JP2017168577A - 面発光半導体レーザを作製する方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体ポストを形成するエッチングの終点における重畳の影響を低減できる面発光半導体レーザを作製する方法を提供する。【解決手段】この方法は、マスク31を用いて積層体11のエッチングを行う。終点検知器52からの検知信号に応答して、エッチングを停止する。マスク31のデバイスエリア32は、行及び列に配列された複数の素子区画SECTを含み、デバイスエリア32は、複数の開口パターン34を有しており、デバイスエリア32の開口パターン34は、素子区画SECTの各々に設けられた帯状の第1開口34aを含む。デバイスエリア32の開口率は、単一の素子区画SECTにおいて素子面積(SC)に対する開口の総面積(OPD)の比(OPD/SC)として規定される。アクセサリーエリア33の開口率は、デバイスエリア32の開口率を基準に素子区画のサイズ当たりにおいて調整される。【選択図】図4
Description
本発明は、面発光半導体レーザを作製する方法に関する。
非特許文献1は、垂直共振型面発光レーザへの適用のためのエッチングを開示する。
垂直共振型面発光レーザは、垂直共振を可能にする半導体ポストを含み、この半導体ポストは、複数の分布ブラッグ反射器それぞれのための半導体積層、及びこれらの半導体積層の間に設けられる活性層のための量子井戸構造を含む。これ故に、垂直共振型面発光レーザ作製では、半導体ポストのアレイが、厚い半導体多層膜のエッチングによって形成される。垂直共振型面発光レーザにおける半導体ポストの高さのばらつきは、垂直共振型面発光レーザの性能に関連している。
発明者の検討によれば、半導体ポストの高さのばらつきは、半導体ポストを形成するエッチングにおける終点検出に関連している。このエッチングにおける困難さは、エピタキシャル膜の多層構造の複雑さ及び多層構造の大きな厚みに加えて、エッチングされるべきエリアのパターンにも起因する。また、このエッチングは、エピタキシャルに成長された多層膜のエピタキシャル基板から半導体ポストを形成することに加えて、引き続く複数の工程をエピタキシャル基板に適用するために必須のアライメントマークといったアクセサリーマークをエピタキシャル基板に形成する。
本発明の一側面は、このような事情を鑑みて為されたものであり、半導体ポストを形成するエッチングの終点検出における重畳の影響を低減できる面発光半導体レーザを作製する方法を提供することを目的とする。
本発明の一側面に係る面発光半導体レーザを作製する方法は、面発光半導体レーザのための半導体積層を基板上に成長して、エピタキシャル基板を形成する工程と、前記面発光半導体レーザのための半導体ポストを規定するマスクを前記半導体積層上に形成する工程と、前記マスクを形成した後に、終点検知器を備えるエッチング装置に前記エピタキシャル基板を置く工程と、前記エッチング装置において、前記マスクを用いて前記半導体積層のエッチングを行う工程と、前記終点検知器による検知信号に応答して、前記エッチングを停止する工程と、を備え、前記マスクは、デバイスエリア及びアクセサリーエリアを含み、前記デバイスエリアは、行及び列に配列された複数の素子区画を含み、前記デバイスエリアは、複数の開口パターンを有しており、前記デバイスエリアの前記開口パターンは、前記素子区画の各々に設けられ前記半導体ポストを規定する閉じた帯状の第1開口を含み、前記デバイスエリアの開口率は、単一の素子区画において素子面積(SC)に対する開口の総面積(OPD)の比(OPD/SC)として規定され、前記デバイスエリアの前記開口率は第1値を有し、前記アクセサリーエリアは、前記素子面積より大きなサイズを有し、前記アクセサリーエリアは、一又は複数の開口パターンを有しており、前記アクセサリーエリアの開口率は、前記アクセサリーエリアにおいて前記素子面積に相当するサイズ当たり第2値を有し、前記第2値は、前記第1値より0.02小さい下限と前記第1値より0.02大きい上限との間にある。
本発明の上記の目的および他の目的、特徴、並びに利点は、添付図面を参照して進められる本発明の好適な実施の形態の以下の詳細な記述から、より容易に明らかになる。
以上説明したように、本発明の一側面によれば、半導体ポストを形成するエッチングの終点検知における重畳の影響を低減できる面発光半導体レーザを作製する方法が提供される。
引き続きいくついかの具体例を説明する。
一形態に係る面発光半導体レーザを作製する方法は、(a)面発光半導体レーザのための半導体積層を基板上に成長して、エピタキシャル基板を形成する工程と、(b)前記面発光半導体レーザのための半導体ポストを規定するマスクを前記半導体積層上に形成する工程と、(c)前記マスクを形成した後に、終点検知器を備えるエッチング装置に前記エピタキシャル基板を置く工程と、(d)前記エッチング装置において、前記マスクを用いて前記半導体積層のエッチングを行う工程と、(e)前記終点検知器による検知信号に応答して、前記エッチングを停止する工程と、を備え、前記マスクは、デバイスエリア及びアクセサリーエリアを含み、前記デバイスエリアは、行及び列に配列された複数の素子区画を含み、前記デバイスエリアは、複数の開口パターンを有しており、前記デバイスエリアの前記開口パターンは、前記素子区画の各々に設けられ前記半導体ポストを規定する閉じた帯状の第1開口を含み、前記デバイスエリアの開口率は、単一の素子区画において素子面積(SC)に対する開口の総面積(OPD)の比(OPD/SC)として規定され、前記デバイスエリアの前記開口率は第1値を有し、前記アクセサリーエリアは、前記素子面積より大きなサイズを有し、前記アクセサリーエリアは、複数の開口パターンを有しており、前記アクセサリーエリアの開口率は、前記アクセサリーエリアにおいて前記素子面積に相当するサイズ当たり第2値を有し、前記第2値は、前記第1値より0.02小さい下限と前記第1値より0.02大きい上限との間にある。
