JP2017173353A - 光変調器、及び光変調器を用いた光送信装置 - Google Patents
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Abstract
ディザ信号が印加されるバイアス電極と、光導波路内を伝搬する光信号を監視する光検出器と、を同一基板上に備える光変調器において、当該光検出器により検出されるディザ信号成分強度の検知精度を向上して、安定なバイアス制御を行う。
【解決手段】
圧電効果を有する基板(102)と、当該基板上に形成された光導波路(116a等)と、当該光導波路を伝搬する光波を制御するバイアス電極(158a等)と、前記基板上に形成され、前記光導波路を伝搬する光信号を監視する光検出器(168a等)と、を備え、前記基板上の、前記バイアス電極が形成された領域と、前記光検出器が配された部分との間に、前記バイアス電極から前記光検出器へ伝播する表面弾性波を抑制する少なくとも一つの抑制手段(190等)が配されている。
【選択図】図1
Description
・一のバイアス電極にディザ信号を印加すると、一つ又は複数の他のバイアス電極における光特性制御(位相調整や温度ドリフト補償)が不安定になる場合がある。この場合、他のバイアス電極に加えて、当該一のバイアス電極でも上記不安定現象が観測される場合がある。
・上記不安定現象は、隣り合った又は接近したバイアス電極間だけでなく、隣り合っていないバイアス電極間や、接近していないバイアス電極間においても発生し得る。
・上記不安定現象は、光変調器の周囲の環境温度に依存して発生したりしなかったりすることがある。
・上記不安定現象は、ディザ信号の周波数を別の周波数に変更すると解消される場合がある。
・上記不安定現象は、各バイアス電極にDC電圧のみを印加した場合には発生しない。
本発明の他の態様によると、前記抑制手段は、前記基板上の、前記バイアス電極が形成された領域と、前記光検出器が配された部分と、の間に設けられた金属膜で構成される。
本発明の他の態様によると、前記金属膜は、前記光検出器が接続される電極である。
本発明の他の態様によると、前記抑制手段は、前記基板上の、前記バイアス電極が形成された領域と、前記光検出器が配された部分と、の間に塗布された樹脂で構成される。
本発明の他の態様によると、前記抑制手段は、前記光検出器の周囲を囲むように前記基板上に形成された金属膜で構成される。
本発明の他の態様によると、前記抑制手段は、前記光検出器のエッジ部周辺の前記基板上に塗布された樹脂で構成される。
本発明の他の態様によると、前記抑制手段は、前記光検出器の周囲を囲むように前記基板上に塗布された樹脂で構成される。
本発明の他の態様は、上記いずれかの光変調器を備える光送信装置である。
まず、本発明の第1の実施形態について説明する。図1は、本発明の第1の実施形態に係る光変調器の構成を示す図である。上述したように、本実施形態に係る光変調器100は、例えばDP−QPSK変調器であり、その基本構成は図13に示す従来のDP−QPSK変調器1300と同様である。すなわち、本光変調器100は、例えばZカットのLN基板102上に形成されたネスト型のマッハツェンダ光導波路(図示太線の点線)と、電極(図示ハッチング部分)とで構成されている。この光変調器では、レーザダイオード等の光源(不図示)からの光が図示右方向から入射し、変調された光が図示左方向から出射する。出射した光は、例えば空間光学系により合波されて、光伝送路につながった光ファイバに入射される。
まず、図1に示す光変調器100に用いられる表面弾性波抑制手段の第1の変形例について説明する。本変形例では、表面弾性波抑制手段として、ガードパターン190に代えて表面弾性波を吸収する樹脂が用いられている。
次に、図1に示す光変調器100に用いられる表面弾性波抑制手段の第2の変形例について説明する。
図4は、本変形例に係る、ガードパターン190に代えて用いることのできる表面弾性波抑制手段を示す図である。なお、図4において、図1及び図2に示す構成要素と同じ構成要素については、図1及び図2に示す符号と同じ符号を用いて示すものとし、上述した図1及び図2についての説明を援用するものとする。
次に、図1に示す光変調器100に用いられる表面弾性波抑制手段の第3の変形例について説明する。
図5は、本変形例に係る、ガードパターン190に代えて用いることのできる表面弾性波抑制手段を示す図である。なお、図5において、図1及び図2に示す構成要素と同じ構成要素については、図1及び図2に示す符号と同じ符号を用いて示すものとし、上述した図1及び図2についての説明を援用するものとする。
次に、図1に示す光変調器100に用いられる表面弾性波抑制手段の第4の変形例について説明する。
図6は、本変形例に係る、ガードパターン190に代えて用いることのできる表面弾性波抑制手段を示す図である。なお、図6において、図1及び図2に示す構成要素と同じ構成要素については、図1及び図2に示す符号と同じ符号を用いて示すものとし、上述した図1及び図2についての説明を援用するものとする。
次に、図1に示す光変調器100に用いられる表面弾性波抑制手段の第5の変形例について説明する。
図7は、本変形例に係る、ガードパターン190に代えて用いることのできる表面弾性波抑制手段を示す図である。なお、図7において、図1及び図2に示す構成要素と同じ構成要素については、図1及び図2に示す符号と同じ符号を用いて示すものとし、上述した図1及び図2についての説明を援用するものとする。
次に、図1に示す光変調器100に用いられる表面弾性波抑制手段の第6の変形例について説明する。
図8は、本変形例に係る、ガードパターン190に代えて用いることのできる表面弾性波抑制手段を示す図である。なお、図8において、図1及び図2に示す構成要素と同じ構成要素については、図1及び図2に示す符号と同じ符号を用いて示すものとし、上述した図1及び図2についての説明を援用するものとする。
