JP2017179367A - 液晶組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶化合物の配向欠陥の発生を抑え、かつ、溶剤への溶解時における保存安定性に優れる液晶組成物の提供。
【解決手段】主鎖に環構造を５個以上有する重合性液晶化合物（Ａ）と、主鎖に環構造を５個以上有する重合性液晶化合物の重合体（Ｂ）とを含む液晶組成物。該液晶組成物を含む位相差フィルム、偏光板および光学ディスプレイ。
【選択図】なし

Description

本発明は、液晶組成物、ならびに前記液晶組成物を含む位相差フィルム、偏光板および光学ディスプレイに関する。

フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）に用いられる位相差フィルムなどの光学フィルムとして、例えば、重合性液晶化合物を溶剤に溶解させて得られる塗工液を、支持基材に塗布後、重合して得られる光学フィルムがある。従来、重合性液晶化合物としては、例えば、６員環が２〜４個連結された棒状構造のネマチック液晶化合物などが知られている（例えば、非特許文献１）。

一方、位相差フィルムとしては、その特性の１つとして全波長領域において偏光変換可能であることが求められており、ある波長λにおける位相差値Ｒｅ（λ）を５５０ｎｍにおける位相差値Ｒｅ（５５０）で除した値（Ｒｅ（λ）／Ｒｅ（５５０））が１に近い波長域や、［Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）］＜１かつ［Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）］＞１の逆波長分散性を示す波長域では、理論上、一様の偏光変換が可能であることが知られている。このような位相差フィルムを構成し得る重合性化合物としては、特許文献１の化合物が知られている。

特開２０１１−２０７７６５号公報

液晶便覧、液晶便覧編集委員会 編、2000年、第312頁

上述したような塗工タイプの光学フィルムを製造する際には、溶剤に対する重合性液晶化合物の高い溶解性が必要となる。しかしながら、前記重合性液晶化合物は、その化学構造に由来して種々の溶剤への溶解性が乏しい場合が多く、塗工液の保存時に重合性液晶化合物が結晶化して析出することがあり、析出した結晶は光学フィルムの欠陥の原因となる。また、一般的に溶媒への溶解性を向上させるために、環状構造を多数持つ化合物では長鎖のアルキル基を導入する手法が用いられるが、重合性液晶化合物では長鎖アルキル基を置換基として導入すると、導入された置換基により液晶化合物の分子配向が乱され、光学フィルムにおける配向欠陥を生じる原因となる。

そこで、本発明は、液晶化合物の配向欠陥の発生を抑え、かつ、溶剤への溶解時における保存安定性に優れる、好ましくは良好な円偏光変換可能な位相差フィルムを構成するのに適した重合性液晶化合物を含む、液晶組成物を提供することを目的とする。

本発明は、以下の好適な態様［１］〜［１４］を提供するものである。
［１］主鎖に環構造を５個以上有する重合性液晶化合物（Ａ）と、主鎖に環構造を５個以上有する重合性液晶化合物（Ａ）の重合体（Ｂ）とを含む液晶組成物。
［２］ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された前記重合体（Ｂ）の面積百分率値が、０．０１％以上４０％以下である、前記［１］に記載の液晶組成物。
［３］ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された前記重合体（Ｂ）の重量平均分子量（Ｍｗ）が４,０００〜２００,０００である、前記［１］または［２］に記載の液晶組成物。
［４］さらに有機溶剤を含む、前記［１］〜［３］のいずれかに記載の液晶組成物。
［５］前記重合性液晶化合物（Ａ）は、下記式（Ａ）で表される重合性液晶化合物である、前記［１］〜［４］のいずれかに記載の液晶組成物。

［式（Ａ）中、ｍおよびｎは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表し、
Ｂ^１、Ｂ^２、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｅ^１およびＥ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＮＲ^２−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｓ−または単結合を表し、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、
Ａ^１、Ａ^２、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数３〜１６の２価の脂環式炭化水素基または炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基および該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、−Ｒ^３、−ＯＲ^３、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−または−ＮＲ^４−で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置換されていてもよく、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、
Ｆ^１およびＦ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、−ＯＲ^３またはハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−または−ＣＯ−で置き換わっていてもよく、
Ｐ^１およびＰ^２は、それぞれ独立に、水素原子または重合性基を表し（ただしＰ^１およびＰ^２のうち少なくとも１つは重合性基を表す）、
Ａｒは置換されていてもよい２価の芳香族基であり、該芳香族基中に、少なくとも１つの窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含む。］
［６］前記式（Ａ）中のＡｒはπ電子を１０個以上３０個以下有する芳香族基である、前記［５］に記載の液晶組成物。
［７］極大吸収波長（λｍａｘ）が３００〜４００ｎｍである、前記［１］〜［６］のいずれかに記載の液晶組成物。
［８］前記式（Ａ）中のＡｒは複素環を有する芳香族基である、前記［５］〜［７］のいずれかに記載の液晶組成物。
［９］前記複素環を有する芳香族基はベンゾチアゾール基を有する芳香族基である、前記［８］に記載の液晶組成物。
［１０］Ｇ^１およびＧ^２の両方がトランス−シクロヘキサン−１，４−ジイル基である、前記［５］〜［９］のいずれかに記載の液晶組成物。
［１１］前記［１］〜［１０］のいずれかに記載の液晶組成物から構成される位相差フィルム。
［１２］下記式（１）を満たす、前記［１１］に記載の位相差フィルム。
０．８０≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ （１）
[式（１）中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する正面位相差値を表す。]
［１３］前記［１１］または［１２］に記載の位相差フィルムを含む偏光板。
［１４］前記［１３］に記載の偏光板を含む光学ディスプレイ。

本発明によれば、液晶化合物の配向欠陥の発生を抑え、かつ、溶剤への溶解時における保存安定性に優れる液晶組成物を提供することができる。

本発明の液晶組成物は、主鎖に環構造を５個以上有する重合性液晶化合物（Ａ）（以下、「重合性液晶化合物（Ａ）」と称する場合がある）と、重合性液晶化合物（Ａ）の重合体（Ｂ）（以下、「重合体（Ｂ）」と称する場合がある）とを含む。なお、本発明において「主鎖」とは、重合性液晶化合物の分子鎖における主要な炭素鎖であり、炭素数が最大となる幹にあたる部分を意味する。

＜重合性液晶化合物（Ａ）＞
前記重合性液晶化合物（Ａ）は、主鎖に５個以上の環構造を有する。前記重合性液晶化合物（Ａ）の主鎖に含まれ得る環構造としては、１価または２価の脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基等が挙げられる。これらの環構造は、それぞれ単環系であってもよく、多環系であってもよい。また、多環系の場合、縮合型の多環系構造であってもよく、集合型の多環系構造であってもよい。

単環系の環構造としては、例えば３〜２０員環の脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基等が挙げられ、好ましくは４〜１０員環の、より好ましくは５員環または６員環の、さらに好ましくは６員環の環構造の脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基が挙げられる。具体的には、例えばベンゼン環、シクロヘキサン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環、ピリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピラン環、ジオキサン環、チアジン環などが挙げられる。

多環系の環構造としては多環系芳香族基、芳香族複素環基、多環系脂環式炭化水素基等が挙げられ、複素環を有する多環系芳香族基が好ましい。具体的には、例えばインドール基、ベンゾイミダゾール基、ベンゾフラン基、ベンゾチオフェン基、ベンゾチアゾール基などが挙げられる。

重合性液晶化合物（Ａ）における環構造の数は５個以上であり、好ましくは１３個以下、より好ましくは９個以下であり、さらに好ましくは５個以上７個以下であり、特に好ましくは５個である。主鎖に５個以上の環構造を有することで、液晶相の熱安定性が高くなる。なお、本発明において、環構造が多環系の基である場合、当該基全体を１つの環構造として数える。

本発明の液晶化合物に含まれる重合性液晶化合物（Ａ）は、下記式（Ａ）で表される主鎖に環構造を５個以上有する化合物であることが好ましい。主鎖には２環以上単環系の環構造を含んでいることが好ましく、４環以上単環系の環構造を含んでいることがさらに好ましい。重合性液晶化合物（Ａ）が下記式（Ａ）で表される化合物であると、溶剤への溶解性に優れ、配向欠陥を生じにくく、本発明の所望の効果をより良好に発現できる。

式（Ａ）：

式（Ａ）中、ｍおよびｎは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
Ｂ^１、Ｂ^２、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｅ^１およびＥ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＮＲ^２−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｓ−または単結合を表し、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ａ^１、Ａ^２、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数３〜１６の２価の脂環式炭化水素基または炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基および該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、−Ｒ^３、−ＯＲ^３、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−または−ＮＲ^４−で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置換されていてもよく、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｆ^１およびＦ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、−ＯＲ^３またはハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−または−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。
Ｐ^１およびＰ^２は、それぞれ独立に、水素原子または重合性基を表す（ただしＰ^１およびＰ^２のうち少なくとも１つは重合性基を表す）。
Ａｒは置換されていてもよい２価の芳香族基であり、該芳香族基中に、少なくとも１つの窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含む。