面発光半導体レーザを作製する方法によれば、面発光半導体レーザのための半導体積層のエッチングでは、複数の分布ブラッグ反射器のための複数の半導体積層及び発光のための複数の半導体積層を含む多層半導体膜を加工する。多層半導体膜の加工により、所望の高さの半導体ポストのアレイを形成する。このエッチングの完了の検知は、終点検知器を用いて行われる。発明者の知見によれば、終点検知器は、一素子区画よりも広いサイズにおけるエッチング状態を表しており、また製造工程中における生産物は、素子区画のエリアに加えて、引き続くプロセスを行うために用いられる構造物のエリアを備える。エッチング中において、終点検知器の出力は、これらのエリアそれぞれのエッチング進捗の重畳状態を示す。発明者の検討によれば、この重畳は、終点検知の精度に影響している。しかし、重畳は、製造工程中における生産物が素子区画のエリア及び構造物のエリアを必要とする点で、不可避である。求められていることは、素子区画のエリアにおけるエッチングの進捗を的確にモニタすることである。発明者の更なる検討によれば、重畳による終点検知の精度悪化は、構造物のエリアにおけるエッチングの進捗と素子区画のエリアにおけるエッチングの進捗との差に起因しており、この差の主要な要因は、構造物のエリアにおけるパターン開口率と素子区画のエリアにおけるパターン開口率との差にある。この知見に従って、エッチングのためのマスクのパターンにおいて、デバイスエリアの開口率及びアクセサリーエリアの開口率を調整している。これにより、重畳による終点検知の精度悪化が低減される。
一形態に係る面発光半導体レーザを作製する方法では、前記終点検知器は、前記エッチングの発光をモニタするための分光器を備える。
面発光半導体レーザを作製する方法によれば、分光器は、エッチング装置のチャンバ内のプラズマ発光を分光する。
一形態に係る面発光半導体レーザを作製する方法では、前記エッチングでは、誘導結合プラズマ−反応性イオンエッチング法を用いる。
面発光半導体レーザを作製する方法によれば、誘導結合プラズマ−反応性イオンエッチング法は、面発光半導体レーザのための半導体ポストの形成に好適である。
一形態に係る面発光半導体レーザを作製する方法では、前記エッチングでは、前記エッチング装置に三塩化ホウ素を供給する。
面発光半導体レーザを作製する方法によれば、三塩化ホウ素は、半導体ポストのエッチングに良好な加工形状を提供できる。
一形態に係る面発光半導体レーザを作製する方法では、前記デバイスエリアの前記開口パターンは、前記素子区画に設けられ前記第1開口とは別の第2開口を含む。
面発光半導体レーザを作製する方法によれば、第2開口の追加は、デバイスエリアの開口率を大きくしてアクセサリーエリアの開口率に合わせることを容易にする。
一形態に係る面発光半導体レーザを作製する方法では、前記アクセサリーエリアは、アクセサリーマークを規定する複数の開口を有する。
面発光半導体レーザを作製する方法によれば、アクセサリーマークのためのパターンを複数の開口によって規定することは、アクセサリーエリアの開口率をデバイスエリアの開口率に近づけることを容易にする。
本発明の知見は、例示として示された添付図面を参照して以下の詳細な記述を考慮することによって容易に理解できる。引き続いて、添付図面を参照しながら、面発光半導体レーザを作製する方法に係る実施形態を説明する。可能な場合には、同一の部分には同一の符号を付する。
図1〜図13を参照しながら、面発光半導体レーザを作製する方法に係る一実施例を説明する。図1、図2、図7、図8、図10〜図13は、作製されるべき面発光半導体レーザの一素子区画を示す。この実施形態では、例えば垂直共振型面発光レーザ(VCSEL)を作製する。
工程S101では、図1に示されるように、面発光半導体レーザのためのエピタキシャル基板EPを準備する。エピタキシャル基板EPは、積層体11及び基板13を備え、積層体11は基板13の主面13a上に設けられる。積層体11は、第1分布ブラッグ反射器のための第1半導体積層15、活性層のための半導体領域17、及び第2分布ブラッグ反射器のための第2半導体積層19を含む。第1半導体積層15、半導体領域17及び第2半導体積層19は、基板13の主面13aの法線軸Nxの方向に配列されている。半導体領域17は、発光のための量子井戸構造MQWを含むことができる。必要な場合には、エピタキシャル基板EPの積層体11は、上部コンタクト層25を含むことができる。積層体11は、引き続く工程において作製される半導体ポストの形成のためのエッチングモニタ用のエッチストップ層のためのIII−V族半導体層23を含むことができ、このIII−V族半導体層23は、例えば第1半導体積層15内に位置することができる。この実施例では、エピタキシャル基板EPを準備するために、エピタキシャル基板EPを作製する。エピタキシャル成長のための基板13を準備する。基板13は、半導体製のウエハを含むことができ、具体的には、GaAsウエハである。第1半導体積層15は、第1半導体層15a及び第2半導体層15bを含み、第1半導体層15a及び第2半導体層15bは分布ブラッグ反射器を構成するように法線軸Nxの方向に配列されている。第2半導体積層19は、第3半導体層19a及び第4半導体層19bを含み、第3半導体層19a及び第4半導体層19bは、分布ブラッグ反射器を構成するように法線軸Nxの方向に配列されている。積層体11内の半導体層の成長は、例えば分子線エピタキシー法及び/又は有機金属気相成長法を用いて行われることができる。