次に、図1に示す光変調器100に用いられる表面弾性波抑制手段の第6の変形例について説明する。
図9は、本変形例に係る、ガードパターン190に代えて用いることのできる表面弾性波抑制手段を示す図である。なお、図9において、図1及び図2に示す構成要素と同じ構成要素については、図1及び図2に示す符号と同じ符号を用いて示すものとし、上述した図1及び図2についての説明を援用するものとする。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。図10は、本発明の第2の実施形態に係る光変調器の構成を示す図である。図10において、図1に示す第1の実施形態に係る光変調器100と同じ構成要素については、図1における符号と同じ符号を用いるものとし、上述した第1の実施形態についての説明を援用するものとする。
次に、本発明の第3の実施形態について説明する。本実施形態は、第1及び第2実施形態に示した光変調器100(図3〜図9に示す任意の変形例を含む)及び1000のいずれかを搭載した光送信装置である。
光変調ユニット1220に含まれる光変調器1210は、図1及び図10に示す光変調器100(図3〜図9に示す任意の変形例を含む)及び1000のいずれかであり、偏波合成器1270は、光変調器1210から出力されて光分岐器1250及び1252をそれぞれ通過した2つの直交2偏光光を合波して、光ファイバ1240に入力する。
また前述実施例では光検出器が2分岐された導波路の一つの上に設置されている構成を例示したが、光検出器が基板上に構成されていれば良く、導波路の分岐数に関係なくまた導波路上でない部分に光検出器を設置しても良い。
本発明の他の態様は、基板上に形成された光導波路を伝搬する光を、当該基板が有する電気光学効果により変調する光変調器であって、当該光導波路を伝搬する光波を制御するための、ディザ信号が印加されるバイアス電極と、前記基板面上に配された、前記光導波路を伝搬する光信号を監視する光検出器と、を備え、前記基板上の、前記バイアス電極が形成された領域と、前記光検出器が配された部分との間に、前記バイアス電極から前記光検出器へ伝搬する表面弾性波を抑制する少なくとも一つの抑制手段が配されている。
また、本発明の他の態様は、基板上に形成された光導波路を伝搬する光を、当該基板が有する電気光学効果により変調する光変調器であって、前記光導波路を伝搬する光波を制御するバイアス電極と、前記基板上に配された、前記光導波路を伝搬する光信号を監視する光検出器と、を備え、前記基板上の、前記バイアス電極が形成された領域と、前記光検出器が配された部分との間に、前記バイアス電極から前記光検出器へ伝搬する表面弾性波を抑制する少なくとも一つの抑制手段が配されており、前記バイアス電極が形成された領域と、前記光検出器が配された部分と、の間には電気回路を構成する金属パターンがなく、前記抑制手段は電気回路要素と直流的に接続されていない金属又は樹脂である。
本発明の更に他の態様は、基板上に形成された光導波路を伝搬する光を、当該基板が有する電気光学効果により変調する光変調器であって、当該光導波路を伝搬する光波を制御するバイアス電極と、前記基板面上に、空間を介することなく配された、前記光導波路を伝搬する光信号を監視する光検出器と、を備え、前記基板上において、前記バイアス電極が形成された領域に対して前記光検出器が配された部分を囲うように配された、前記バイアス電極から前記光検出器へ伝搬する表面弾性波を抑制する少なくとも一つの抑制手段が配されている。
本発明の他の態様によると、前記抑制手段は、前記基板上の、前記バイアス電極が形成された領域と、前記光検出器が配された部分と、の間に設けられた金属膜で構成される。
本発明の他の態様によると、前記金属膜は、前記光検出器が接続される電極である。
本発明の他の態様によると、前記抑制手段は、前記基板上の、前記バイアス電極が形成された領域と、前記光検出器が配された部分と、の間に塗布された樹脂で構成される。
本発明の他の態様によると、前記抑制手段は、前記光検出器の周囲を囲むように前記基板上に形成された金属膜で構成される。
本発明の他の態様によると、前記抑制手段は、前記光検出器のエッジ部周辺の前記基板上に塗布された樹脂で構成される。
本発明の他の態様によると、前記抑制手段は、前記光検出器の周囲を囲むように前記基板上に塗布された樹脂で構成される。
本発明の他の態様は、上記いずれかの光変調器を備える光送信装置である。
Claims (8)
- 圧電効果を有する基板と、
当該基板上に形成された光導波路と、
当該光導波路を伝搬する光波を制御するバイアス電極と、
前記基板上に形成され、前記光導波路を伝搬する光信号を監視する光検出器と、
を備え、
前記基板上の、前記バイアス電極が形成された領域と、前記光検出器が配された部分との間に、前記バイアス電極から前記光検出器へ伝搬する表面弾性波を抑制する少なくとも一つの抑制手段が配されている、
光変調器。 - 前記抑制手段は、前記基板上の、前記バイアス電極が形成された領域と、前記光検出器が配された部分と、の間に設けられた金属膜で構成される、
請求項1に記載の光変調器。 - 前記金属膜は、前記光検出器が接続される電極である、請求項2に記載の光変調器。
- 前記抑制手段は、前記基板上の、前記バイアス電極が形成された領域と、前記光検出器が配された部分と、の間に塗布された樹脂で構成される、
請求項1に記載の光変調器。 - 前記抑制手段は、前記光検出器の周囲を囲むように前記基板上に形成された金属膜で構成される、
請求項1に記載の光変調器。 - 前記抑制手段は、前記光検出器のエッジ部周辺の前記基板上に塗布された樹脂で構成される、
請求項1、3、又は5に記載の光変調器。 - 前記抑制手段は、前記光検出器の周囲を囲むように前記基板上に塗布された樹脂で構成される、
請求項1に記載の光変調器。 - 請求項1ないし7のいずれか一項に記載の光変調器を備える光送信装置。
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