JP2017164974A - 版洗浄装置、印刷装置、及び版洗浄方法 - Google Patents

Abstract

【課題】溶剤の使用量の増大や洗浄時間の増大を抑えつつ、版面の溝内のペーストを良好に除去できる版洗浄装置を提供する。【解決手段】グラビアオフセット印刷装置で用いられる凹版９０の版面９１を溶剤Ｒを用いて洗浄する版洗浄装置２００であって、版面９１に外周面を接触させて回転しながら版面９１に対して相対的に移動するローラであり、少なくとも外周表面層が洗浄ゴム２６２で構成されている洗浄ローラ２６０を備える。【選択図】図６

Description

本発明は、版洗浄装置、印刷装置、及び版洗浄方法に関するものである。

印刷装置、及び、印刷装置で用いられる凹版の洗浄装置として種々のものが知られている（例えば、特許文献１〜４参照）。これらの洗浄装置では、溶剤を版面に噴射して平ブラシを版面に対して摺動させたり、版面を浸漬した溶剤に超音波振動を与えたりすることが行われている。

特開平９−３００５７４号公報 特開平１０−３１５４２８号公報 特開２０１１−１１０５２７号公報 特開２０１５−１５５１７７号公報

版面の溝が細くなるほど、溝内のペーストを除去することが難しくなり、溶剤の使用量が増えたり、洗浄時間が長くなったりする。

本発明が解決しようとする課題は、溶剤の使用量の増大や洗浄時間の増大を抑えつつ、版面の溝内のペーストを良好に除去できる版洗浄装置、印刷装置、及び版洗浄方法を提供することである。

［１］本発明に係る版洗浄装置は、印刷装置で用いられる凹版の版面を溶剤を用いて洗浄する版洗浄装置であって、前記版面に外周面を接触させて回転しながら前記版面に対して相対的に移動するローラであり、少なくとも外周表面層が洗浄用のゴムで構成されている洗浄ローラを備える。

［２］上記発明において、前記洗浄用のゴムは、吸油性を有してもよい。

［３］上記発明において、下記（１）式を満たしてもよい。
Ｃ≧Ｌ …（１）
但し、Ｃは、前記洗浄ローラの周長であり、Ｌは、前記洗浄ローラが前記版面に接触した状態で前記版面に対して相対的に移動する移動量である。

［４］上記発明において、前記洗浄用のゴムは、弾性変形して前記版面の溝に入り込んでもよい。

［５］上記発明において、前記洗浄用のゴムは、厚さが０．３ｍｍ以上であってもよい。

［６］上記発明において、前記洗浄用のゴムは、ショアＡ硬度が７０°未満であってもよい。

［７］本発明に係るグラビアオフセット印刷装置は、上記版洗浄装置を備え、該版洗浄装置で洗浄される凹版を用いる。

［８］本発明に係る版洗浄方法は、印刷装置で用いられる凹版の版面を洗浄する版洗浄方法であって、前記版面に溶剤を塗布し、少なくとも外周表面層が洗浄用のゴムで構成されている洗浄ローラの外周面を、前記溶剤が塗布された前記版面に接触させて回転させ、前記版面に対して相対的に前記版面に沿って移動させる。

［９］上記発明において、前記溶剤の沸点は、１５０℃以上であってもよい。

本発明によれば、版面の溝内で溶剤により膨潤したペーストを、少なくとも外周表面層が洗浄用のゴムで構成されている洗浄ローラの外周面に付着させて担持させることができる。これにより、溶剤の使用量の増大や洗浄時間の増大を抑えつつ、版面の溝内のペーストを良好に除去できる。

図１は、本発明の一実施形態に係る印刷装置を示す平面図である。 図２は、本発明の一実施形態に係る印刷装置を示す断面図である。 図３（Ａ）、（Ｂ）は、本発明の一実施形態に係る印刷装置において導電性インクが凹版から転写ローラに転写される工程を説明するための断面図である。 図４（Ａ）、（Ｂ）は、本発明の一実施形態に係る印刷装置において導電性インクが転写ローラから基材に転写される工程を説明するための断面図である。 図５は、本発明の一実施形態に係る版洗浄装置を示す平面図である。 図６は、本発明の一実施形態に係る版洗浄装置を示す断面図である。 図７（Ａ）〜（Ｃ）は、本発明の一実施形態に係る版洗浄装置において洗浄ローラが版面を洗浄する工程を説明するための拡大断面図である。 図８は、他の実施形態に係る版洗浄装置を示す断面図である。 図９は、他の実施形態に係る版洗浄装置を示す断面図である。