エピタキシャル基板EPの一例。
第1半導体積層15:GaAs/AlGaAs超格子。
第1半導体層15a:GaAs。
第2半導体層15b:AlGaAs。
III−V族半導体層23: GaAs、Al(x)Ga(1−x)As(xは0以上、0.1以下)。
III−V族半導体層23はIII族構成元素としてガリウムを含み、10%以下のアルミニウムを含む。III族構成元素として、アルミニウムが50%以上含まれるAlGaAsの2つの半導体層に接して挟まれる。
半導体領域17。
量子井戸構造MQW:AlGaAs/GaAs。
第2半導体積層19:GaAs/AlGaAs超格子。
第3半導体層19a:GaAs。
第4半導体層19b:AlGaAs。
上部コンタクト層25:GaAs。
第1半導体積層15:GaAs/AlGaAs超格子。
第1半導体層15a:GaAs。
第2半導体層15b:AlGaAs。
III−V族半導体層23: GaAs、Al(x)Ga(1−x)As(xは0以上、0.1以下)。
III−V族半導体層23はIII族構成元素としてガリウムを含み、10%以下のアルミニウムを含む。III族構成元素として、アルミニウムが50%以上含まれるAlGaAsの2つの半導体層に接して挟まれる。
半導体領域17。
量子井戸構造MQW:AlGaAs/GaAs。
第2半導体積層19:GaAs/AlGaAs超格子。
第3半導体層19a:GaAs。
第4半導体層19b:AlGaAs。
上部コンタクト層25:GaAs。
工程S102では、図2に示されるように、エピタキシャル基板EPにマスク31を形成する。マスク31は、光共振器のための半導体ポストを規定する。マスク31の作製のために、エピタキシャル基板EPの積層体11の主面11a上に、無機絶縁膜(例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物といったシリコン系無機絶縁膜)を成長すると共に、この無機絶縁膜をフォトリソグラフィ及びエッチングを用いて、半導体ポストのためのパターンを有するマスク31を形成する。フォトリソグラフィの適用のために、無機絶縁膜上にレジストを塗布する。
図3は、本実施形態に係るエピタキシャル基板の主面におけるショットマップを示す平面図である。基板13は、商業的に入手可能なGaAsウエハであることができ、GaAsウエハの形状は、例えば円弧CV及びオリエンテーションフラットOFによって規定される。図3においては、GaAsウエハに重ねて、縮小投影露光装置によりステップアンドリピート方式で露光されるべきショットSHOTが破線で描かれている。露光により、レチクル上の所望のパターンが、ショットSHOT毎にレジストに転写される。レジストの現像により、レジストマスクが形成される。レジストマスクにおけるショットSHOTの配列は、レチクル上の所望のパターンの繰り返しによるレジストパターンを有する。レジストマスクを用いて無機絶縁膜をエッチングすると共に、エッチング後にレジストマスクを剥離する。これらのプロセスによって、パターン形成された無機絶縁膜、つまりマスク31を形成する。
図4は、一ショットのサイズにおいてマスク31のパターンを示す平面図である。図4には、直交座標系Sが描かれている。
マスク31における一のショットSHOTは、デバイスエリア32及びアクセサリーエリア33を含む。デバイスエリア32は、行及び列に配列された複数の素子区画SECTを含む。デバイスエリア32は、複数の開口パターン34(例えば第1開口34a、第2開口34b)を有する。
単一のショットSHOTの例。
X方向のサイズ(SX):10000μm。
Y方向のサイズ(SY):10000μm。
デバイスエリア32のサイズ。
X方向のサイズ(SDV):7500μm。
Y方向のサイズ(SY):10000μm。
アクセサリーエリア33のサイズ。
X方向のサイズ(SAR):2500μm。
Y方向のサイズ(SY):10000μm。
本実施例では、デバイスエリア32の開口パターン34は、素子区画SECTの各々に設けられ半導体ポストを規定する閉じた帯状の第1開口34aと、デバイスエリア32の一辺から他辺に素子区画SECTを横切って延在する帯状の第2開口34bとを含む。
デバイスエリア32の開口パターン34の例。
第1開口34a:15μm幅、30μm内径、60μm外径。
直径30μmの半導体ポストを形成できる。
第2開口34b:幅15μm。
素子区画SECTは、X方向に250μmピッチであり、Y方向に250μmピッチで配列される。
単一のショットSHOTの例。
X方向のサイズ(SX):10000μm。
Y方向のサイズ(SY):10000μm。
デバイスエリア32のサイズ。
X方向のサイズ(SDV):7500μm。
Y方向のサイズ(SY):10000μm。
アクセサリーエリア33のサイズ。
X方向のサイズ(SAR):2500μm。
Y方向のサイズ(SY):10000μm。
本実施例では、デバイスエリア32の開口パターン34は、素子区画SECTの各々に設けられ半導体ポストを規定する閉じた帯状の第1開口34aと、デバイスエリア32の一辺から他辺に素子区画SECTを横切って延在する帯状の第2開口34bとを含む。
デバイスエリア32の開口パターン34の例。