式（Ａ）中、ｍおよびｎは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。ただし、ｍおよびｎのいずれか一方が０である場合、他方は２または３の整数を表す。ｍおよびｎは、好ましくは１または２であり、より好ましくは１である。また、重合性液晶化合物（Ａ）を製造し易く、製造コストを抑制することができるという観点から、ｍおよびｎは互いに同一の整数であることが好ましい。さらに、ｍおよびｎが２または３である場合、複数存在するＡおよびＢは、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。重合性液晶化合物（Ａ）を工業的に製造し易いという観点からは、複数存在するＡおよびＢは、それぞれ互いに同一であることが好ましい。

式（Ａ）中、Ｂ^１、Ｂ^２、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｅ^１およびＥ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＮＲ^２−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｓ−または単結合を表す。前記式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。

Ｂ^１およびＢ^２は、液晶相の発現しやすさの観点から、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、または−ＣＨ_２−Ｏ−であることが好ましく、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−であることがより好ましい。重合性液晶化合物（Ａ）を容易に製造し易く、製造コストを抑制することができる観点から、Ｂ^１およびＢ^２は互いに同一であることが好ましい。なお、Ｂ^１およびＢ^２が互いに同一であるとは、Ａｒを中心としてみた場合のＢ^１およびＢ^２の構造が互いに同一であることを意味し、例えばＢ^１が−Ｏ−ＣＯ−である場合において、Ｂ^１と互いに同一であるＢ^２とは−ＣＯ−Ｏ−である。以下、Ｄ^１とＤ^２、Ｅ^１とＥ^２、Ａ^１とＡ^２、Ｇ^１とＧ^２、Ｆ^１とＦ^２およびＰ^１とＰ^２における関係についても同様である。

Ｄ^１、Ｄ^２、Ｅ^１およびＥ^２は、液晶相を発現しやすい観点から、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^１−または−ＮＲ^２−ＣＯ−であることが好ましく、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、または−ＣＯ−Ｏ−であることがより好ましい。重合性液晶化合物（Ａ）を容易に製造し易く、製造コストを抑制することができる観点から、Ｄ^１とＤ^２およびＥ^１とＥ^２が、それぞれ互いに同一であることが好ましい。

式（Ａ）において、Ａ^１、Ａ^２、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数３〜１６の２価の脂環式炭化水素基または炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素基を表す。前記２価の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは４〜１５、より好ましくは５〜１０、さらに好ましくは５または６である。前記２価の芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは６〜１８、より好ましくは６〜１６、さらに好ましくは５または６である。前記脂環式炭化水素基および前記芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、−Ｒ^３、−ＯＲ^３、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよい。ここで、Ｒ^３は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよい。

炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、炭素数１または２のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。

−ＯＲ^３における炭素数１〜４のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられ、炭素数１〜３のアルコキシ基が好ましく、炭素数１または２のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。

前記２価の脂環式炭化水素基としては、シクロアルカンジイル基等が挙げられる。該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−（メチレン基）は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−または−ＮＲ^４−に置換されていてもよく、−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置換されていてもよい。ここで、Ｒ^４は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。

２価の脂環式炭化水素基としては、下記式（ｇ−１）〜式（ｇ−４）で表される基が挙げられる。脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−が、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−または−ＮＲ^４−に置き換わった２価の脂環式炭化水素基としては、下記式（ｇ−５）〜式（ｇ−８）で表される基が挙げられる。脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−が、−Ｎ（−）−に置き換わった２価の脂環式炭化水素基としては、下記式（ｇ−９）および式（ｇ−１０）で表される基が挙げられる。これらは、５員環または６員環の脂環式炭化水素基であることが好ましい。

２価の脂環式炭化水素基としては、式（ｇ−１）で表される基であることが好ましく、シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることがさらに好ましく、トランス−シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることが特に好ましい。

前記２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、式（ａ−１）〜式（ａ−８）で表される基が挙げられる。２価の芳香族炭化水素基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。

本発明の一実施態様において、本発明の化合物の製造上の観点から、Ａ^１およびＡ^２は、それぞれ独立に、２価の芳香族炭化水素基であることが好ましい。また、本発明の一実施態様において、本発明の化合物の製造上の観点から、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、２価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、トランス−シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることがより好ましく、Ｇ^１およびＧ^２のいずれもがトランス−シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることが特に好ましい。Ｇ^１およびＧ^２のいずれもがトランス−シクロヘキサン−１，４−ジイル基である場合、特に良好な液晶性を示す。この場合はまた、逆波長分散性が強くなる傾向にあり、この結果〔（Ｒｅ（λ）／Ｒｅ（５５０））／（λ／５５０）〕が１に近くて、より一様の偏光変換が可能な波長域が広くなる傾向にある。また、重合性液晶化合物（Ａ）を容易に製造し易く、製造コストを抑制することができる観点から、Ａ^１とＡ^２およびＧ^１とＧ^２が、それぞれ互いに同一であることが好ましい。

式（Ａ）において、Ｆ^１およびＦ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２、好ましくは２〜１５、より好ましくは３〜１２、さらに好ましくは４〜１０のアルカンジイル基を表す。該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、−ＯＲ^３またはハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−または−ＣＯ−で置換されていてもよい。Ｒ^３は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。重合性液晶化合物（Ａ）を容易に製造し易く、製造コストを抑制することができる観点から、Ｆ^１とＦ^２は互いに同一であることが好ましい。

式（Ａ）において、Ｐ^１およびＰ^２は、それぞれ独立に、水素原子または重合性基を表す。ただし、Ｐ^１およびＰ^２のうち少なくとも１つは重合性基であり、Ｐ^１およびＰ^２のいずれもが重合性基であることが好ましい。重合性基とは、重合反応に関与し得る基を含む基である。重合反応に関与し得る基としては、ビニル基、ｐ−（２−フェニルエテニル）フェニル基、アクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイル基、メタクリロイルオキシ基、カルボキシル基、メチルカルボニル基、ヒドロキシル基、カルバモイル基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、アミノ基、ホルミル基、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ、−Ｎ＝Ｃ＝Ｓ、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。

光重合に適するという点では、重合性基は、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基であることが好ましい。特に、取り扱いや製造が容易であるという点で、アクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイル基またはメタクリロイルオキシ基が好ましく、重合性が高いという点で、アクリロイル基またはアクリロイルオキシ基がより好ましい。

式（Ａ）において、Ａｒで表される２価の芳香族基は、少なくとも１つの窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含む。ここで、本発明において、Ａｒで表される２価の芳香族基が「少なくとも１つの窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含む」とは、Ａｒ中にこれらのヘテロ原子を含んでいればよいことを意味し、Ａｒは複素環を有していてもよく、複素環を有していなくてもよい。Ａｒで表される２価の芳香族基は、得られる位相差フィルムの逆波長分散性発現の観点から、複素環を有する芳香族基であることが好ましい。このような芳香族基としては、例えばフラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、フェナンスロリン環等を有する芳香族基が挙げられる。なかでも、ベンゼン環、チアゾール環、またはベンゾチアゾール環を有する芳香族基がより好ましく、ベンゾチアゾール環を有する芳香族基がさらに好ましい。

Ａｒで表される芳香族基はπ電子を有することが好ましい。該芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎ_πは、液晶組成物から得られる位相差フィルムの逆波長分散性発現の観点から、好ましくは１０個以上、より好ましくは１２個以上、さらに好ましくは１４個以上であり、好ましくは３０個以下、より好ましくは２５個以下である。

Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。

式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−２２）中、＊部は連結部を表し、Ｚ^０’、Ｚ^１’およびＺ^２’は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
Ｑ^１、Ｑ^２およびＱ^３は、それぞれ独立に、−ＣＲ^５Ｒ^６−、−Ｓ−、−ＮＲ^７−、−ＣＯ−または−Ｏ−を表す。
Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ^１’、Ｙ^２’およびＹ^３’は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。
Ｗ^１’およびＷ^２’は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基またはハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜６の整数を表す。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子が好ましい。

炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、炭素数１および２のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基、ヘキシル基スルフィニル等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルスルフィニル基が好ましく、炭素数１および２のアルキルスルフィニル基がより好ましく、メチルスルフィニル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルスルホニル基が好ましく、炭素数１および２のアルキルスルホニル基がより好ましく、メチルスルホニル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のフルオロアルキル基としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられ、炭素数１〜４のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１および２のフルオロアルキル基がより好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、炭素数１および２のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルチオ基が好ましく、炭素数１および２のアルキルチオ基がより好ましく、メチルチオ基が特に好ましい。

炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基としては、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基等が挙げられ、炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基が好ましく、炭素数１および２のＮ−アルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ−メチルアミノ基が特に好ましい。

炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ基等が挙げられ、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基が特に好ましい。

炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基としては、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−イソプロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−イソブチルスルファモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ペンチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基等が挙げられ、炭素数１〜４のＮ−アルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数１および２のＮ−アルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ−メチルスルファモイル基が特に好ましい。

炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルスルファモイル基等が挙げられ、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基が特に好ましい。

Ｚ^０’、Ｚ^１’およびＺ^２’は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルチオ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチルスルファモイル基またはＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基であることが好ましい。

Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７における炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数１および２のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｑ^１およびＱ^２は、それぞれ独立に、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−であることが好ましく、Ｑ^３は、−Ｓ−、−ＣＯ−であることが好ましい。

Ｙ^１’、Ｙ^２’およびＹ^３’における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む、炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられる。中でも、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基及びベンゾチアゾリル基が好ましい。

かかる芳香族炭化水素基および芳香族複素環基は、少なくとも１つの置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられ、ハロゲン原子、炭素数１および２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１および２のアルキルスルホニル基、炭素数１および２のフルオロアルキル基、炭素数１および２のアルコキシ基、炭素数１および２のアルキルチオ基、炭素数１および２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１および２のアルキルスルファモイル基が好ましい。

ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基および炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、先に例示したものと同様のものが挙げられる。

式（Ａｒ−１４）において、Ｙ^１’は、これが結合する窒素原子およびＺ^０’と共に芳香族複素環基を形成していてもよい。例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環、ピペリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ^１’は、これが結合する窒素原子およびＺ^０’と共に、後述する置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。

Ｙ^１’、Ｙ^２’およびＹ^３’は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、または芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、または芳香環集合に由来する基をいう。例えば、Ｙ^１’、Ｙ^２’およびＹ^３’は、それぞれ独立に、下記式（Ｙ^１−１）〜式（Ｙ^１−７）で表されるいずれかの基であることが好ましく、式（Ｙ^１−１）または式（Ｙ^１−４）で表されるいずれかの基であることがより好ましい。

前記式（Ｙ^１−１）〜式（Ｙ^１−７）中、＊部は連結部を表し、Ｚ^３は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、ニトロキシキド基、スルホン基、スルホキシド基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のチオアルキル基、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基または炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基を表す。
Ｖ^１およびＶ^２は、それぞれ独立に、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＮＲ^８−、−Ｏ−、−Ｓｅ−または−ＳＯ_２−を表す。
Ｗ^１〜Ｗ^５は、それぞれ独立に、−Ｃ＝または−Ｎ＝を表す。
ただし、Ｖ^１、Ｖ^２およびＷ^１〜Ｗ^５のうち少なくとも１つは、Ｓ、Ｎ、ＯまたはＳｅを含む基を表す。
Ｒ^８は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。
ａは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
ｂは、それぞれ独立に、０〜２の整数を表す。

式（Ｙ^１−１）〜式（Ｙ^１−７）で表されるいずれかの基は、下記式（Ｙ^２−１）〜式（Ｙ^２−１６）で表されるいずれかの基であることが好ましく、下記式（Ｙ^３−１）〜式（Ｙ^３−６）で表されるいずれかの基であることがより好ましく、式（Ｙ^３−１）または式（Ｙ^３−３）で表される基であることが特に好ましい。なお、＊部は連結部を表す。

式（Ｙ^２−１）〜式（Ｙ^２−１６）中、Ｚ^３、ａ、ｂ、Ｖ^１、Ｖ^２およびＷ^１〜Ｗ^５は、上記と同じ意味を表す。

式（Ｙ^３−１）〜式（Ｙ^３−６）中、Ｚ^３、ａ、ｂ、Ｖ^１、Ｖ^２およびＷ^１は、上記と同じ意味を表す。

Ｚ^３としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられる。中でも、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホン基、ニトロキシキド基、カルボキシル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、チオメチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が特に好ましい。

ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基および炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、先に例示したものと同様のものが挙げられる。

Ｖ^１およびＶ^２は、それぞれ独立に、−Ｓ−、−ＮＲ^８−または−Ｏ−であることが好ましい。

Ｗ^１〜Ｗ^５は、それぞれ独立に、−Ｃ＝または−Ｎ＝であることが好ましい。

Ｖ^１、Ｖ^２およびＷ^１〜Ｗ^５のうち少なくとも１つは、Ｓ、ＮまたはＯを含む基を表すことが好ましい。

ａは０または１であることが好ましい。ｂは０であることが好ましい。
Ｙ^１’〜Ｙ^３’の具体例として、下記式（ａｒ−１）〜式（ａｒ−８４０）で表される基が挙げられる。なお、＊部は連結部を表す。

式（Ａ）で表される重合性液晶化合物（Ａ）としては、具体的に、例えば以下の化合物が挙げられるが、これらの例示に限られるものではない。なお、本発明の液晶組成物は、重合性液晶化合物（Ａ）として、１種の重合性液晶化合物のみを含んでいてもよく、２種以上の重合性液晶化合物を含んでいてもよい。

重合性液晶化合物（Ａ）の製造方法は、特に限定されず、Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ、ＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｅｓ、Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、新実験化学講座等に記載されている公知の有機合成反応（例えば、縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ウイッティヒ反応、シッフ塩基生成反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木−宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト−ハートウィッグ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応、アルドール反応等）を、その構造に応じて、適宜組み合わせることにより、製造することができる。

例えば、前記重合性液晶化合物（Ａ）の１種である下記式（Ａ−１）：

で表される重合性液晶化合物（式中のｍ＝ｎの場合）は、
式（Ｂ）：

で表されるアルコール化合物（Ｂ）と、
式（Ｃ）：

で表されるカルボン酸化合物（Ｃ）とのエステル化反応を行うことにより製造することができる。なお、前記式（Ａ−１）、（Ｂ）および（Ｃ）におけるＡｒ、Ａ^１、Ｂ^１、Ｅ^１、Ｆ^１、Ｇ^１、Ｐ^１、ｍ、ｎは、上記重合性液晶化合物（Ａ）で規定されたものと同一である。

アルコール化合物（Ｂ）としては、芳香族基Ａｒに対して２つのヒドロキシル基が結合した化合物であればよい。芳香族基Ａｒとしては、先に規定したものと同じであり、例えば、前記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２２）において２つの＊部がヒドロキシル基である化合物が挙げられる。

カルボン酸化合物（Ｃ）としては、例えば以下の化合物が挙げられる。

アルコール化合物（Ｂ）とカルボン酸化合物（Ｃ）とのエステル化反応は、好ましくは縮合剤の存在下において行われる。縮合剤の存在下でエステル化反応を行うことにより、エステル化反応を効率良く迅速に行うことができる。

縮合剤としては、１−シクロヘキシル−３−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメト−パラ−トルエンスルホネート、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（水溶性カルボジイミド：ＷＳＣとして市販）、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミドおよび、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド等のカルボジイミド化合物、２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール、１，１’−オキサリルジイミダゾール、ジフェニルホスフォリルアジド、１（４−ニトロベンゼンスルフォニル）−１Ｈ−１、２、４−トリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−（１，２，２，２−テトラクロロエトキシカルボニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−カルボベンゾキシスクシンイミド、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、２−ブロモ−１−エチルピリジニウムテトラフルオロボレート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロリド、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１−メチルピリジニウムアイオダイド、２−クロロ−１−メチルピリジニウム パラ−トルエンスルホネート、２−フルオロ−１−メチルピリジニウム パラ−トルエンスルホネートおよびトリクロロ酢酸ペンタクロロフェニルエステル等が挙げられる。

縮合剤は、好ましくは、カルボジイミド化合物、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール、１，１’−オキサリルジイミダゾール、ジフェニルホスフォリルアジド、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−（１，２，２，２−テトラクロロエトキシカルボニルオキシ）スクシンイミド、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロリド、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１−メチルピリジニウムアイオダイドおよび２−クロロ−１−メチルピリジニウム パラ−トルエンスルホネートである。

縮合剤は、より好ましくは、カルボジイミド化合物、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムテトラフルオロボレート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロリドおよび２−クロロ−１−メチルピリジニウムアイオダイドであり、さらに好ましくは、経済性の観点から、カルボジイミド化合物である。

カルボジイミド化合物の中でも、好ましくは、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（水溶性カルボジイミド：ＷＳＣとして市販）および、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミドである。

縮合剤の使用量は、アルコール化合物（Ｂ）１モルに対して、通常２〜４モルである。

エステル化反応では、さらに、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、ベンゾトリアゾール、パラニトロフェノール、３，５−ジブチル−４−ヒドロキシトルエン等を添加剤として加えて混合してもよい。添加剤の使用量は、アルコール化合物（Ｂ）１モルに対して、好ましくは０．０１〜１．５モルである。

エステル化反応は、触媒の存在下で行ってもよい。触媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ジメチルアンモニウムペンタフルオロベンゼンスルホナート等が挙げられる。中でも、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンおよび、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンが好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンがより好ましい。触媒の使用量は、アルコール化合物（Ｂ）１モルに対して、好ましくは０．０１〜０．５モルである。