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。

図１は本発明の一実施形態に係る印刷装置１を示す平面図、図２及、図３（Ａ）、（Ｂ）、及び図４（Ａ）、（Ｂ）は本発明の一実施形態に係る印刷装置１を示す断面図である。これらの図に示すように、本実施形態の印刷装置１は、グラビアオフセット印刷法によって基材１１０に導電性インクＭを印刷することにより、配線基板１００を製造する装置である。

図４（Ｂ）に示すように、配線基板１００は、基材１１０と、導体層１２０とを備えている。基材１１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）等の絶縁性を有する基材である。

導体層１２０は、印刷装置１によって基材１１０上に転写された導電性インクＭを硬化させることにより形成されている。この導体層１２０は、銀や銅、ニッケル、スズ、ビスマス、亜鉛、インジウム、パラジウム、グラファイト等を含有する導電性材料と、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビニル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂等を含有するバインダ樹脂等から構成されている。なお、導体層１２０を構成する材料からバインダ樹脂を省略してもよい。

なお、図４（Ｂ）において、符号（１２０）は、導電性インクＭを乾燥炉８５（後述）で硬化させた後の導体層を示す。また、同図において、符号（１００）は、乾燥炉８５で硬化した後の導体層１２０を有する配線基板を示す。

なお、本実施形態の導電性インクＭとしては、粘度が５Ｐａ・ｓ〜５０Ｐａ・ｓのものを用いることができる。このような導電性インクＭは、上述の導体層１２０を構成する材料、各種添加剤および溶剤が混合された構成となっている。溶剤は、用いるバインダ樹脂の種類に応じて適宜、選択すればよいが、例えば、バインダ樹脂としてポリエステル系樹脂を用いる場合には、酢酸シクロヘキシル、酢酸ブチルカルビトーレ、酢酸−２−ブトキシエチル、イソブチルアルコール、２−エチルブチルアルコール、エチルカルビトール、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、ブチルセロソルブアセテート、イソホロン等を例示することができる。添加剤としては、硬化剤、カップリング剤、腐食抑制剤等を例示することができる。

図１及び図２に示すように、印刷装置１は、版テーブル１０と、基材テーブル２０と、ドクタブレード装置３０と、ドクタ架台４０と、ディスペンサ５０と、転写ローラ６０と、移動機構７１，７２と、装置フレーム８０と、乾燥炉８５と、版洗浄装置２００とを備えている。

版テーブル１０は、装置フレーム８０上に水平に設置されており、移動機構７１によりＸ方向に移動される。この版テーブル１０は、凹版９０（グラビア版）が載置される支持面１１を有している。この支持面１１には、不図示の複数の吸引口が形成されており、凹版９０が支持面１１において吸着保持される。なお、版テーブル１０に凹版９０を固定する方法は、特にこれに限定されない。移動機構７１としては、たとえば、モータを用いたボールねじ機構等を例示することができる。

本実施形態の凹版９０は、平板状の凹版であり、版面９１には凹パターン９２が形成されている。この凹パターン９２は、配線基板１００の導体層１２０に対応したパターンである。凹パターン９２が形成された領域の幅Ｗ２は、凹版９０の幅Ｗ１よりも小さい幅とされている。なお、凹版９０の幅（Ｙ方向の長さ）Ｗ１としては、たとえば、６００ｍｍである。凹パターン９２が形成された領域の幅Ｗ２としては、たとえば、５００ｍｍである。また、凹版９０の長さ（Ｘ方向の長さ）Ｌとしては、例えば、７００ｍｍである。

凹パターン９２としては、たとえば、網目状（メッシュ状）のパターンやストライプ状のパターン等を例示することができる。凹パターンを網目状（メッシュ状）とする場合は、種々の図形単位（たとえば、三角形、四角形等のｎ角形や、円、楕円、星型等）を、当該凹パターンの網目形状として用いることができる。凹パターン９２の溝幅は、例えば、３０μｍ〜５０μｍと細幅に設定されており、凹パターン９２の深さは、例えば、１０μｍ〜１５μｍに設定されている。