第1開口34a:15μm幅、30μm内径、60μm外径。
直径30μmの半導体ポストを形成できる。
第2開口34b:幅15μm。
素子区画SECTは、X方向に250μmピッチであり、Y方向に250μmピッチで配列される。
デバイスエリア32は、複数の第1開口34aと、一又は複数の第2開口34bを備える。デバイスエリア32では、第1開口34aは、X軸及びY軸の方向に素子サイズのピッチで二次元アレイを構成する。第2開口34bは、X軸及びY軸の少なくともいずれか一方に延在することができ、第2開口34bの配列のピッチは、素子区画の配列のピッチに対応する。或いは、第2開口34bは、X軸及びY軸の両方に延在して格子状の単一の開口を形成することができ、X軸及びY軸の配列のピッチは、素子区画の配列のピッチに対応する。本実施例では、第2開口34bは、Y軸方向に配列されており、ストライプ状にX軸方向に延在する。
本実施例では、第1開口34aの幅及び第2開口34bの幅が、共に15μmであるけれども、第1開口34aの幅が、ある許容範囲で第2開口34bの幅と異なることができる。このような許容範囲は、例えば以下のように決定される。レチクルパターンの決定に先立って、第1開口34aの幅及び第2開口34bの幅が同じショット(例えば第1開口34aの幅=第2開口34bの幅)を提供するマスク、第1開口34aの幅及び第2開口34bの幅が互いに異なるショット(例えば第1開口34aの幅<第2開口34bの幅)を提供するマスク、及び第1開口34aの幅及び第2開口34bの幅が互いに異なるショット(例えば第1開口34aの幅>第2開口34bの幅)を提供するマスクを準備する。これらのマスクを用いて、エピタキシャル基板といった半導体基板をエッチングする。エッチングの結果から、終点検出のモニタ波形が所望の精度を達成できるように、開口幅を決めることができる。類似な実験によれば、第2開口34bの配列及び延在(X軸及びY軸のいずれか、或いはX軸及びY軸の両方)を、エッチングの結果から、終点検出のモニタ波形が所望の精度を達成できるように決めることができる。このような実験の手法から理解されるように、本実施形態では、デバイスエリア32の開口パターン34が、第1開口34a及び第2開口34bを含むけれども、必要な場合には第3開口を備えることができる。
デバイスエリア32の開口率は、単一の素子区画SECTにおいて素子面積(SC:本実施例では250×250μm2)に対する当該素子区画内の開口の総面積(OPD:例えば、一素子区画辺りの第2開口34bの面積と第1開口34aの面積との総和)の比(OPD/SC)として規定される。この定義に従って、個々のマスク31において素子区画のエリアに対して計算されて、開口率の値(引く続く説明ではこの値を「第1値)として参照する)が得られる。
図4に示されるように、アクセサリーエリア33は、単一の素子区画SECTの素子面積より大きなサイズを有する。アクセサリーエリア33は、複数の開口パターンを有する。アライメントマークエリア35は、引き続く工程において露光用の目合わせのために準備されるマークを備える。目合わせは光学的に行われるので、マークの縁が光の反射に関連する。本実施例は、アライメントマークは以下のように規定される。アクセサリーエリア33は、複数の半導体積層アイランド35a、35b、35c、35d、35e、35fを残すためのパターンを備えると共に、個々の半導体積層アイランド35a、35b、35c、35d、35e、35fの少なくとも一つは、アライメントマークの反射を孔の配列によって形成する開口GAMの配列パターンを備える。形成されるアライメントマークでは、一連の孔は、X軸方向に配列されて、Xアライメントマークを規定すると共に、別の一連の孔が、Y軸方向に配列されて、Yアライメントマークを規定する。各孔のサイズは、例えば5μm×5μmであることができる。
アクセサリーエリア33は、半導体積層アイランド35a、35b、35c、35d、35e、35fを規定する開口34c、34d、34e、34f、34g、34h、34i、34jを備える。アクセサリーエリア33の残りのエリアには、必要に応じて製造工程における様々な測定のためのチャックパターンを設けることができる。この残りのエリアも、複数の半導体積層アイランド36a、36b、36c、36d、36e、36f、36g、36hを残すためのパターンを備えると共に、半導体積層アイランド36a、36b、36c、36d、36e、36f、36g、36hを規定する開口34k、34m、34n、34p、34q、34r、34sを備える。開口34kは、開口34cに繋がる。開口34pは開口34jに繋がる。開口34m、34q、34r、34sは、それぞれの第2開口34bに繋がる。このパターンは例示であって、本実施形態は特定のパターンの形状及び配列に限定されるものではない。
アクセサリーエリア33の開口率は、アクセサリーエリア33において素子面積に等しいサイズ当たり第2値を有するように設定される。
デバイスエリア32の開口率は、素子区画SECT当たり例えば0.08であって、この第2値は、デバイスエリア32における開口率の値(第1値)より0.02小さい下限と第1値より0.02大きい上限との間にある。第1値を基準にして上記の範囲内にある第2値は、ドライエッチングにおいて良好な終点検出を可能にする。
引き続くエッチングの容易性を考慮して、デバイスエリア32における開口率の値(第1値)は、例えば0.06〜0.10であることができる。デバイスエリア32の開口率が下限以上であるとき、プラズマ発光分光式のエンドポイントモニタではエッチングが速い領域と遅い領域の信号が重なることがなくなり、信号に含まれるノイズが抑制される。デバイスエリア32の開口率の開口率が上限以下であるとき、エッチング速度の面内ばらつきは5%以下となりエッチング深さの面内均一性が確保できる。
