JP2017177298A - 基板処理装置の異常検出システム及び方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】基板処理装置を構成する各構成部品に異常が発生した頻度を視覚的に表示するようにする。【解決手段】基板処理装置を構成する構成要素の出力データを検出する検出部と、当該構成要素が正常に動作している場合の出力データの範囲を正常数値範囲として記憶する記憶部と、構成要素からの出力データが正常数値範囲から逸脱したか否かを判定し、正常数値範囲から逸脱した異常頻度の情報を所定時間毎に記憶部に記憶させる異常判定部と、構成要素における異常頻度を所定時間毎に区分けして表示する表示部とを備える。異常頻度の情報は、例えば基板処理装置の研磨ユニットを駆動するモータ毎にヒストグラム形式で表示することができる。【選択図】図5

Description

本発明は、半導体ウェハ等の基板を研磨処理する基板処理装置の異常を検出するためのシステム及び方法に関する。
半導体ウェハ等の基板を研磨処理する基板処理装置では、装置を構成する各装置モジュール(例えば、研磨ユニットや洗浄ユニット)の稼働状態に関する装置データを収集し、当該装置データに基づいて基板処理装置に故障が発生したかどうかを判定している。そして、ある構成部分に故障であると判定された場合には、電子メールやアラームにより装置のオペレータにその旨が通知され、あるいは、故障と判定された装置モジュールを切り離して残りの部分で基板処理を続行する(縮退運転)ようにしている。
さらに、特許文献1に記載の基板処理システムでは、装置故障を予知するための数値範囲を設定しておき、ある装置モジュールからの装置データ(バルブ開度)が当該数値範囲を逸脱した場合には、故障の発生が予想される装置異常であると判定して、当該装置モジュールを切り離して縮退運転するように構成されている。これにより、故障発生が予想されるモジュールにより処理される基板に不具合が生じることを抑制することができる。
特開2014−116341号公報
ある装置モジュールからの装置データが所定の数値範囲を逸脱する要因としては、当該装置モジュールの構成部品に異常が発生した場合のほか、装置全体の振動、装置データの測定誤差等といった、構成部品の異常に起因しない場合も考えられ、これらを一律に装置異常であると判定して縮退運転を行うのは効率的ではなく、装置のメンテナンスを行うかどうかの指標として用いることが好ましいといえる。
また、装置のメンテナンスを行うにあたっては、通常、装置のオペレータが冊子形式もしくは電子ファイルの手順書を参照して行われる。ここで、基板研磨装置等の半導体処理装置は多くの部品から構成されており、手順書の分量が膨大であることから、オペレータが該当箇所を探し出すのに手間がかかってしまい、メンテナンスの長時間化の一因となっていた。
本発明は、上記に鑑みなされたものであり、基板処理装置のメンテナンスを効率的に行うことを可能とする異常検出システム及び方法を提供することを目的とする。
本発明の一態様は、基板を処理するための基板処理装置の異常を検出するための異常検出システムであって、前記基板処理装置を構成する構成要素の出力データを検出する検出部と、前記構成要素が正常に動作している場合の前記出力データの範囲を正常数値範囲として記憶する記憶部と、前記構成要素からの出力データが前記正常数値範囲から逸脱したか否かを判定し、前記正常数値範囲から逸脱した異常頻度の情報を所定時間毎に前記記憶部に記憶させる異常判定部と、前記構成要素における前記異常頻度を前記所定時間毎に区分けして表示する表示部とを備えたことを特徴とする。
この構成により、基板処理装置を構成する各構成部品に異常が発生した頻度を視覚的に表示することができ、当該構成部品のメンテナンスが必要であるか否かを容易に認識することができる。
前記基板処理装置は、研磨パッドを支持する研磨テーブルと、基板を保持して前記研磨パッドに押し付けるための保持部と、前記研磨パッドの表面を洗浄処理する洗浄部と、前記基板を搬送する搬送機構を備えた基板研磨装置であり、前記構成要素は、前記研磨テーブル、前記保持部、前記洗浄部及び前記搬送機構を駆動するモータであることが好ましい。
本発明の一態様は、前記異常検出システム及びこれと無線通信可能な携帯端末とを唱えたメンテナンスシステムであって、前記携帯端末は、前記異常検出システムから前記構成要素における前記異常頻度の情報を取得可能な無線通信部と、前記基板研磨装置の構成要素に関する情報を取得する情報取得部と、前記基板研磨装置の構成要素に関するメンテナンス資料を記憶する記憶部とを備えており、前記情報取得部において取得された構成要素の情報に対応するメンテナンス資料及び/又は前記異常頻度の情報を抽出して、前記表示部に表示することを特徴とする。この構成により、メンテナンスに必要な資料を効率よく抽出することができ、基板処理装置のメンテナンスを効率的に行うことができる。