エステル化反応は、通常、溶媒中で行われる。溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトンまたはメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；ペンタン、ヘキサンまたはヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン、ベンゼンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリルなどのニトリル系溶媒；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒；乳酸エチルなどのエステル系溶媒；クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素溶媒；ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの非プロトン性極性溶媒；などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。

溶媒は、反応収率や生産性の観点から、好ましくはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、クロロホルム、ジクロロメタン等の非極性有機溶剤であり、より好ましくは、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、クロロホルム、ジクロロメタンである。これら有機溶剤は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。

カルボン酸化合物（Ｃ）の使用量は、アルコール化合物（Ｂ）１モルに対して、好ましくは２〜１０モル、より好ましくは２〜５モルであり、さらに好ましくは２〜３モルである。

溶媒の使用量は、アルコール化合物（Ｂ）とカルボン酸化合物（Ｃ）との合計１質量部に対して、好ましくは０．５〜５０質量部であり、より好ましくは１〜２０質量部であり、さらに好ましくは２〜１０質量部である。

エステル化反応の温度は、反応収率や生産性の観点から、好ましくは−２０〜１２０℃であり、より好ましくは−２０〜６０℃であり、さらに好ましくは−１０〜２０℃である。また、エステル化反応の時間は、反応収率や生産性の観点から、好ましくは１分〜７２時間であり、より好ましくは１〜４８時間であり、さらに好ましくは１〜２４時間である。得られた懸濁液から、ろ過やデカンテーション等の方法により重合性液晶化合物を得ることができる。

＜重合体（Ｂ）＞
本発明の液晶組成物に含まれる重合体（Ｂ）は、重合性液晶化合物（Ａ）を単量体として重合させることにより得られる重合体である。本発明の液晶組成物は、重合性液晶化合物（Ａ）に加えて重合体（Ｂ）を含むことにより、溶剤に対する溶解度が向上し、さらに結晶の析出が抑制され、長期保存においても重合性液晶化合物の析出を抑制することができ、保存安定性に優れる。これは、特定の理論に拘束されるわけではないが、重合性液晶化合物（Ａ）および重合体（Ｂ）を溶解させた溶液において、重合体（Ｂ）が重合性液晶化合物（Ａ）の溶媒和を向上させて過飽和状態を安定化させるためであると考えられる。

一般的に溶媒への溶解性を向上させるために、環状構造を多数持つ化合物では長鎖のアルキル基を導入する手法が用いられるが、重合性液晶化合物において長鎖アルキル基を置換基として導入すると、導入される置換基の存在により液晶組成物の分子の配向が乱れるため、光学フィルムにおける配向欠陥の原因となる。本発明の液晶組成物は、長鎖アルキル基等の置換基を導入することなく、重合体（Ｂ）を添加することにより重合性液晶化合物の溶解性を向上させ、溶剤への溶解時における良好な保存安定性を達成し得る。また重合性液晶化合物の析出を抑制することができるため、本発明の液晶組成物から構成される位相差フィルムの配向欠陥を生じにくい。なお、液晶組成物の保存安定性が向上することにより、該液晶組成物の塗工安定性も向上させることができる。

単量体として用いる重合性液晶化合物（Ａ）としては、先に説明した重合性液晶化合物（Ａ）と同様の化合物が挙げられる。重合体（Ｂ）は、単量体として１種の重合性液晶化合物（Ａ）を重合させた単独重合体であってもよく、２種以上の重合性液晶化合物（Ａ）を共重合させた共重合体であってもよい。また、本発明による効果を奏する限りにおいて、重合体（Ｂ）は、重合性液晶化合物（Ａ）と共重合可能な、重合性液晶化合物（Ａ）とは異なる構造の重合性液晶化合物に由来する構造単位を含んでいてもよい。しかしながら、製造コストを抑制できる観点から、重合体（Ｂ）は、重合性液晶化合物（Ａ）に由来する構造単位のみを有することが好ましく、１種のみの重合性液晶化合物（Ａ）に由来する構造単位を有することがより好ましい。本発明の液晶組成物は、重合体（Ｂ）として、１種の重合体のみを含んでいてもよく、２種以上の重合体を含んでいてもよい。

重合体（Ｂ）のゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された重量平均分子量（Ｍｗ）は、４，０００〜２００，０００であることが好ましく、４，０００〜１８，００００であることがより好ましく、４，０００〜１５，００００であることがさらに好ましく、４、０００〜１００，０００であることが特に好ましい。重合体（Ｂ）の重量平均分子量（Ｍｗ）が、前記範囲内にあると、かかる重合体（Ｂ）を含む液晶化合物は、優れた保存安定性を有し、かつ成膜時の配向欠陥を生じにくい。特に、後述する液晶組成物における重合体（Ｂ）の含有量とともに重合体（Ｂ）の分子量を適宜調整することにより、溶剤に対する溶解度が高く、保存安定性に優れ、かつ、配向欠陥を生じにくい液晶組成物を得ることができる。

重合体（Ｂ）は、例えば、当該分野で公知の重合方法により、必要に応じて重合開始剤を用いて重合性液晶化合物（Ａ）を重合させることにより得ることができる。

重合開始剤としては、重合性液晶化合物の重合を開始する能力を有する限り特に制限されるものではなく、公知の重合開始剤の中から適宜選択して用いることができる。重合体（Ｂ）を得るために用い得る重合開始剤としては、光重合開始剤および熱重合開始剤等が挙げられ、重合体（Ｂ）の分子量制御の観点から、熱重合開始剤であることが好ましい。

熱重合開始剤としては、例えば、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）等のアゾ化合物や、過酸化ベンゾイル（ＢＰＯ）等の有機過酸化物などを挙げることができる。

重合開始剤を用いる場合、その量は、例えば、重合体（Ｂ）を構成するために用いる全単量体の合計１００質量部に対して、通常、０．０１〜３０質量部であり、好ましくは０．１〜２０質量部であり、より好ましくは１〜１０質量部である。重合開始剤の量が前記範囲内であれば、重合性液晶化合物（Ａ）の析出を抑制するのに適した重合体（Ｂ）を得ることができる。

重合体（Ｂ）は、例えば、重合性液晶化合物（Ａ）と重合開始剤と溶剤を混合し、加熱して重合反応を行った後、得られた溶液から溶媒を留去する、貧溶媒を加えて晶析する、冷却することで晶析する等の通常の晶析操作を行うことで得ることができる。用いる溶剤については特に制限はなく、重合反応に不活性な溶剤であればよく、例えば後述する液晶組成物に含まれ得る溶剤が挙げられる。また、添加剤として連鎖移動剤等を用いてもよい。

前記重合反応における加熱温度は、所望する重合体（Ｂ）の分子量、使用する熱重合開始剤の種類、反応濃度等に応じて適宜決定すればよいが、通常２０〜１２０℃であり、例えば、４０〜８０℃であることが好ましく、４０〜６０℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、通常１０分〜２４時間であり、１０分〜１０時間であることが好ましく、１０分〜５時間であることがより好ましい。

＜液晶組成物＞
本発明の液晶組成物は、重合体（Ｂ）として、該液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物（Ａ）を単量体として重合させた重合体を含むものであってよく、該液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物（Ａ）とは異なる重合性液晶化合物（Ａ）を単量体として重合させた重合体を含むものであってもよい。液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物（Ａ）とは異なる重合性液晶化合物（Ａ）を単量体として重合させた重合体としては、例えば、液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物（Ａ）が前記式（Ａ）で表される化合物である場合、式（Ａ）中のＡｒにおける環構造が異なる重合性液晶化合物（Ａ）の重合体などが挙げられる。また、重合体（Ｂ）は、上述したように、単独重合体であっても、共重合体であってもよい。重合体（Ｂ）が、液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物と同じ構造単位を有することにより、液晶組成物を種々の溶媒に溶解させた場合において、保存時や塗工時に重合性液晶化合物が析出しにくくなり、安定性に優れた液晶組成物となるため、本発明の液晶組成物は、重合体（Ｂ）として、該液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物（Ａ）を単量体として重合させた重合体を含むことが好ましい。本発明の好適な一実施態様において、液晶組成物は、重合体（Ｂ）として、該液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物（Ａ）を単量体として重合した重合体のみを含む。

本発明の液晶組成物において、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された重合体（Ｂ）の面積百分率値は、液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物（Ａ）と重合体（Ｂ）の全ピーク面積に対して、好ましくは０．０１％以上４０％以下、より好ましくは０．１％以上４０％以下、さらに好ましくは０．１％以上２０％以下、特に好ましくは０．４％以上２０％以下である。重合体（Ｂ）の面積百分率値が上記下限値以上であると、本発明の液晶組成物を種々の溶剤に溶解させた場合において、保存時に重合性液晶化合物が析出しにくい。また、重合体（Ｂ）の面積百分率値が上記上限値以下であると、フィルム作成時に液晶の配向状態を良好に保つことができるため、配向欠陥が発生しにくい。なお、前記面積百分率値は、東ソー株式会社製ＨＬＣ−８２２０により測定したＧＰＣの結果に基づき、重合体（Ｂ）面積値を測定し、下記式によって算出した値である。