図5は、一ショットのサイズにおいて別のマスクのパターンを示す平面図である。図5には、直交座標系Sが描かれている。マスク41の一ショットは、デバイスエリア42及びアクセサリーエリア43を含む。デバイスエリア42は、行及び列に配列された複数の素子区画SECTを含む。デバイスエリア42は、単一の開口パターン44を有する。
単一のショットSHOTの例。
X方向のサイズ(SX):10000μm。
Y方向のサイズ(SY):10000μm。
デバイスエリア42のサイズ。
X方向のサイズ(SDV):7500μm。
Y方向のサイズ(SY):10000μm。
アクセサリーエリア43のサイズ。
X方向のサイズ(SAR):2500μm。
Y方向のサイズ(SY):10000μm。
本実施例では、デバイスエリア42の開口パターン44は、素子区画SECTの各々に設けられ半導体ポストを規定する閉じた帯状の第1開口44aを含む。
デバイスエリア42の開口パターン44の例。
第1開口44a:15μm幅、30μm内径、60μm外径。
素子区画SECT:X方向に250μmピッチであり、Y方向に250μmピッチである。デバイスエリア42では、第1開口44aは、X軸及びY軸の方向に素子サイズのピッチで配列されて、二次元アレイを構成する。マスク41では、第1開口44aの幅は、第1開口34aの幅と同じ15μmである。
単一のショットSHOTの例。
X方向のサイズ(SX):10000μm。
Y方向のサイズ(SY):10000μm。
デバイスエリア42のサイズ。
X方向のサイズ(SDV):7500μm。
Y方向のサイズ(SY):10000μm。
アクセサリーエリア43のサイズ。
X方向のサイズ(SAR):2500μm。
Y方向のサイズ(SY):10000μm。
本実施例では、デバイスエリア42の開口パターン44は、素子区画SECTの各々に設けられ半導体ポストを規定する閉じた帯状の第1開口44aを含む。
デバイスエリア42の開口パターン44の例。
第1開口44a:15μm幅、30μm内径、60μm外径。
素子区画SECT:X方向に250μmピッチであり、Y方向に250μmピッチである。デバイスエリア42では、第1開口44aは、X軸及びY軸の方向に素子サイズのピッチで配列されて、二次元アレイを構成する。マスク41では、第1開口44aの幅は、第1開口34aの幅と同じ15μmである。
デバイスエリア42においても、開口率は、単一の素子区画SECTにおいて素子面積(SC:本実施例では250×250μm2)に対する開口の総面積(OPD:単一の素子区画SECT当たりの第1開口44aの面積)の比(OPD/SC)として規定される。この定義に従って、個々のマスク41において素子区画のエリアに対して計算される。
図5に示されるように、アクセサリーエリア43は、単一の素子区画SECTの素子面積より大きなサイズを有する。アクセサリーエリア43は、単一の開口パターンを有する。アライメントマークエリア45は、引き続く工程において露光のための目合わせのためのマークを備える。目合わせは光学的に行われるので、マークの縁が光の反射に関連する。本実施例は、アライメントマークは以下のように作製される。アクセサリーエリア43は、アライメントマークの反射を複数のカラムCLM(柱)の配列によって形成する残しパターンを備える。形成されるアライメントマークでは、一連のカラムは、X軸方向に配列されて、Xアライメントマークを規定すると共に、別の一連のカラムが、Y軸方向に配列されて、Yアライメントマークを規定する。各カラムのパターンサイズは、例えば5μm×5μmであることができる。
アクセサリーエリア43の開口率は、アクセサリーエリア43において素子面積に等しいサイズ当たりで規定される。しかしながら、このアクセサリーエリア43は、単一の開口によって規定される島状の残しパターンの配列(マスク41は、半導体積層からなる柱の配列を形成するようなパターンを備える)を備えるので、アクセサリーエリア43の開口率はほぼ1になる。一方、デバイスエリア42の開口率はアクセサリーエリア43の開口率より小さい。
工程S103では、エッチング装置を準備する。図6は、本実施形態において使用可能なエッチング装置の一例を模式的に示す図面である。図6のエッチング装置ETCHは、誘導結合プラズマ反応性エッチング(ICP−RIE)装置を備える。このエッチング装置ETCHは、ビューポート51(51a、51b)、終点検知器52(52a、52b)、チャンバ53、下部電極54、誘導結合コイル55、第1高周波電源56、及び第2高周波電源57を備える。チャンバ53は、排気路53aを介して排気ポンプPに接続されており、また、プロセスガス及び原料ガスといったガスGASを供給するためのガス導入系53bに接続されている。チャンバ53は、誘電体ドームを備え、誘導結合コイル55が、チャンバ53の誘電体ドームの外側に設けられる。下部電極54は、チャンバ53内に設けられ、またエピタキシャル基板EPを搭載する。第1高周波電源56が、第1整合器58を介して下部電極54に結合される。第2高周波電源57は、第2整合器59を介して誘導結合コイル55に結合される。本実施例では、ビューポート51aがチャンバ53の側壁に設けられ、これ故に、ビューポート51aは下部電極54(又は下部電極54上のエピタキシャル基板EP)上方のプラズマからの発光を受けることができる。終点検知器52aはビューポート51aを介して誘電体ドーム内の光(プラズマからの光)を受ける。必要な場合には、下部電極54は、エッチングの処理に置かれる基板の温度調整のための冷却器53cに接続される。