上記のメンテナンスシステムにおいて、前記情報取得部は、前記基板研磨装置を撮像する撮像部と、前記撮像部で得られた画像に基づき構成要素のタイプを認識する画像認識部とを備えることが好ましい。あるいは、前記基板研磨装置の構成要素に対応して設けられた識別コードを読み取るコード読取部と、前記識別コードに対応する構成要素を判定する判定部とを備えることが好ましい。
本発明によれば、基板処理装置を構成する構成要素からの出力データが正常数値範囲から逸脱した異常頻度の情報を所定時間毎に記憶しておき、構成要素における異常頻度を所定時間毎に区分けして表示するようにしたから、基板処理装置を構成する各構成部品に異常が発生した頻度を視覚的に表示することができる。
基板研磨装置の一実施形態を示す平面図である。 基板研磨ユニットの一例を示す斜視図である。 基板研磨装置の制御装置の構成を示すブロック図である。 基板研磨装置を構成するモータ出力の一例を示すグラフである。 モータを動作制御する個々のドライバから出力された異常データの一例を示すヒストグラムである。 基板研磨装置の制御装置の別の構成を示すブロック図である。 基板研磨装置のメンテナンス画面の一例である。
以下、本発明に係る基板処理装置のメンテナンスシステムの実施形態について、図面を参照して説明する。なお、同一または相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。
図1は、基板処理装置の全体構成を示す平面図であり、基板処理装置10は、ロード/アンロード部12、研磨部13と、洗浄部14とに区画されており、これらは矩形状のハウジング11の内部に設けられている。また、基板処理装置は、基板処理の動作制御を行う制御装置15を有している。
ロード/アンロード部12は、複数のフロントロード部20と、走行機構21と、2台の搬送ロボット22を備えている。フロントロード部20には、多数のウェハ(基板)をストックするウェハカセットが載置される。搬送ロボット22は、上下に2つのハンドを備えており、走行機構21上を移動することで、フロントロード部20内のウェハカセットからウェハWを取り出して研磨部13へ送るとともに、洗浄部14から送られる処理済みのウェハをウェハカセットに戻す動作を行う。
研磨部13は、ウェハの研磨(平坦化処理)を行う領域であり、複数の(図1では4つの)研磨ユニット13A〜13Dが設けられ、基板処理装置の長手方向に沿って配列されている。ウェハWは、これら研磨ユニット13A〜13Dのいずれかで研磨されても良く、または予め選択された複数の研磨ユニットで連続的に研磨されても良い。
個々の研磨ユニットは、研磨面を有する研磨パッドが取り付けられた研磨テーブル30と、研磨テーブル30上のウェハを研磨パッドに押圧しながら研磨するためのトップリング31と、研磨パッドに研磨液やドレッシング液を供給する研磨液供給ノズル32と、研磨パッドの研磨面のドレッシングを行うドレッサ33と、液体と気体の混合流体または霧状の液体を研磨面に噴射して研磨面に残留する研磨屑や砥粒を洗い流すアトマイザ34を備えている。
また、各研磨ユニットには、図示しないセンサ(例えば、光学センサ、渦電流センサ)が設けられ、制御装置15は、このセンサから信号からモニタリング信号を生成し、研磨中のウェハWの研磨状況を監視する。
研磨部13と洗浄部14との間には、ウェハWを搬送する搬送機構として、第1,第2リニアトランスポータ16,17が設けられている。第1リニアトランスポータ16は、ロード/アンロード部12からウェハWを受け取る第1位置、研磨ユニット13A,13Bとの間でウェハWの受け渡しを行う第2,第3位置、第2リニアトランスポータ17へウェハWを受け渡すための第4位置との間で移動自在とされている。
第2リニアトランスポータ17は、第1リニアトランスポータ16からウェハWを受け取るための第5位置、研磨ユニット13C,13Dとの間でウェハWの受け渡しを行う第6,第7位置との間で移動自在とされている。これらトランスポータ16,17の間には、ウェハWを洗浄部へ送るためのスイングトランスポータ35が備えられている。
洗浄部14は、一次洗浄モジュール40、二次洗浄モジュール41、乾燥モジュール42と、これらモジュールの間でウェハの受け渡しを行うための搬送ロボット43,44を備えており、複数のウェハWに対して同時に、洗浄及び乾燥工程を行うことができる。