本発明の液晶組成物の極大吸収波長（λ_ｍａｘ）は、好ましくは３００〜４００ｎｍ、より好ましくは３１５〜３８５ｎｍ、さらに好ましくは３２０〜３８０ｎｍである。液晶組成物の極大吸収波長（λ_ｍａｘ）が上記下限値以上であると、液晶組成物の配向状態における重合体から構成される位相差フィルムは逆波長分散性を示しやすい傾向にある。液晶組成物の極大吸収波長（λ_ｍａｘ）が上記上限値以下であると、可視光域での吸収が抑制されるためフィルムへの着色を抑えることができる。

本発明の液晶組成物は、位相差フィルムを形成する際の取扱いや成膜が容易となることから、有機溶剤を含むことが好ましい。本発明の液晶組成物を溶剤に溶解させた場合の保存時において、液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物（Ａ）の結晶の析出を抑制することができるため、該液晶組成物を用いて製造した位相差フィルムでは欠陥の発生を抑えることができる。例えば、Ｎ−メチルピロリドンを溶媒に用いた場合に、本発明の液晶組成物は、重合体（Ｂ）を含まない場合と比べて結晶の析出が抑制され、さらに重合体（Ｂ）が存在していても得られる位相差フィルムの品質に悪影響を及ぼしにくいため、工業的な作業性が高く、品質の良好な位相差フィルムを得ることができる。

本発明の液晶組成物に含有し得る有機溶剤としては、重合性液晶化合物（Ａ）および重合体（Ｂ）などを溶解し得る有機溶剤であり、重合反応に不活性な溶剤であればよい。このような有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートまたは乳酸エチルなどのエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトンまたはメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤；ペンタン、ヘキサンまたはヘプタンなどの非塩素系脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレンまたはフェノールなどの非塩素系芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリルなどのニトリル系溶剤；テトラヒドロフランまたはジメトキシエタンなどのエーテル系溶剤；クロロホルムまたはクロロベンゼンなどの塩素系溶剤；Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）またはＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等のアミド系溶剤などが挙げられ、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、非塩素系芳香族炭化水素溶剤、エーテル系溶剤、およびアミド系溶剤が好ましく、ケトン系溶剤およびアミド系溶剤がより好ましく、アミド系溶剤がさらに好ましい。これら有機溶剤は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。

本発明の液晶組成物における有機溶剤の含有量は、重合性液晶化合物（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１００〜１００００質量部、より好ましくは２００〜５０００質量部、さらに好ましくは５００〜２５００質量部である。

また、本発明の液晶組成物は、重合性液晶化合物（Ａ）とともに重合体（Ｂ）を含むことにより、有機溶剤に対する溶解性に優れる。このため、本発明の液晶組成物は保存時の安定性に優れるとともに、塗工時および保存時等に使用する有機溶剤の量を減らすことができる点においても有利である。例えば、溶剤としてＮ−メチルピロリドンを用いた場合、溶剤の含有量が重合性液晶化合物（Ａ）を１００質量部として、例えば２５００質量部以下であっても長期間（例えば、２４時間以上、好ましくは７２時間以上）にわたり重合性液晶化合物（Ａ）の析出を抑制することができる。

本発明の液晶組成物は、例えば、重合体（Ｂ）の調製方法として先に記載したような方法により、予め別途調製した重合体（Ｂ）と、重合性液晶化合物（Ａ）とを、重合体（Ｂ）の面積百分率値が所定の値となるよう混合することにより得ることができる。また、液晶組成物に含まれる重合体（Ｂ）が、該液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物（Ａ）に由来する重合体のみである場合には、重合性液晶化合物（Ａ）の重合反応の進行を制御することにより、未反応の重合性液晶化合物（Ａ）とその重合体（Ｂ）との混合物として本発明の液晶組成物を得ることもできる。

後者の方法において、重合性液晶化合物（Ａ）の重合反応は、例えば、用いる重合開始剤の種類や量、加熱温度や加熱時間等の反応条件により制御することができる。重合開始剤としては、重合体（Ｂ）に関して例示したものと同様のものが挙げられ、熱重合開始剤が好ましい。
加熱温度は、所望する重合性液晶化合物（Ａ）と重合体（Ｂ）の比率、所望する重合体（Ｂ）の分子量、使用する熱重合開始剤の種類、反応濃度等に応じて適宜決定すればよいが、通常２０〜１２０℃であり、例えば、４０〜８０℃であることが好ましく、４０〜６０℃であることがより好ましい。また、加熱時間は、通常１０分〜２４時間であり、１０分〜１０時間であることが好ましく、１０分〜５時間であることがより好ましい。

本発明の一実施態様において、上記液晶組成物の配向状態における重合体から構成される位相差フィルム（以下、「本発明の位相差フィルム」ともいう）が提供される。本発明の位相差フィルムは下記式（１）の波長分散度Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）を満たすことが好ましい。
０．８≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０ （１）
[式（１）中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する正面位相差値を表す。]
本発明の位相差フィルムの波長分散度Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）は、より好ましくは０．８以上０．９８未満、さらに好ましくは０．８以上０．９６未満である。本発明の位相差フィルムの波長分散度Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）が上記下限値以上であると、４５０ｎｍ付近の短波長域において円偏光変換が可能となるため好ましい。本発明の位相差フィルムの波長分散度Ｒｅ（４５０ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）が上記上限値未満であると、得られる位相差フィルムが逆波長分散性を示すため好ましい。

本発明の位相差フィルムは、透明性に優れ、様々な光学ディスプレイにおいて用いることができる。該位相差フィルムの厚みは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、光弾性を小さくする点で０．５〜３μｍであることがさらに好ましい。

本発明の位相差フィルムをλ／４板に用いる場合には、得られる位相差フィルムの、波長５５０ｎｍにおける位相差値（Ｒｅ（５５０ｎｍ））が好ましくは１１３〜１６３ｎｍ、より好ましくは１３０〜１５０ｎｍ、特に好ましくは約１３５ｎｍ〜１５０ｎｍである。

本発明の位相差フィルムをＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード用光学フィルムとして使用するためには、Ｒｅ（５５０ｎｍ）を好ましくは４０〜１００ｎｍ、より好ましくは６０〜８０ｎｍ程度となるように、位相差フィルムの膜厚を調整すればよい。

本発明の位相差フィルムを偏光フィルムと組み合わせることにより、偏光板（以下、「本発明の偏光板」ともいう）、特に楕円偏光板および円偏光板が提供される。これら楕円偏光板および円偏光板においては、偏光フィルムに本発明の位相差フィルムが貼合されている。また、本発明においては、該楕円偏光板または円偏光板にさらに本発明の位相差フィルムを広帯域λ／４板として貼合させた広帯域円偏光板も提供することができる。

本発明の一実施態様において、本発明の偏光板を含む光学ディスプレイ、例えば、反射型液晶ディスプレイおよび有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイに用いることができる。上記ＦＰＤは、特に限定されるものではなく、例えば液晶表示装置（ＬＣＤ）や有機ＥＬ表示装置を挙げることができる。

本発明において光学ディスプレイは、本発明の偏光板を備えるものであり、例えば本発明の偏光板と液晶パネルとが貼り合わされた貼合品を備える液晶表示装置や、本発明の偏光板と、発光層とが貼り合わされた有機ＥＬパネルを備える有機ＥＬ表示装置を挙げることができる。

なお、本発明において位相差フィルムとは、直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、逆に円偏光または楕円偏光を直線偏光に変換したりするために用いられるフィルムである。本発明の位相差フィルムは、本発明の液晶組成物の重合体を含むものである。すなわち、本発明の位相差フィルムは、重合性液晶化合物（Ａ）に由来する構造単位から構成される重合体および重合体（Ｂ）を含むものである。

本発明の位相差フィルムは、例えば以下のような方法により製造することができる。
まず、重合性液晶化合物（Ａ）および重合体（Ｂ）、場合により上述した有機溶剤を含む液晶組成物に、必要に応じて、下記重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤またはレベリング剤などの添加剤を加えて、混合溶液を調製する。特に成膜時に成膜が容易となることから有機溶剤を含むことが好ましく、得られた位相差フィルムを硬化する働きをもつことから重合開始剤を含むことが好ましい。

重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤および熱重合開始剤等が挙げられ、光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、例えばベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ベンジルケタール類、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、ヨードニウム塩またはスルホニウム塩等が挙げられ、より具体的には、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、全てチバ・ジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学株式会社製）、カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２またはアデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て株式会社ＡＤＥＫＡ製）などを挙げることができる。

重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物（Ａ）１００質量部に対して、例えば０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜２０質量部であり、より好ましくは０．５〜１０質量部である。上記範囲内であれば、液晶化合物の配向性を乱すことなく、重合性液晶化合物（Ａ）を重合させることができる。