終点検知器52は、エッチング装置ETCHのビューポート51を介して処理の終点を検知する。終点検知器42aは、波長モニタ型を有する。波長モニタエンドポイント検知器によれば、エッチングされている半導体の構成元素のプラズマ中における発光の強度により見積もることができ、これによってエッチングの終点検出が可能である。終点検知器42aは、エッチングの発光をモニタするための分光器を備える。
工程S104では、マスク31を形成した後に、図7に示されるように、エピタキシャル基板EPをエッチング装置ETCHの下部電極54上に置く。エッチング装置ETCHのチャンバを排気可能であって、プロセスガスを流しながら排気ポンプを用いた真空排気によりチャンバに所望の雰囲気を得る。真空排気が完了した後に、プロセスガス及びエッチャントを含むガスをチャンバ53に供給する。プロセスガスは、例えば水素及び/又はヘリウムであることができる。エッチャントは、例えば三塩化ホウ素(BCl3)及び/又は塩素(Cl2)を含むことができる。
図6に示されるように、ビューポート51aには、波長モニタ式エンドポイント検知器といった終点検知器52a(終点検出モニタ)が据え付けられる。このビューポート51aはウエハチャックの側方に位置して、終点検知器52aはビューポート51aを介してプラズマからの発光を受ける。終点検知器52aは、分光器によって所望の波長の光をモニタできる。本実施例では、Gaからの発光をモニタする。
(実施例)
図8は、マスク31を用いて、エピタキシャル基板をエッチングする際の波長モニタ式エンドポイント検知器の出力波形を示す。図8の波形では、エピタキシャル基板の全ての積層半導体層からの信号を得るために、深さ方向に半導体積層及び基板をエッチングしており、終点検知を行っていない。エピタキシャル基板は、図8に示されるエピ構造EPIを有する。モニタ波形PF0は、エッチストップ層の上面及び下面において鋭い立ち上がりを示す。エッチストップ層のエッチングの開始を示す立ち上がり及び終了を示す立ち下がりは、急激である。プラズマ中の構成元素(又はそのイオン)の量は、デバイスエリア32のエッチングからの寄与及びアクセサリーエリア33のエッチングからの寄与の重畳になる。マスク31では、デバイスエリア32の開口率がアクセサリーエリア33の開口率とあまり変わらないので、デバイスエリア32のエッチングに起因する構成元素(又はそのイオン)のプラズマへ寄与(模式的に示されたモニタ波形PFD)は、アクセサリーエリア43のエッチングに起因する構成元素(又はそのイオン)のプラズマへ寄与(模式的に示されたモニタ波形PFA)とあまり変わらない。このような結果は、ショット単位ではなく単一の素子区画の面積当たりで、マスクの開口率を調整していることに起因する。
図8は、マスク31を用いて、エピタキシャル基板をエッチングする際の波長モニタ式エンドポイント検知器の出力波形を示す。図8の波形では、エピタキシャル基板の全ての積層半導体層からの信号を得るために、深さ方向に半導体積層及び基板をエッチングしており、終点検知を行っていない。エピタキシャル基板は、図8に示されるエピ構造EPIを有する。モニタ波形PF0は、エッチストップ層の上面及び下面において鋭い立ち上がりを示す。エッチストップ層のエッチングの開始を示す立ち上がり及び終了を示す立ち下がりは、急激である。プラズマ中の構成元素(又はそのイオン)の量は、デバイスエリア32のエッチングからの寄与及びアクセサリーエリア33のエッチングからの寄与の重畳になる。マスク31では、デバイスエリア32の開口率がアクセサリーエリア33の開口率とあまり変わらないので、デバイスエリア32のエッチングに起因する構成元素(又はそのイオン)のプラズマへ寄与(模式的に示されたモニタ波形PFD)は、アクセサリーエリア43のエッチングに起因する構成元素(又はそのイオン)のプラズマへ寄与(模式的に示されたモニタ波形PFA)とあまり変わらない。このような結果は、ショット単位ではなく単一の素子区画の面積当たりで、マスクの開口率を調整していることに起因する。
図9は、マスク41を用いて、エピタキシャル基板をエッチングする際の波長モニタ式エンドポイント検知器の出力波形を示す。図9の波形では、エピタキシャル基板の全ての積層半導体層からの信号を得るために、基板まで積層体をエッチングしており、終点検知を行っていない。このエピタキシャル基板は、図8に示されるエピ構造EPIと同じ構造を有する。プラズマ中の構成元素(又はそのイオン)の量は、デバイスエリア42のエッチングからの寄与及びアクセサリーエリア43のエッチングからの寄与の重畳になる。マスク41では、デバイスエリア42の開口率がアクセサリーエリア43の開口率と大きく異なるので、デバイスエリア42のエッチングに起因する構成元素(及び/又はそのイオン)の寄与(プラズマへ寄与)は、アクセサリーエリア43のエッチングに起因する構成元素(又はそのイオン)のプラズマへ寄与と異なる。図9における破線BOXに示されるように、エッチストップ層のエッチングの開始を示す立ち上がり及び終了を示す立ち下がりは、大きく鈍っている。この鈍りは、デバイスエリア42のエッチングからの寄与及びアクセサリーエリア43のエッチングからの寄与の重畳の結果である。