基材テーブル２０は、装置フレーム８０上に水平に設置されており、移動機構７２によりＸ方向に移動される。この版テーブル１０は、被印刷体である基材１１０が載置される支持面２１を有している。上述の版テーブル１０の支持面１１と同様に、この支持面２１にも複数の吸引口が形成されており、基材１１０が支持面２１において吸着保持される。なお、基材テーブル２０に基材１１０を固定する方法は、特にこれに限定されない。移動機構７２としては、たとえば、モータを用いたボールねじ機構等を例示することができる。

この基材テーブル２０の待機位置（転写ローラ６０の下から退避した位置）の近傍には、不図示の吸着装置が設置されており、基材テーブル２０上に載置された基材１１０が当該吸着装置により乾燥炉８５に移送される。なお、乾燥炉８５としては、たとえば、ＩＲ（遠赤外線）乾燥炉や熱風乾燥炉等を例示することができる。基材１１０上に転写された印刷パターン（導電性インクＭ）が、乾燥炉８５を通過する際に加熱、硬化することにより導体層１２０が形成される。

ドクタブレード装置３０は、凹版９０の上方に当該凹版９０と対向して配置されている。図２に示すように、ドクタブレード装置３０は、ブレード本体３１と、ブレードホルダ３２とを備えている。ブレード本体３１は、その先端が凹版９０の版面９１上を摺動することで、凹パターン９２に導電性インクＭを充填すると共に、当該凹版９０の版面９１に残余する導電性インクＭを掻き取ることができる。

ドクタ架台４０は、ドクタブレード装置３０が脱着可能な架台である。このドクタ架台４０は、ドクタブレード装置３０を、ブレード本体３１が所定のドクタ角度で傾斜した状態で保持する。このドクタ架台４０は、上下動できる機構を有しており、版テーブル１０に保持された凹版９０に対して接近又は離間する。ドクタ架台４０を上下動させる機構としては、たとえば、モータ等を用いたラックアンドピニオンギア機構等を例示することができる。

このドクタ架台４０を下降させ、ブレード本体３１の先端部を凹版９０の版面９１と接触させた状態で、移動機構７１により版テーブル１０をＸ方向に移動させることで、ブレード本体３１により凹版９０上の導電性インクＭのコーティング及び掻き取り（すなわち、ドクタリング）が実行される。

本実施形態では、版テーブル１０を移動機構７１により水平移動させているが、ドクタ架台４０と版テーブル１０とが、相対的に移動可能となっていれば、特に上述に限定されない。例えば、特に図示しないが、移動機構によりドクタ架台が版テーブルに対して水平移動してもよいし、ドクタ架台及び版テーブルのそれぞれに移動機構を設け、これらの移動機構の同期駆動下において、当該ドクタ架台及び版テーブルを相対移動させてもよい。

ディスペンサ５０は、導電性インクＭを凹版９０の版面９１上に供給する装置である。ディスペンサ５０とドクタブレード装置３０とは相互に近接して配されており、ディスペンサ５０が、ドクタブレード装置３０よりも凹版９０の移動方向上流側に配されている。このディスペンサ５０は、ドクタブレード装置３０と共にＺ方向に沿って移動可能となっている。なお、本実施形態では、ドクタブレード装置３０とディスペンサ５０とは同期駆動下において動作させているが、それぞれ独立して動作させてもよい。また、この場合には、ディスペンサ５０を動作させた後にドクタブレード装置３０を動作させてもよい。

転写ローラ６０は、導電性インクＭが充填された凹版９０から当該導電性インクＭを転写されて、基材１１０に導電性インクＭを転写する機能を有する。この転写ローラ６０は、不図示のモータ等により回転駆動が可能となっている。また、転写ローラ６０は、例えば、不図示のラックアンドピニオンギア機構等により上下動されるようになっており、下降された場合に、版テーブル１０上の凹版９０、或いは、基材テーブル２０上の基材１１０に接触できる。

転写ローラ６０は、ブランケット胴６１と、ブランケット６２とを有している。ブランケット胴６１は、円柱状の部材であり、その中心軸の周りに回転可能に支持されている。ブランケット６２は、たとえば、シリコーンゴム等から構成された円筒状の部材であり、ブランケット胴６１の外周面６１１上に取り付けられている。このブランケット６２は、凹版９０の凹パターン９２に充填された導電性インクＭが転写される転写面６２１を有している。