本発明の位相差フィルムを調製する際に使用し得る重合禁止剤としては、例えばハイドロキノンまたはアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類、ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類、ピロガロール類、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル捕捉剤、チオフェノール類、β−ナフチルアミン類またはβ−ナフトール類等を挙げることができる。

重合禁止剤を用いることにより、重合性液晶化合物（Ａ）の重合を制御することができ、得られる位相差フィルムの安定性を向上させることができる。重合禁止剤の使用量は、例えば重合性液晶化合物（Ａ）１００質量部に対して、０．０５〜３０質量部であり、好ましくは０．１〜１０質量部である。上記範囲内であれば、液晶化合物の配向性を乱すことなく、重合性液晶化合物（Ａ）を重合させることができる。

また、本発明の位相差フィルムを調製する際に使用し得る光増感剤としては、例えばキサントンまたはチオキサントン等のキサントン類、アントラセンまたはアルキルエーテルなどの置換基を有するアントラセン類、フェノチアジン或いはルブレンを挙げることができる。

光増感剤を用いることにより、重合性液晶化合物（Ａ）の重合を高感度化することができる。光増感剤の使用量としては、重合性液晶化合物（Ａ）１００質量部に対して、例えば０．０５〜３０質量部であり、好ましくは０．１〜１０質量部である。上記範囲内であれば、液晶化合物の配向性を乱すことなく、重合性液晶化合物（Ａ）を重合させることができる。

本発明の位相差フィルムを調製する際に使用し得るレベリング剤としては、例えば放射線硬化塗料用添加剤（ビックケミージャパン製：ＢＹＫ−３５２，ＢＹＫ−３５３，ＢＹＫ−３６１Ｎ）、塗料添加剤（東レ・ダウコーニング株式会社製：ＳＨ２８ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ）、塗料添加剤（信越化学工業株式会社製：ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１）またはフッ素系添加剤（大日本インキ化学工業株式会社製：Ｆ−４４５、Ｆ−４７０、Ｆ−４７９）などを挙げることができる。

レベリング剤を用いることにより、得られる位相差フィルムを平滑化することができる。さらに位相差フィルムの製造過程で、液晶組成物を含有する混合溶液の流動性を制御したり、重合性液晶化合物（Ａ）を重合して得られる位相差フィルムの架橋密度を調整したりすることができる。またレベリング剤の使用量の具体的な数値は、例えば重合性液晶化合物（Ａ）１００質量部に対して、０．０５〜３０質量部であり、好ましくは０．０５〜１０質量部である。上記範囲内であれば、液晶化合物の配向性を乱すことなく、重合性液晶化合物（Ａ）を重合させることができる。

本発明の液晶組成物を含有する混合溶液の粘度は、塗布しやすいように、例えば１０Ｐａ・ｓ以下、好ましくは０．１〜７Ｐａ・ｓ程度に調整されることが好ましい。なお、混合溶液の粘度は、有機溶剤の含有量により調整することができる。

また、上記混合溶液における固形分の濃度は、例えば５〜５０質量％であり、好ましくは５〜３０％、より好ましくは５％〜１５％である。なお、ここでいう「固形分」とは、混合溶液（液晶組成物）から溶剤を除いた成分のことをいう。固形分の濃度が５％以上であると、位相差フィルムが薄くなりすぎず、液晶パネルの光学補償に必要な複屈折率が与えられる傾向がある。また５０％以下であると、混合溶液の粘度が低いことから、位相差フィルムの膜厚にムラが生じにくくなる傾向があることから好ましい。

続いて支持基材に、支持基材の上に、本発明の液晶組成物を含有する混合溶液を塗布し、乾燥すると、未重合フィルムが得られる。未重合フィルムがネマチック相などの液晶相を示す場合、得られる位相差フィルムは、モノドメイン配向による複屈折性を有する。未重合フィルムは０〜１２０℃程度、好ましくは、２５〜８０℃の低温で配向することから、配向膜として耐熱性に関して必ずしも十分ではない支持基材を用いることができる。また、配向後さらに３０〜１０℃程度に冷却しても結晶化することがないため、取扱いが容易である。

なお混合溶液の塗布量や濃度を適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように膜厚を調整することができる。重合性液晶化合物（Ａ）および重合体（Ｂ）の量が一定である混合溶液の場合、得られる位相差フィルムの位相差値（リタデーション値、Ｒｅ（λ））は、式（Ｉ）のように決定されることから、所望のＲｅ（λ）を得るために、膜厚ｄを調整してもよい。

Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （Ｉ）
（式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表す。）

支持基材への塗布方法としては、例えば押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法またはダイコーティング法などが挙げられる。またディップコーター、バーコーターまたはスピンコーターなどのコーターを用いて塗布する方法などが挙げられる。

上記支持基材としては、例えばガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルムまたは透光性フィルムを挙げることができる。なお前記透光性フィルムとしては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマーなどのポリオレフィンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルムまたはポリフェニレンオキシドフィルムなどが挙げられる。

例えば本発明の位相差フィルムの貼合工程、運搬工程、保管工程など、位相差フィルムの強度が必要な工程でも、支持基材を用いることにより、破れなどなく容易に取り扱うことができる。

また、支持基材上に配向膜を形成して、配向膜上に本発明の液晶組成物を含む混合溶液を塗工することが好ましい。配向膜は、本発明の液晶組成物などを含有する混合溶液の塗工時に、混合溶液に溶解しない溶剤耐性を持つこと、溶剤の除去や液晶の配向の加熱処理時に耐熱性をもつこと、ラビング時に摩擦などによる剥がれなどが起きないことが好ましく、ポリマーまたはポリマーを含有する組成物からなることが好ましい。

前記ポリマーとしては、例えば分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸またはポリアクリル酸エステル類等のポリマーを挙げることができる。これらのポリマーは、単独で用いてもよいし、２種類以上混ぜたり、共重合体としたりしてもよい。これらのポリマーは、脱水や脱アミンなどによる重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合や開環重合等で容易に得ることができる。

またこれらのポリマーは、溶剤に溶解して、塗布することができる。溶剤は、特に制限はないが、具体的には、水；メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートまたは乳酸エチルなどのエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトンまたはメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤；ペンタン、ヘキサンまたはヘプタンなどの非塩素系脂肪族炭化水素溶剤；トルエンまたはキシレンなどの非塩素系芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリルなどのニトリル系溶剤；テトラヒドロフランまたはジメトキシエタンなどのエーテル系溶剤；クロロホルムまたはクロロベンゼンなどの塩素系溶剤；などが挙げられる。これら有機溶剤は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。

また配向膜を形成するために、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業株式会社製）またはオプトマー（登録商標、ＪＳＲ株式会社製）などが挙げられる。

このような配向膜を用いれば、延伸による屈折率制御を行う必要がないため、複屈折の面内ばらつきが小さくなる。それゆえ、支持基材上にフラットパネル表示装置（ＦＰＤ）の大型化にも対応可能な大きな位相差フィルムを提供できるという効果を奏する。

上記支持基材上に配向膜を形成する方法としては、例えば上記支持基材上に、市販の配向膜材料や配向膜の材料となる化合物を溶液にして塗布し、その後、アニールすることにより、上記支持基材上に配向膜を形成することができる。

このようにして得られる配向膜の厚さは、例えば１０ｎｍ〜１００００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍである。上記範囲とすれば、重合性液晶化合物（Ａ）および重合体（Ｂ）等を該配向膜上で所望の角度に配向させることができる。

またこれら配向膜は、必要に応じてラビングまたは偏光ＵＶ照射を行うことができる。配向膜を形成させることにより重合性液晶化合物（Ａ）および重合体（Ｂ）等を所望の方向に配向させることができる。

配向膜をラビングする方法としては、例えばラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールを、ステージに載せられ、搬送されている配向膜に接触させる方法を用いることができる。

上記の通り、未重合フィルムを調製する工程では、任意の支持基材の上に積層した配向膜上に未重合フィルム（液晶層）を積層してもよい。この場合、液晶セルを作製し、該液晶セルに液晶組成物を注入する方法に比べて、生産コストを低減することができる。さらにロールフィルムでのフィルムの生産が可能である。

溶剤の乾燥は、重合を進行させるとともに行ってもよいが、重合前にほとんどの溶剤を乾燥させることが、成膜性の点から好ましい。

溶剤の乾燥方法としては、例えば自然乾燥、通風乾燥、減圧乾燥などの方法が挙げられる。具体的な加熱温度としては、１０〜１２０℃であることが好ましく、２５〜８０℃であることがさらに好ましい。また加熱時間としては、１０秒間〜６０分間であることが好ましく、３０秒間〜３０分間であることがより好ましい。加熱温度および加熱時間が上記範囲内であれば、上記支持基材として、耐熱性が必ずしも十分ではない支持基材を用いることができる。