終点検知器42aのセットアップが完了した後に、図7に示されるように、三塩化ホウ素及び塩素を含むガスをエッチング装置ETCHに供給して、エピタキシャル基板EPのプラズマエッチングを行う。このエッチャントは、マスク31により規定されるパターンに従って、デバイスエリア及びモニタエリアの両方をエッチングする。モニタエリアもまた、積層体11を備える。エッチングの前半では、第2半導体積層19及び半導体領域17を加工する一方で、エッチングの後半では、第1半導体積層15を加工する。一例では、第1半導体積層15はGaAs/AlGaAs多層膜を含むと共に基板13はGaAsを備える。この作製方法及びモニタ方法によれば、終点検知器42aは、エッチングされる化合物半導体に特有の構成元素がプラズマ中に現れたことを示す発光を監視する。特有の構成元素(例えばガリウム)は、例えばエッチストップ層として、エピタキシャル基板の内部に作り込める。この構成元素(又はイオン)からのプラズマ発光をビューポート51aを介して受けて、所望の光の強度の変化を利用して終点検出を行う。
実施例の説明を終えて、製造方法における主要な工程の説明に戻る。終点検知器52a(終点検出モニタ)のセットアップが完了した後に、エッチングを開始する。垂直共振型レーザの作製では多層膜構造体をエッチングする。終点検知器52aにおける終点検知に応答して、プラズマエッチングを停止する。図7に示されるように、エッチングにより、エピタキシャル基板EPから基板生産物SP1が作製される。基板生産物SP1は、マスク31、基板13、半導体構造物63は、半導体ポスト65を備える。
エッチング装置ETCHから基板生産物SP1を取り出した後に、工程S105では、図10に示されるように、マスク31を除去する。エッチングにより、エピタキシャル基板EPから基板生産物SPが作製される。基板生産物SPは、基板13、半導体構造物63、及び半導体ポスト65を備える。半導体ポスト65は、第1分布ブラッグ反射器、活性層、及び第2分布ブラッグ反射器を含み、これらはエピタキシャル基板EPにおけるエピ構造に由来する。第1分布ブラッグ反射器、活性層、及び第2分布ブラッグ反射器は、法線軸Nxの方向に配列される。半導体ポスト65は、法線軸Nxの方向に延在する側面65aと、法線軸Axの方向に交差する平面に沿って延在する上面65bとを備える。
基板生産物SPは、半導体ポスト65を規定する第1溝67と、半導体構造物63に設けられ素子区画を横切る第2溝69を備える。第1溝67は第1深さD1を有し、第2溝69は第2深さD2を有する。第1深さD1に対する第2深さD2の比率(D2/D1)は1%以上であって、比率(D2/D1)は3%以下である。これは、マスク31の第1開口34aの幅(第1溝67の幅)及びマスク31の第2開口34bの幅(第2溝69の幅)を調整することによって達成される。同様に、アクセサリーエリア33における開口34k、34m、34n、34p、34q、34r、34sに対応するそれぞれの溝の深さは、第1深さD1に対して1%以上であって、3%以下である。これは、開口34k、34m、34n、34p、34q、34r、34s及びマスク31の第1開口34aの幅(第1溝67の幅)を調整することによって達成される。
この作製方法によれば、面発光半導体レーザのための積層体11のエッチングでは、複数の分布ブラッグ反射器のための複数の第1半導体積層15、第2半導体積層19及び発光のための複数の半導体領域17を含む多層半導体膜を加工する。多層半導体膜の加工により、所望の高さの半導体ポスト65のアレイを形成する。このエッチングの完了の検知は、終点検知器を用いて行われる。発明者の知見によれば、終点検知器からの信号は、一素子区画よりも広いサイズにおけるエッチング状態を表しており、また製造工程中における生産物は、素子区画SECTのためのデバイスエリア32に加えて、引き続くプロセスを行うために用いられる構造物を備えるアクセサリーエリア33を含む。エッチング中において、終点検知器の出力は、これらのエリアそれぞれのエッチング進捗の重畳状態を示す。発明者の検討によれば、この重畳は、終点検知の精度に影響している。しかし、重畳は、製造工程中における生産物が、素子区画SECTの配列を含むデバイスエリアとアクセサリーエリア33との両方を必要とする点で、不可避である。求められていることは、素子区画SECTの配列を含むエリアにおけるエッチングの進捗を的確にモニタすることである。発明者の更なる検討によれば、重畳による終点検知の精度悪化は、アクセサリーエリア33におけるエッチングの進捗と素子区画SECTのエリアにおけるエッチングの進捗との差に起因しており、この差の原因の主要なものは、構造物のエリアにおけるパターン開口率と素子区画のエリアにおけるパターン開口率との差である。この知見に従って、エッチングのためのマスク31のパターンにおいて、一素子エリアのサイズにおいて、デバイスエリア32の開口率及びアクセサリーエリア33の開口率を調整している。これにより、重畳による終点検知の精度悪化が低減される。
工程S106では、図11に示されるように、パッシベーション膜71を全面に成長する。パッシベーション膜71は、例えばプラズマCVD号により成長されることができ、SiN、SiON又はSiO2といったシリコン系無機絶縁膜を備える。パッシベーション膜71は、当該面発光半導体レーザが出射する光の波長に対して、パッシベーション膜71が高反射膜になるように調整された膜厚を有する。
工程S107では、パッシベーション膜71を成長した後に、図12に示されるように、電極形成のための開口をエッチング及びフォトリソグラフィによりパッシベーション膜71に形成する。本実施例では、パッシベーション膜71は、半導体ポスト65の上面65bに設けられた開口71aを備える。