図2は、研磨ユニット13Aの構成を示す斜視図である。研磨ユニット13Aは、上面を研磨面50aとした研磨パッド50と、研磨パッド50を取り付けた研磨テーブル30と、被研磨物であるウェハ等の基板を保持して研磨面50aに摺接させて研磨するトップリング31を有するトップリングヘッド51と、研磨面50aの目立て(ドレッシング)を行うドレッサ33を有するドレッサヘッド53を備えている。研磨ユニット13Aを構成するトップリング31、研磨液供給ノズル32、ドレッサ33、アトマイザ34等の構成部品は、後述するモータドライバを介して対応するモータにより駆動され、制御装置15によってその動作が制御される。なお、他の研磨ユニット13B〜13Dについては、その構成が前述の研磨ユニット13Aと同一であるから、詳細な説明は省略する。
トップリングヘッド51は、回転自在に設けられた揺動軸54の上端に連結されており、トップリング31を駆動する駆動機構を覆うヘッドカバーを備えている。トップリング31は、トップリングヘッド51から下方に突出する駆動軸55の下端に連結されており、その底面は真空吸着等により基板を保持する基板保持面を構成する。また、トップリング31は、揺動軸54の回転に伴うトップリングヘッド51の揺動により、研磨テーブル30の上方に位置する研磨位置と、研磨テーブル30の側方の基板受渡位置との間で移動可能とされている。
ドレッサヘッド53は、回転自在に設けられた揺動軸56の上端に連結されており、ドレッサ33を駆動する駆動機構を覆う3つのドレッサヘッドカバー53a〜53cを備えている。ドレッサ33は、第2ドレッサヘッドカバー53bの底面から下方に突出する駆動軸の下端に連結されている。ドレッサ33は、揺動軸の回転に伴うドレッサヘッド53の揺動により、研磨テーブル30の上方に位置する研磨位置と、研磨テーブル30の側方の退避位置との間で移動可能とされている。
研磨テーブル30に隣接して、研磨パッド50の研磨面50aに研磨液(スラリー)を供給する研磨液供給ノズル32が配置されている。研磨液供給ノズル32は、図示しない駆動機構により、先端の供給口が研磨テーブル30の上方に位置する供給位置と、研磨テーブル30の側方の退避位置(図示せず)との間で移動可能とされている。
研磨テーブル30に隣接して、研磨パッド50の研磨面50aに洗浄流体を霧状に噴霧して研磨処理後の研磨面50aを洗浄するためのアトマイザ34が配置されている。洗浄流体は、例えば、液体(例えば純水)と気体(例えば窒素ガス)の混合流体または液体(例えば純水)を用いることができる。アトマイザ34は、その上面を覆うアトマイザカバーを備え、その下面には、洗浄流体を下方に噴霧する複数の噴出口(図示せず)が所定間隔で配置されている。アトマイザ34は、揺動軸57の回転に伴い、研磨テーブル30の上方に位置する洗浄位置(図示せず)と、研磨テーブル30の側方の退避位置との間で移動可能とされている。
図3は、制御装置15の構成を示すブロック図である。制御装置15は、制御部60、入力部61,表示部62、記憶部63、異常診断部64を備えている。制御部60は、基板処理装置の各部の動作を制御するものであり、モータドライバ66を介して基板処理装置を構成する複数のモータ67に接続されている。
入力部61は、キーボードやマウスから構成され、基板処理装置の各部の制御データ、研磨される基板の膜厚データ、研磨ユニットを駆動するモータ67の動作が正常であるか否かを判定するための数値範囲(正常動作範囲)といった各種情報を設定入力するために用いられる。また、表示部62は、基板処理装置の動作状況やメンテナンス状況を表示出力する。なお、表示部62をタッチパネルで構成し、入力部61を省略しても良い。
記憶部63は、基板処理装置の制御プログラム、基板処理装置を構成する各部の設定データのほか、モータの各種出力が正常であるとされる数値範囲の情報が保存されており、制御部60によって適宜読み出されて使用される。
異常診断部64は、モータドライバ66より対応するモータ67に関する各種出力データを受信して、記憶部63に保存されている正常動作範囲のデータと比較して、対応するモータ67に動作異常が発生したかどうかを検出する。
モータドライバ66は、研磨ユニットを構成する各部を駆動するモータ67(例えば、トップリング31を回転させるモータ、トップリングの揺動軸54を回転させるモータ、ドレッサ33を回転させるモータ等)のそれぞれに対応して設けられ、対応するモータ67の動作制御を行う。さらに、モータドライバ66は、対応するモータ67からの各種出力(例えば、回転速度、振動、出力電圧、出力電流)を検知して制御部60に送り、異常診断部64において当該モータ67に異常が発生しているか否かを検出する。
