の一方主面に向けて、ノズルから、フッ酸溶液にオゾンが溶解したオゾン含有フッ酸溶液を吐出するオゾン含有フッ酸溶液吐出工程と、
前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程の後に、または前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程に並行して、前記基板の前記一方主面に洗浄ブラシを当接させて当該一方主面を洗浄するブラシ洗浄工程とを含む、基板処理方法。 - 前記ブラシ洗浄工程は、前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程の後に実行される、請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程において前記ノズルから吐出される前記オゾン含有フッ酸溶液のフッ酸濃度は、0.01wt.%以上0.5wt.%以下である、請求項2に記載の基板処理方法。
- 前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程において前記ノズルから前記ノズルから吐出される前記オゾン含有フッ酸溶液のオゾン濃度は、22.5ppm以上67.2ppm以下である、請求項2または3に記載の基板処理方法。
- 前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程において前記ノズルから吐出される前記オゾン含有フッ酸溶液のフッ酸濃度は、0.093wt.%以上0.221wt.%以下である、請求項4に記載の基板処理方法。
- 前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程において前記ノズルから吐出される前記オゾン含有フッ酸溶液のオゾン濃度は、22.5ppm〜42.0ppmである、請求項4または5に記載の基板処理方法。
- 前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程は、前記基板保持ユニットに保持されている前記基板の一方主面の中央部に向けてオゾン含有フッ酸溶液を吐出する工程を含み、
前記基板処理方法は、
前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程に並行して、前記基板を所定の回転軸線まわりに回転させる基板回転工程をさらに含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板処理方法。 - 前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程の後、前記基板の前記一方主面のオゾン含有フッ酸溶液を水で置換する水リンス工程をさらに含み、
前記ブラシ洗浄工程は、前記水リンス工程と並行して実行される、請求項1〜7のいずれか一項に記載の基板処理方法。 - 前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程における前記オゾン含有フッ酸溶液の吐出流量、当該オゾン含有フッ酸溶液のフッ酸濃度、当該オゾン含有フッ酸溶液のオゾン濃度、当該オゾン含有フッ酸溶液におけるフッ酸とオゾンとの成分比および/または、前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程における前記基板の回転速度は、当該前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程の終了時において前記基板の前記一方主面の全域にオゾンが行き渡るように設定されている、請求項8に記載の基板処理方法。
- 前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程と並行して、他方主面への前記オゾン含有フッ酸溶液の回り込みを抑制または防止すべく、前記他方主面に保護流体を供給する保護流体供給工程をさらに含む、請求項8または9に記載の基板処理方法。
- 前記基板は半導体基板を含み、
前記基板の前記他方主面は、デバイスを形成するためのデバイス形成面であり、
前記基板の前記一方主面は、前記デバイスが形成されないデバイス非形成面である、請求項10に記載の基板処理方法。 - 前記保護流体供給工程は、前記他方主面に保護液を供給する保護液供給工程を含む、請求項10または11に記載の基板処理方法。
- 前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程における前記オゾン含有フッ酸溶液の吐出流量は、0.8リットル/分以上である、請求項12に記載の基板処理方法。
- 前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程の後前記ブラシ洗浄工程に先立って、前記基板の前記一方主面にオゾン水を供給するオゾン水供給工程をさらに含む、請求項2〜8のいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記基板保持工程は、前記基板を水平姿勢に保持させる工程を含み、
前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程は、前記基板の上面に前記オゾン含有フッ酸溶液を吐出する工程を含み、
前記ブラシ洗浄工程は、前記基板の前記上面を洗浄する工程を含む、請求項1〜14のいずれか一項に記載の基板処理方法。 - 前記基板の前記一方主面は、シリコン成分を含むシリコン含有面を含む、請求項1〜15のいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記基板の前記一方主面は、チタンナイトライドを含むチタンナイトライド含有面を含む、請求項1〜16のいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記基板の前記一方主面は、イリジウム金属残渣を含むイリジウム金属残渣含有面を含む、請求項1〜17のいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 基板を保持する基板保持ユニットと、
前記基板保持ユニットに保持されている基板の一方主面に向けてオゾン含有フッ酸溶液を吐出するためのノズルと、
前記ノズルに、前記オゾン含有フッ酸溶液を供給するオゾン含有フッ酸溶液供給装置と、
前記一方主面に接触して当該一方主面を洗浄するための洗浄ブラシと、
前記洗浄ブラシを駆動するための洗浄ブラシ駆動ユニットとを含み、
前記オゾン含有フッ酸溶液供給装置および前記洗浄ブラシ駆動ユニットを制御して、前記基板保持ユニットに保持されている前記基板の一方主面に向けて、前記ノズルから、フッ酸溶液にオゾンが溶解したオゾン含有フッ酸溶液を吐出するオゾン含有フッ酸溶液吐出工程と、前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程の後に、または前記オゾン含有フッ酸溶液吐出工程に並行して、前記基板の前記一方主面に前記洗浄ブラシを当接させて当該一方主面を洗浄するブラシ洗浄工程とを実行する制御装置を含む、基板処理装置。 - 前記ノズルは、混合ノズルを含み、
前記混合ノズルは、フッ酸溶液とオゾン水とを混合して前記オゾン含有フッ酸溶液を生成するための混合室と、前記混合室で生成された前記オゾン含有フッ酸溶液を吐出するための吐出口とを有し、
前記オゾン含有フッ酸溶液供給装置は、
フッ酸溶液供給源からの前記フッ酸溶液を前記混合室に供給するフッ酸配管と、
オゾン水供給源からの前記オゾン水を前記混合室に供給するオゾン水配管とを含む、請求項19に記載の基板処理装置。
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