次に、上記で得られた未重合フィルムを重合し、硬化させる。これにより重合性液晶化合物（Ａ）および重合体（Ｂ）の配向性が固定化されたフィルム、すなわち本発明の液晶組成物の重合体を含むフィルム（以下、「重合フィルム」ともいう）となる。これにより、フィルムの平面方向に屈折率変化が小さく、フィルムの法線方向に屈折率変化が大きい重合フィルムを製造することができる。

未重合フィルムを重合させる方法は、重合性液晶化合物（Ａ）の種類に応じて、決定されるものである。重合性液晶化合物（Ａ）に含まれる重合性基が光重合性であれば光重合、該重合性基が熱重合性であれば熱重合により、上記未重合フィルムを重合させることができる。本発明では、特に光重合により未重合フィルムを重合させることが好ましい。光重合によれば低温で未重合フィルムを重合させることができるので、支持基材の耐熱性の選択幅が広がる。また工業的にも製造が容易となる。また成膜性の観点からも光重合が好ましい。光重合は、未重合フィルムに可視光、紫外光またはレーザー光を照射することにより行う。取り扱い性の観点から、紫外光が特に好ましい光照射は、重合性液晶化合物（Ａ）が液晶相をとる温度に加温しながら行ってもよい。この際、マスキングなどによって重合フィルムをパターニングすることもできる。

さらに本発明の位相差フィルムは、ポリマーを延伸することによって位相差を与える延伸フィルムと比較して、薄膜である。

本発明の位相差フィルムの製造方法において、さらに、支持基材を剥離する工程を含んでいてもよい。このような構成とすることにより、得られる積層体は、配向膜と位相差フィルムとからなるフィルムとなる。また上記支持基材を剥離する工程に加えて、配向膜を剥離する工程をさらに含んでいてもよい。このような構成とすることにより、位相差フィルムを得ることができる。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。

ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）分析条件を以下に示す。
＜ＧＰＣ分析条件＞
測定装置：ＨＬＣ−８２２０（東ソー株式会社）
カラム：ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＭｕｌｔｉｐｏｒｅＨＺ−Ｎ ３本
カラム温度：４０℃
インレットオーブン：４０℃
移動相：テトラヒドロフラン
分析時間：２０分
サンプルポンプ流量：０．３５ｍＬ／分
リファレンスポンプ流量：０．３５ｍＬ／分
注入量：１０μｍ
検出：紫外吸収（波長：２５４ｎｍ）

１．実施例１
（１）液晶組成物の調製
以下の方法に従い、下記式（Ａ−１）で示される重合性液晶化合物（Ａ）（以下、「化合物（Ａ−１）」という）と、下記式（Ｂ−１）で示される重合体（Ｂ）（以下、「重合体（Ｂ−１）」という）とを含む液晶組成物（１）を合成した。

＜工程（ａ）＞
ジムロート冷却管および温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、特許文献（特開２０１０−３１２２３）を参考に合成した化合物（Ｃ−１−１）１１．０２ｇ、特許文献（特開２０１１−２０７７６５）を参考に合成した化合物（Ｆ−１−１）４．００ｇ、ジメチルアミノピリジン（以下、「ＤＭＡＰ」と略す。和光純薬工業（株）製）０．０２ｇ、ジブチルヒドロキシトルエン（以下、「ＢＨＴ」と略す。和光純薬工業（株）製）０．２０ｇ、およびクロロホルム（関東化学（株）製）５８ｇを混合した後、ジイソプロピルカルボジイミド（以下、「ＩＰＣ」と略す。和光純薬工業（株）製）４．０５ｇを滴下漏斗で加えて０℃で一晩反応させた。反応終了後、濾過をして不溶成分を除去した。得られたクロロホルム溶液を、含有するクロロホルムの重量に対して３倍の重量のアセトニトリル（和光純薬工業（株）製）に滴下した。続いて、濾過して析出した固体を取り出し、２０ｇのアセトニトリルで３回洗浄した後、３０℃で減圧乾燥することにより化合物（Ａ−１）を１１．４３ｇ得た。化合物（Ａ−１）の収率は、化合物（Ｆ−１−１）基準で８０％であった。

＜工程（ｂ）＞
工程（ａ）で得られた化合物（Ａ−１）１０ｇ、アゾビスイソブチロニトリル（以下、「ＡＩＢＮ」と略す。和光純薬工業（株）製）０．０１５ｇ、およびテトラヒドロフラン（林純薬（株）製）９０ｇを混合し、６０℃で１時間反応させた。反応終了後、ヘプタン１８０ｇ（和光純薬工業（株）製）を添加して析出した固体を取り出し、テトラヒドロフラン／ヘプタン（質量比：１／２）溶液で洗浄を行った後、３０℃で減圧乾燥することで液晶組成物（１）を９．８０ｇ得た。液晶組成物（１）の収率は、化合物（Ａ−１）基準で９８％であった。なお、液晶組成物（１）の極大吸収波長（λ_ｍａｘ）は３５２ｎｍであった。

得られた液晶組成物（１）について、ＧＰＣを用いて重合体（Ｂ−１）の重量平均分子量および面積百分率値を測定した。その結果を表１に示す。

（２）保存安定性評価
バイアル管に、前記液晶組成物（１）を投入し、表２に記載の組成に従い重合開始剤、レベリング剤、重合禁止剤および溶剤を仕込み、カルーセルを用いて８０℃で３０分撹拌し、液晶組成物含有混合溶液（１）を得た。
なお、表２に示す重合開始剤、レベリング剤および重合禁止剤の量は、液晶組成物（１）１００質量部に対する仕込み量である。また、溶剤の配合量は、液晶化合物（Ａ−１）の質量％が溶液全量に対して１３％となるように設定した。

重合開始剤：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９；ＢＡＳＦジャパン社製）
レベリング剤：ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ビックケミージャパン製）
重合禁止剤：ＢＨＴ（和光純薬工業（株）製）
溶剤：Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ；関東化学（株）製）

得られた液晶組成物含有混合溶液（１）を２５℃で保管し、経時的に目視にて結晶析出の有無を確認し、以下の評価基準に従い保存安定性を評価した。結果を表９に示す。
保存安定性評価基準
１：保管後直ちに析出
２：保管２４時間後に析出なし
３：保管４８時間後に析出なし
４：保管７２時間後に析出なし

（３）光学フィルム（位相差フィルム）の作製
＜光配向膜形成用組成物の調製＞
下記成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物（１）を得た。下記光配向性材料は、特開２０１３−３３２４８号公報記載の方法で合成した。
光配向性材料（５部）：

溶剤（９５部）：シクロペンタノン

＜光学フィルムの製造例＞
以下のように光学フィルムを製造した。シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）（ＺＦ−１４、日本ゼオン株式会社製）を、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した表面に、前記光配向膜形成用組成物（１）をバーコーター塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施した。得られた配向膜の膜厚をレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ、１００ｎｍであった。
続いて、前記保存安定性評価における混合溶液と同様に調製した液晶組成物含有混合溶液（１）を、配向膜上にバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより光学フィルムを作成した。なお、得られた光学フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）の値は０．８２であり、式（１）：０．８≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００の光学特性を満たしていた。

（４）配向欠陥の確認
得られた光学フィルムを１０ｃｍ四方に切り出し、偏光顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス社製）を用いて目視にて画面上の配向欠陥の個数を確認した。結果を表９に示す。
配向欠陥評価基準
１：全面に配向欠陥が発生（＞１００個）
２：１１〜１００個
３：１〜１０個
４：欠陥なし

２．実施例２〜１７
（１）液晶組成物（２）〜（５）の調製
表３に示す組成に従い、実施例１で得られた液晶組成物（１）と化合物（Ａ−１）を混合し、液晶組成物（２）〜（５）を調製した。得られた液晶組成物（２）〜（５）について、ＧＰＣを用いて重合体（Ｂ−１）の重量平均分子量および面積百分率値を測定した。その結果を表３に示す。

（２）液晶組成物（６）、（９）、（１４）および（１７）の調製
実施例１の工程（ａ）により得られた化合物（Ａ−１）１０ｇを用いて、表４の条件で工程（ｂ）を行い、液晶組成物（６）、（９）、（１４）および（１７）をそれぞれ得た。

（３）液晶組成物（７）および（８）の調製
表５に示す組成に従い、液晶組成物（６）と化合物（Ａ−１）を混合し、液晶組成物（７）および（８）を調製した。得られた液晶組成物（６）〜（８）について、ＧＰＣを用いて重合体（Ｂ−１）の重量平均分子量および面積百分率値を測定した。その結果を表５に示す。

（４）液晶組成物（１０）〜（１３）の調製
表６に示す組成に従い、液晶組成物（９）と化合物（Ａ−１）を混合し、液晶組成物（１０）〜（１３）を調製した。得られた液晶組成物（１０）〜（１３）について、ＧＰＣを用いて重合体（Ｂ−１）の重量平均分子量および面積百分率値を測定した。その結果を表６に示す。