図4は、あるモータ67からの出力値の一例を示したグラフである。同図において縦軸はモータからの出力値(例えば出力電流)であり、横軸は時間である。また、同図においてP1及びP4は、当該モータが故障であると判定されるときの出力値の下限値と上限値であり、モータ出力がこれら下限値及び上限値を超えた場合、当該モータに故障が発生したと判定され、研磨ユニットの動作が一時的に停止する。なお、これらP1及びP4の値は、オペレータにより予め設定しても良く、あるいは過去に研磨ユニットが故障したときの出力データに基づき自動的に設定しても良い。
図4においてP2とP3は、モータが正常に動作している場合の出力値の下限値及び上限値であり、モータの出力がこれら下限値及び上限値を超えた場合、故障には至ってはいないものの、動作異常であると判定される。これらP2及びP3で規定される範囲が、前述の正常動作範囲に相当する。これらP2及びP3の値は、入力部61を介してオペレータにより予め設定しても良く、あるいは故障と判定される値(P1及びP4)の値に基づき装置が自動的に設定しても良い。
図4において、符番68で示した線は、稼働中のモータ67の出力値(出力電流の値)であり、時間T1までの間はP2とP3とで規定される数値範囲内(正常範囲内)で動作している。そして、何らかの原因により時間T1において、モータ67の出力値がP2を下回ると、異常検出部64はモータ67に異常が発生したと検出するが、当該モータ67の駆動は停止せず、引き続き研磨ユニットによる基板研磨処理が続行される。
異常検出部64は、基板研磨ユニットを構成する個々のモータ67について異常が検出されるごとに、異常が検出されたモータ67と異常が検出された日時とを対応づけて、記憶部63に記憶する。
このようにして得られたモータの異常動作に関するデータは、異常診断部64においてデータ処理され、その結果が表示部62に表示される。図5は、表示部62での表示画面の一例であり、個々のモータ(モータA〜モータH)における動作異常の頻度を、3ヶ月単位でヒストグラム形式にて示したものである。これにより、どのモータにおいて動作異常が頻繁に発生しているか(ひいては、部品の交換が必要であるか)を視覚的にオペレータに認識させることができる。なお、データ処理結果の表示画面は、入力部61を介したオペレータによる操作により、例えば装置のメンテナンス時に表示することができる。
上記の実施形態では、装置を構成するモータ毎に動作異常の頻度を表示するようにしているが、特定のユニット(例えばトップリング、ドレッサ、アトマイザ)に用いられる複数のモータ毎に、動作異常の頻度を表示するようにしても良い。また、上記の実施形態では、3ヶ月単位での動作異常の頻度を表示しているが、期間には特に限定はなく、例えば1日単位、1週間単位、1月単位あるいは1年単位で表示するようにしても良く、もしくはこれらを切り替えて表示するようにしても良い。さらに、表示されるヒストグラムの中で、動作異常の原因(例えば、出力電流、回転数、振動)ごとに色分け表示しても良い。
上記の実施形態では、動作異常の頻度が表示されるモータの順番に特に限定はなされていないが、例えば動作異常の合計数が多い順番に並べて表示しても良く、あるいは、所定期間における動作異常の頻度が多い順番に並べて表示するようにしても良い。
上記の実施形態は、動作異常の頻度を視覚化してメンテナンスを行うかどうかの判断に供するものであるが、メンテナンスを行う際に必要となるドキュメントを携帯端末に表示させるようにしてもよい。
図6は、携帯端末70の構成を示すブロック図であり、制御部71、入力表示部72、記憶部73、撮像部74、画像認識部75及び無線通信部76を備えている。入力表示部72は、例えばタッチパネルで構成されており、後述するメンテナンス画面が表示される。
記憶部73は、携帯端末70の制御プログラム、基板処理装置10の各構成部材(トップリング、ドレッサ等)に関する画像の特徴データ、構成部材に対応するメンテナンス用マニュアル等の文書データ等の各種データが保存されている。撮像部74は、例えばCMOSカメラであり、基板処理装置10の構成部品を撮影してその画像データを取得する。
画像認識部75は、撮像部74で得られた撮影画像から特徴データを抽出するとともに、公知の画像マッチング技術を用いて、記憶部73に保存されている特徴データと比較して、マッチングする可能性が高い構成部材の情報を抽出する。無線通信部76は、周知の無線通信規格に準拠した無線通信手段を備えており、基板処理装置10との間でデータの送受信を行うことができる。
図7は、携帯端末70の入力表示部72に表示される表示画面の一例(選択画面)を示したものであり、画面の左部81には撮像手段により撮像された画像が表示され、右上部82には、前述したマッチングにより画像認識部75で抽出された(左部分の画像に対応する)構成部材の候補の一覧が表示される。また、画面の右下部83には、右上部82から選択された構成部材に対応するメンテナンス用マニュアルの内容が表示される。