工程S108では、パッシベーション膜71に開口71aを形成した後に、図13に示されるように、開口71aに電極73を形成する。電極73は、TI/Pt/Au積層構造を備えることができる。
これらの工程により、面発光半導体レーザが作製される。半導体チップとして作製された面発光半導体レーザは、図13に示される素子の外観を有する。
以上説明したように、本実施形態に係る面発光半導体レーザを作製する方法によれば、所望の半導体ポストの高さを有する面発光半導体レーザが提供される。面発光半導体レーザは、半導体構造物63と、半導体ポスト65と、半導体ポスト65を半導体構造物63から隔てる第1溝67と、半導体構造物63内に設けられ面発光半導体レーザの一側面から他側面まで延在する第2溝69と、を備える。半導体ポスト65は、第1分布ブラッグ反射器、活性層、及び第2分布ブラッグ反射器を含む半導体積層を備える。第1分布ブラッグ反射器、活性層、及び第2分布ブラッグ反射器は、基板13の主面13aの法線軸Axの方向に配列される。半導体構造物63は、半導体ポスト65と実質的に同じ構造の半導体積層を備える。第1溝67は第1深さD1を有し、第2溝69は第2深さD2を有する。第2深さD2は第1深さD1に対して(D2/D1)1%以上(D2/D1)3%以下の範囲にある。
具体的には、第1溝67の底及び第2溝69の底は、同じ組成の化合物半導体(例えばエッチストップ層)からなる。第2深さD2が第1深さD1に対して上記の比(D2/D1)の範囲にあるとき、深さに関して高い精度のエッチングが達成されて、同一ウエハ内の電気特性が均一になり歩留まりに優れた面発光半導体レーザが提供される。
好適な実施の形態において本発明の原理を図示し説明してきたが、本発明は、そのような原理から逸脱することなく配置および詳細において変更され得ることは、当業者によって認識される。本発明は、本実施の形態に開示された特定の構成に限定されるものではない。したがって、特許請求の範囲およびその精神の範囲から来る全ての修正および変更に権利を請求する。
以上説明したように、本実施形態によれば、半導体ポストを形成するエッチングの終点における重畳の影響を低減できる面発光半導体レーザを作製する方法が提供される。
EP…エピタキシャル基板、15…第1半導体積層、15a…第1半導体層、15b…第2半導体層、17…半導体領域、MQW…量子井戸構造、19…第2半導体積層、19a…第3半導体層、19b…第4半導体層、25…上部コンタクト層、31、41…マスク、32、42…デバイスエリア、33、43…アクセサリーエリア、34…開口パターン、34a…第1開口、34b…第2開口、63…半導体構造物、65…半導体ポスト、67…第1溝、69…第2溝。
Claims (6)
- 面発光半導体レーザを作製する方法であって、
面発光半導体レーザのための半導体積層を基板上に成長して、エピタキシャル基板を形成する工程と、
前記面発光半導体レーザのための半導体ポストを規定するマスクを前記半導体積層上に形成する工程と、
前記マスクを形成した後に、終点検知器を備えるエッチング装置に前記エピタキシャル基板を置く工程と、
前記エッチング装置において、前記マスクを用いて前記半導体積層のエッチングを行う工程と、
前記終点検知器からの検知信号に応答して、前記エッチングを停止する工程と、
を備え、
前記マスクは、デバイスエリア及びアクセサリーエリアを含み、前記デバイスエリアは、行及び列に配列された複数の素子区画を含み、前記デバイスエリアは、複数の開口パターンを有しており、前記デバイスエリアの前記開口パターンは、前記素子区画の各々に設けられ前記半導体ポストを規定する閉じた帯状の第1開口を含み、前記デバイスエリアの開口率は、単一の素子区画において素子面積(SC)に対する開口の総面積(OPD)の比(OPD/SC)として規定され、前記デバイスエリアの前記開口率は第1値を有し、
前記アクセサリーエリアは、前記素子面積より大きなサイズを有し、前記アクセサリーエリアは、複数の開口パターンを有しており、前記アクセサリーエリアの開口率は、前記アクセサリーエリアにおいて前記素子面積に相当するサイズ当たり第2値を有し、前記第2値は、前記第1値より0.02小さい下限と前記第1値より0.02大きい上限との間にある、面発光半導体レーザを作製する方法。 - 前記終点検知器は、前記エッチングの発光をモニタするための分光器を備える、請求項1に記載された面発光半導体レーザを作製する方法。
- 前記エッチングでは、誘導結合プラズマ−反応性イオンエッチング法を用いる、請求項1又は請求項2に記載された面発光半導体レーザを作製する方法。
- 前記エッチングでは、前記エッチング装置に三塩化ホウ素を供給する、請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載された面発光半導体レーザを作製する方法。
- 前記デバイスエリアの前記開口パターンは、前記素子区画に設けられ前記第1開口とは別の第2開口を含む、請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載された面発光半導体レーザを作製する方法。
- 前記アクセサリーエリアは、アクセサリーマークを規定する複数の開口を有する、請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載された面発光半導体レーザを作製する方法。
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