（５）液晶組成物（１４）〜（１６）の調製
表７に示す組成に従い、液晶組成物（１４）と化合物（Ａ−１）を混合し、液晶組成物（１４）〜（１６）を調製した。得られた液晶組成物（１４）〜（１６）について、ＧＰＣを用いて重合体（Ｂ−１）の重量平均分子量および面積百分率値を測定した。その結果を表７に示す。

上述した方法により得られた液晶組成物（１７）について、ＧＰＣを用いて重合体（Ｂ−１）の重量平均分子量および面積百分率値を測定した。その結果を表８に示す。

（６）保存安定性および配向欠陥の評価
得られた液晶組成物（２）〜（１７）について、実施例１と同様の配合割合および方法により液晶組成物含有混合溶液を調製し、保存安定性を評価した。さらに、実施例１と同様の方法により光学フィルムを作製し、得られた光学フィルムの配向欠陥の有無を確認した。その結果を表９に示す。

３．実施例１８および１９
（１）液晶組成物（１８）の調製
以下の方法に従い、下記式（Ａ−２）で示される重合性液晶化合物（Ａ）（以下、「化合物（Ａ−２）」という）と式（Ｂ−２）で示される重合体（Ｂ）（以下、「重合体（Ｂ−２）」という）とを含む液晶組成物（１８）を合成した。

＜工程（ａ）＞
実施例１で用いた化合物（Ｆ−１−１）を化合物（Ｆ−１−２）に変更した以外は、実施例１と同様の条件で化合物（Ａ−２）を得た。なお、化合物（Ｆ−１−２）は、特許文献（特開２０１１−２０７７６５）を参考に合成した。

＜工程（ｂ）＞
前記工程（ａ）で得られた化合物（Ａ−２）を用いて、反応時間を２時間にしたこと以外は実施例１と同様の条件で工程（ｂ）を行い、化合物（Ａ−２）と重合体（Ｂ−２）を含む液晶組成物（１８）を得た。なお、液晶組成物（１８）の極大吸収波長（λ_ｍａｘ）は３２６ｎｍであった。

得られた液晶組成物（１８）について、ＧＰＣを用いて重合体（Ｂ−２）の重量平均分子量および面積百分率値を測定した。その結果を表１０に示す。

（２）液晶組成物（１９）の調製
表１１に示す組成に従い、液晶組成物（１８）と化合物（Ａ−２）を混合し、液晶組成物（１９）を調製した。得られた液晶組成物（１９）について、ＧＰＣを用いて重合体（Ｂ−２）の重量平均分子量および面積百分率値を測定した。その結果を表１１に示す。

（３）保存安定性および配向欠陥の評価
得られた液晶組成物（１８）および（１９）について、実施例１と同様の配合割合および方法により液晶組成物含有混合溶液を調製し、保存安定性を評価した。さらに、実施例１と同様の方法により光学フィルムを作製し、得られた光学フィルムの配向欠陥の有無を確認した。その結果を表１２に示す。

４．実施例２０および２１
（１）液晶組成物（２０）の調製
以下の方法に従い、下記式（Ａ−３）で示される重合性液晶化合物（Ａ）（以下、「化合物（Ａ−３）」という）と式（Ｂ−３）で示される重合体（Ｂ）（以下、「重合体（Ｂ−３）」という）とを含む液晶組成物（２０）を合成した。

＜工程（ａ）＞
実施例１で用いた化合物（Ｆ−１−１）を化合物（Ｆ−１−３）に変更した以外は実施例１と同様の条件で化合物（Ａ−３）を得た。なお、化合物（Ｆ−１−３）は、特許文献（特開２０１１−２０７７６５）を参考に合成した。

＜工程（ｂ）＞
前記工程（ａ）で得られた化合物（Ａ−３）を用いて、反応時間を２時間にした以外は実施例１と同様の条件で工程（ｂ）を行い、化合物（Ａ−３）と重合体（Ｂ−３）を含む液晶組成物（２１）を得た。なお、液晶組成物（２１）の極大吸収波長（λ_ｍａｘ）は３４２ｎｍであった。

得られた液晶組成物（２０）について、ＧＰＣを用いて重合体（Ｂ−３）の重量平均分子量および面積百分率値を測定した。その結果を表１３に示す。

（２）液晶組成物（２１）の調製
表１４に示す組成に従い、液晶組成物（２０）と化合物（Ａ−３）を混合し、液晶組成物（２１）を調製した。得られた液晶組成物（２１）について、ＧＰＣを用いて重合体（Ｂ−３）の重量平均分子量および面積百分率値を測定した。その結果を表１４に示す。

（３）保存安定性および配向欠陥の評価
得られた液晶組成物（２０）および（２１）について、実施例１と同様の配合割合および方法により液晶組成物含有混合溶液を調製し、保存安定性を評価した。さらに、実施例１と同様の方法により光学フィルムを作製し、得られた光学フィルムの配向欠陥の有無を確認した。その結果を表１５に示す。

５．比較例１〜７
前記実施例中の化合物（Ａ−１）、（Ａ−２）および（Ａ−３）に、表１６に示す重合体をそれぞれ添加して液晶混合物を調製した。実施例１の液晶組成物含有混合溶液の調製と同様の方法を用いて、前記各液晶混合物から液晶混合物含有混合溶液を作製し、保存安定性を評価した。その結果を表１６に示す。

なお、表１６における各重合体の化学式は以下のとおりである。

重合体Ｄ：

重合体Ｅ

重合体Ｆ

表９、表１２および表１５に示すとおり、主鎖に環構造を５個以上有する重合性液晶化合物と、該重合性液晶化合物の重合体とを含む実施例１〜２１の液晶組成物は、保管後長時間にわたり結晶の析出が抑えられ、保存安定性に優れていた。また、実施例１〜２１の液晶組成物を用いて形成した光学フィルムは配向欠陥のない、または少ない光学フィルムとなった。これに対して、表１６に示すとおり、本発明の実施例で用いたものと同じ重合性液晶化合物を用いても、重合体を含まない液晶混合物（比較例１、６および７）、および主鎖に環構造を５個以上有する重合性液晶化合物の重合体とは異なる構造の重合体を含む液晶混合物（比較例２〜５）では、保管後直ちに結晶の析出がみられ、保存安定性に劣ることが確認された。

Claims (14)

1. 主鎖に環構造を５個以上有する重合性液晶化合物（Ａ）と、主鎖に環構造を５個以上有する重合性液晶化合物（Ａ）の重合体（Ｂ）とを含む液晶組成物。
2. ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された前記重合体（Ｂ）の面積百分率値が、０．０１％以上４０％以下である、請求項１に記載の液晶組成物。
3. ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された前記重合体（Ｂ）の重量平均分子量（Ｍｗ）が４,０００〜２００,０００である、請求項１または２に記載の液晶組成物。
4. さらに有機溶剤を含む、請求項１〜３のいずれかに記載の液晶組成物。
5. 前記重合性液晶化合物（Ａ）は、下記式（Ａ）で表される重合性液晶化合物である、請求項１〜４のいずれかに記載の液晶組成物。
   

   

   ［式（Ａ）中、ｍおよびｎは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表し、
   Ｂ^１、Ｂ^２、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｅ^１およびＥ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＮＲ^２−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｓ−または単結合を表し、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、
   Ａ^１、Ａ^２、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数３〜１６の２価の脂環式炭化水素基または炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基および該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、−Ｒ^３、−ＯＲ^３、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−または−ＮＲ^４−で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置換されていてもよく、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、
   Ｆ^１およびＦ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、−ＯＲ^３またはハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−または−ＣＯ−で置き換わっていてもよく、
   Ｐ^１およびＰ^２は、それぞれ独立に、水素原子または重合性基を表し（ただしＰ^１およびＰ^２のうち少なくとも１つは重合性基を表す）、
   Ａｒは置換されていてもよい２価の芳香族基であり、該芳香族基中に、少なくとも１つの窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含む。］
6. 前記式（Ａ）中のＡｒはπ電子を１０個以上３０個以下有する芳香族基である、請求項５に記載の液晶組成物。
7. 極大吸収波長（λｍａｘ）が３００〜４００ｎｍである、請求項１〜６のいずれかに記載の液晶組成物。
8. 前記式（Ａ）中のＡｒは複素環を有する芳香族基である、請求項５〜７のいずれかに記載の液晶組成物。
9. 前記複素環を有する芳香族基はベンゾチアゾール基を有する芳香族基である、請求項８に記載の液晶組成物。
10. Ｇ^１およびＧ^２の両方がトランス−シクロヘキサン−１，４−ジイル基である、請求項５〜９のいずれかに記載の液晶組成物。
11. 請求項１〜１０のいずれかに記載の液晶組成物から構成される位相差フィルム。
12. 下記式（１）を満たす、請求項１１に記載の位相差フィルム。
    ０．８０≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ （１）
    [式（１）中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する正面位相差値を表す。]
13. 請求項１１または１２に記載の位相差フィルムを含む偏光板。
14. 請求項１３に記載の偏光板を含む光学ディスプレイ。