装置のメンテナンスを行うオペレータは、入力表示部72に表示される画面を参照して、メンテナンスを行うべき構成部材を選択する。すると、携帯端末70は、選択された構成部材に対応するメンテナンスマニュアルが読み出され、右下部83にその内容が表示される。これにより、オペレータにおいてメンテナンス用のマニュアルを探す手間が省略され、メンテナンスを効率的に行うことが可能となる。
なお、メンテナンス用のマニュアルのデータを、基板処理装置10の記憶部に保存しておき、無線通信部76を介して該当するマニュアルのデータを、基板処理装置10から携帯端末70に送信するようにしても良い。また、研磨ユニットを構成する個々のモータにおける動作異常の頻度を示すデータを、基板処理装置10から携帯端末70に送信し、携帯端末70において図5で示したヒストグラムを表示するようにしても良い。
上記実施形態では、基板処理装置を構成する各部品を、撮影画像に基づき検索するようにしているが、本発明はこれに限られることはなく、例えば、基板処理装置を構成する各部品の近傍にQRコード(登録商標)等の識別コードを付与しておき、携帯端末72にインストールされたコードリーダによって当該識別コードを読み取ることにより、対応する操作マニュアルを抽出するようにしても良い。また、検索された構成部品に対応するメンテナンスマニュアル以外にも、取扱説明書、部品表、電気回路等の他の資料を抽出するようにしても良い。
上記実施形態では、トップリングが旋回するタイプの基板研磨装置を例にして説明しているが、本発明はこれに限られることはなく、例えば基板を保持する複数のキャリアヘッドと、当該キャリアヘッドを保持するカルーセルがチャンバ内に備えられ、カルーセルを回転させることで基板を移動させるタイプの基板研磨装置に対しても、等しく適用することができる。
上述した実施形態は、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が本発明を実施できることを目的として記載されたものである。上記実施形態の種々の変形例は、当業者であれば当然になしうることであり、本発明の技術的思想は他の実施形態にも適用しうる。したがって、本発明は、記載された実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲によって定義される技術的思想に従った最も広い範囲に解釈されるものである。
10 基板処理装置
13A〜13D 研磨ユニット
15 制御装置
30 研磨テーブル
31 トップリング
32 研磨液供給ノズル
33 ドレッサ
34 アトマイザ
60 制御部
61 入力部
62 表示部
63 記憶部
64 異常診断部
66 モータドライバ
67 モータ
70 携帯端末
75 画像認識部

Claims (6)

  1. 基板を処理するための基板処理装置の異常を検出するための異常検出システムであって、
    前記基板処理装置を構成する構成要素の出力データを検出する検出部と、
    前記構成要素が正常に動作している場合の前記出力データの範囲を正常数値範囲として記憶する記憶部と、
    前記構成要素からの出力データが前記正常数値範囲から逸脱したか否かを判定し、前記正常数値範囲から逸脱した異常頻度の情報を所定時間毎に前記記憶部に記憶させる異常判定部と、
    前記構成要素における前記異常頻度を、前記所定時間毎に区分けして表示する表示部と、
    を備えたことを特徴とする異常検出システム。
  2. 前記基板処理装置は、研磨パッドを支持する研磨テーブルと、基板を保持して前記研磨パッドに押し付けるための保持部と、前記研磨パッドの表面を洗浄処理する洗浄部と、前記基板を搬送する搬送機構を備えた基板研磨装置であり、前記構成要素は、前記研磨テーブル、前記保持部、前記洗浄部及び前記搬送機構を駆動するモータであることを特徴とする、請求項1記載の異常検出システム。
  3. 請求項1又は2に記載の異常検出システムと、前記異常検出システムと無線通信可能な携帯端末とを備えたメンテナンスシステムであって、
    前記携帯端末は、
    前記異常検出システムから前記構成要素における前記異常頻度の情報を取得可能な無線通信部と、
    前記基板研磨装置の構成要素に関する情報を取得する情報取得部と、
    前記基板研磨装置の構成要素に関するメンテナンス資料を記憶する記憶部とを備えており、
    前記情報取得部において取得された構成要素の情報に対応するメンテナンス資料及び/又は前記異常頻度の情報を抽出して、前記表示部に表示することを特徴とするメンテナンスシステム。
  4. 前記情報取得部は、前記基板研磨装置を撮像する撮像部と、前記撮像部で得られた画像に基づき構成要素のタイプを認識する画像認識部とを備えたことを特徴とする、請求項3に記載のメンテナンスシステム。
