JP2017181178A - 電流電圧特性の測定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る測定方法は、トランジスタM1のドレイン電流Id(またはコレクタ電流)とドレイン・ソース間電圧Vds(またはコレクタ・エミッタ間電圧)との関係を示す電流電圧特性(Id−Vds特性)の測定方法であり、ドレイン電流Id(または前記コレクタ電流)及びドレイン・ソース間電圧Vds(または前記コレクタ・エミッタ間電圧)を設定するステップと、トランジスタM1のスイッチング過渡状態におけるゲート・ソース間電圧Vgs(またはゲート・エミッタ間電圧)及びゲート電流Igを測定するステップと、ゲート・ソース間電圧Vgs(または前記ゲート・エミッタ間電圧)及びゲート電流Igの測定結果に基づいてトランジスタM1の電流電圧特性(Id−Vds特性)を取得するステップと、を有する。
【選択図】図1
Description
図1は、スイッチ素子の電流電圧特性を測定する際に用いられる測定装置の一実施形態を示す等価回路図である。本実施形態の測定装置10は、電圧源11と、電流源12と、ダイオード13と、制御部14とを有し、スイッチ素子20について、その電流電圧特性(ここでは、スイッチ素子20のドレイン電流Idとドレイン・ソース間電圧Vdsとの関係を示すId−Vds特性)を測定する。
図3と図4は、それぞれ、スイッチ素子20のターンオン過渡特性及びターンオフ過渡特性を示すスイッチング波形図である。各図中の実線はドレイン・ソース間電圧Vds、小破線はドレイン電流Id、一点鎖線はゲート・ソース間電圧Vgs(×20)、二点鎖線はゲート電流Ig(×100)をそれぞれ示している。横軸の一目盛は1μs/divである。また、左側縦軸の一目盛は200V/divであり、右側縦軸の一目盛は10A/divである。なお、図3は、図2の時刻t1、t3、t5、t7付近を拡大した図に相当し、図4は図2の時刻t2、t4、t6、t8付近を拡大した図に相当する。
トランジスタM1の内部ゲート抵抗値Rinを用いる場合には、トランジスタM1のターンオン時またはターンオフ時のいずれかで測定されたゲート・ソース間電圧Vgs及びゲート電流Igから実ゲート・ソース間電圧Vgs(real)を算出するとよい。
図5は、ドレイン電流Idと実ゲート・ソース間電圧Vgs(real)との関係を示すId−Vgs(real)特性図である。なお、本図では、ドレイン・ソース間電圧Vdsを200Vに固定したときのId−Vgs(real)特性が描写されている。
なお、上記実施形態では、MOSFETを測定対象とした例を挙げて説明を行ってきたが、電流電圧特性の測定対象はこれに限定されるものではなく、例えば、IGBTの電流電圧特性(=コレクタ電流Icとゲート・エミッタ間電圧Vgeとの関係を示したIc−Vge特性)を測定する際にも適用することができる。
また、本明細書中に開示されている種々の技術的特徴は、上記実施形態のほか、その技術的創作の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えることが可能である。すなわち、上記実施形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきであり、本発明の技術的範囲は、上記実施形態の説明ではなく、特許請求の範囲によって示されるものであり、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内に属する全ての変更が含まれると理解されるべきである。
11 電圧源
12 電流源
12a コイル
13 ダイオード
14 制御部
20 スイッチ素子
M1 Nチャネル型MOS電界効果トランジスタ
Rin 内部ゲート抵抗
Cgs ゲート・ソース間寄生容量
Cgd ゲート・ドレイン間寄生容量
D1 ボディダイオード
Claims (11)
- トランジスタのドレイン電流(またはコレクタ電流)とドレイン・ソース間電圧(またはコレクタ・エミッタ間電圧)との関係を示す電流電圧特性の測定方法であって、
前記ドレイン電流(または前記コレクタ電流)及び前記ドレイン・ソース間電圧(または前記コレクタ・エミッタ間電圧)を設定するステップと、
前記トランジスタのスイッチング過渡状態におけるゲート・ソース間電圧(またはゲート・エミッタ間電圧)及びゲート電流を測定するステップと、
前記ゲート・ソース間電圧(または前記ゲート・エミッタ間電圧)及び前記ゲート電流の測定結果に基づいて前記トランジスタの電流電圧特性を取得するステップと、
を有することを特徴とする測定方法。 - 前記トランジスタに対して直列接続された電圧源及び電流源と、前記電流源に対して逆向きに並列接続された整流素子と、を用いて、前記ドレイン電流(または前記コレクタ電流)及び前記ドレイン・ソース間電圧(または前記コレクタ・エミッタ間電圧)を設定することを特徴とする請求項1に記載の測定方法。
- 前記電流源として、誘導性負荷を用いることを特徴とする請求項2に記載の測定方法。
- 前記スイッチング過渡状態のうち、前記ドレイン・ソース間電圧(または前記コレクタ・エミッタ間電圧)が変化する領域において、前記ゲート・ソース間電圧(または前記ゲート・エミッタ間電圧)、前記ゲート電流、及び、前記ドレイン電流(または前記コレクタ電流)をそれぞれ測定することを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の測定方法。
- 前記ゲート・ソース間電圧(または前記ゲート・エミッタ間電圧)及び前記ゲート電流の測定結果を用いて、前記トランジスタのゲート酸化膜に印加される電圧を算出することを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の測定方法。
- 前記トランジスタのターンオン時またはターンオフ時のいずれかで測定された前記ゲート・ソース間電圧(または前記ゲート・エミッタ間電圧)から、同じく前記トランジスタのターンオン時またはターンオフ時のいずれかで測定された前記ゲート電流に前記トランジスタの内部ゲート抵抗値を乗じた結果を減じることにより、前記トランジスタのゲート酸化膜に印加される電圧を算出することを特徴とする請求項5に記載の測定方法。
- 前記トランジスタのターンオン時及びターンオフ時の双方で測定された前記ゲート・ソース間電圧(または前記ゲート・エミッタ間電圧)と、同じく前記トランジスタのターンオン時及びターンオフ時の双方で測定された前記ゲート電流の比を用いて、前記トランジスタのゲート酸化膜に印加される電圧を算出することを特徴とする請求項5に記載の測定方法。
- 前記ドレイン電流の測定結果と、前記ゲート酸化膜に印加される電圧の算出結果を用いて、前記ゲート・ソース間電圧(または前記ゲート・エミッタ間電圧)に対する前記ドレイン電流(または前記コレクタ電流)の近似式を導出し、これを用いて前記トランジスタの電流電圧特性を取得することを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれか一項に記載の測定方法。
- 前記トランジスタは、その飽和領域においても電流電圧特性の傾きがゼロとならない半導体素子であることを特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか一項に記載の測定方法。
- 請求項1〜請求項9に記載の測定方法を用いてトランジスタの電流電圧特性を測定することを特徴とする測定装置。
- 請求項1〜請求項9に記載の測定方法で測定されたトランジスタの電流電圧特性をパラメータ化することにより、前記トランジスタのデバイスモデルを作成することを特徴とするデバイスモデル作成方法。
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