  5. 前記情報取得部は、前記基板研磨装置の構成要素に対応して設けられた識別コードを読み取るコード読取部と、前記識別コードに対応する構成要素を判定する判定部とを備えたことを特徴とする、請求項3に記載のメンテナンスシステム。
  6. 基板を処理するための基板処理装置の異常を検出するための異常検出方法であって、
    前記基板処理装置を構成する構成要素の出力データを検出する検出ステップと、
    前記構成要素からの出力データが、前記構成要素が正常に動作している場合の前記出力データの範囲である正常数値範囲から逸脱したか否かを判定する異常判定ステップと、
    前記正常数値範囲から逸脱した異常頻度の情報を所定時間毎に記憶する記憶ステップと、
    前記構成要素における前記異常頻度を、前記所定時間毎に区分けして表示する表示ステップと、
    を備えたことを特徴とする異常検出方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020052938A (ja) * 2018-09-28 2020-04-02 光洋電子工業株式会社 操作盤管理システム
JP2020170392A (ja) * 2019-04-04 2020-10-15 ファナック株式会社 数値制御装置及び数値制御システム
WO2021124428A1 (ja) * 2019-12-17 2021-06-24 株式会社日立ハイテク 真空処理装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008130925A (ja) * 2006-11-22 2008-06-05 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2012150721A (ja) * 2011-01-20 2012-08-09 Tokyo Electron Ltd 処理装置の異常診断方法及びその異常診断システム
JP2013201332A (ja) * 2012-03-26 2013-10-03 Tokyo Electron Ltd 半導体製造装置の障害監視システム及び障害監視方法
JP2015108873A (ja) * 2013-12-03 2015-06-11 三菱日立パワーシステムズ株式会社 機器保守サーバ及び機器保守システム

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008130925A (ja) * 2006-11-22 2008-06-05 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2012150721A (ja) * 2011-01-20 2012-08-09 Tokyo Electron Ltd 処理装置の異常診断方法及びその異常診断システム
JP2013201332A (ja) * 2012-03-26 2013-10-03 Tokyo Electron Ltd 半導体製造装置の障害監視システム及び障害監視方法
JP2015108873A (ja) * 2013-12-03 2015-06-11 三菱日立パワーシステムズ株式会社 機器保守サーバ及び機器保守システム

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020052938A (ja) * 2018-09-28 2020-04-02 光洋電子工業株式会社 操作盤管理システム
JP2020170392A (ja) * 2019-04-04 2020-10-15 ファナック株式会社 数値制御装置及び数値制御システム
CN111796553A (zh) * 2019-04-04 2020-10-20 发那科株式会社 数值控制装置和数值控制系统
JP7132166B2 (ja) 2019-04-04 2022-09-06 ファナック株式会社 数値制御装置及び数値制御システム
US11586170B2 (en) 2019-04-04 2023-02-21 Fanuc Corporation Numerical controller and numerical control system
CN111796553B (zh) * 2019-04-04 2023-11-10 发那科株式会社 数值控制装置和数值控制系统
WO2021124428A1 (ja) * 2019-12-17 2021-06-24 株式会社日立ハイテク 真空処理装置

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