図３（Ａ）、（Ｂ）に示すように、版テーブル１０が移動機構７１により前進されて転写ローラ６０の下方を通過する際に、転写ローラ６０が、版テーブル１０上の凹版９０に押し付けられた状態で、凹版９０の移動方向に対して順方向（図中時計周り方向）に回転される。これにより、凹版９０の凹パターン９２に充填されていた導電性インクＭが転写ローラ６０のブランケット６２の転写面６２１に転写される。その後、転写ローラ６０が上昇し、移動機構７１により版テーブル１０が待機位置まで後退される。この際、移動機構７２により基材テーブル２０が待機位置から移動されて転写ローラ６０の下方を通過する。

そして、図４（Ａ）、（Ｂ）に示すように、基材テーブル２０が移動機構７２により前進されて転写ローラ６０の下方を通過する際に、転写ローラ６０が、基材テーブル２０の上の基材１１０に押し付けられた状態で、基材１１０の移動方向に対して順方向（図中時計周り方向）に回転される。これにより、ブランケット６２の転写面６２１に担持されていた導電性インクＭが基材１１０の表面１１１に転写される。

図５は、版洗浄装置２００を示す平面図であり、図６は、版洗浄装置２００を示す断面図である。図５及び図６に示すように、版洗浄装置２００は、版テーブル１０と、溶剤塗布装置２２０と、洗浄ローラ２６０と、移動機構７１と、装置フレーム８０とを備えている。なお、印刷装置１と版洗浄装置２００とは、同様の構成の版テーブル１０、移動機構７１、及び装置フレーム８０を備えている。そのため、版洗浄装置２００が備える版テーブル１０、移動機構７１、及び装置フレーム８０の構成についての説明は省略し、印刷装置１についての説明を援用する。

版テーブル１０の支持面１１には、印刷装置１において所定回数（例えば、１〜２００回、好ましくは５０〜１５０回、本実施形態では約１００回）使用された凹版９０が載置され、当該凹版９０を支持した版テーブル１０が、移動機構７１により溶剤塗布装置２２０及び洗浄ローラ２６０の下を通過するように移動される。

溶剤塗布装置２２０は、洗浄ローラ２６０よりも凹版９０の搬送方向の上流側に配されている。この溶剤塗布装置２２０は、バーコーター２３０と、ディスペンサ２５０とを備えている。バーコーター２３０とディスペンサ２５０とは相互に近接して配されており、ディスペンサ２５０が、バーコーター２３０よりも凹版９０の搬送方向上流側に配されている。

ディスペンサ２５０は、溶剤Ｒを凹版９０上に供給する装置であり、版テーブル１０上の凹版９０の版面９１に対向する複数のノズル２５２を備えている。この複数のノズル２５２は、Ｙ方向に沿って所定の間隔で配されており、凹版９０の版面９１に溶剤を滴下する。

溶剤としては、凹版９０上での揮発を防止する観点から沸点が１５０℃以上、好ましくは１９０℃以上、より好ましくは２００℃以上のものを使用できる。このような溶剤としては、ブチルカルビトールアセテート（沸点２４７℃）、カルビトールアセテート（２１７℃）、ブチルセロソルブアセテート（１９１℃）、テルピネオール（２１９℃）等を例示することができる。なお、溶剤としては、上述の導電性インクＭに含有された溶剤と同一のものを使用することが好ましい。

バーコーター２３０は、凹版９０の版面９１上の溶剤Ｒを塗り広げる装置であり、軸部２３２と、ワイヤ部２３４とを備えている。軸部２３２は、版テーブル１０上の凹版９０よりも高位にＹ方向に延びるように配されており、不図示の軸受により回転可能に支持されている。ワイヤ部２３４は、ステンレス等のワイヤを軸部２３２に螺旋状に巻き付けることにより形成されており、版テーブル１０上の凹版９０の版面９１に接触する。このワイヤ部２３４の長さは、凹版９０のＹ方向の長さ（図１の幅Ｗ１）と比較して大きく設定されている。

凹版９０を支持した版テーブル１０を移動機構７１により洗浄ローラ２６０に向かって移動させる際に、ディスペンサ２５０の複数のノズル２５２から凹版９０の版面９１上に溶剤Ｒを滴下させる。この際、バーコーター２３０のワイヤ部２３４が凹版９０に従動して回転しながら凹版９０の版面９１上の溶剤Ｒを塗り広げる。ここで、ディスペンサ２５０から凹版９０の版面９１への溶剤Ｒの供給量は、凹版９０の版面９１全体へ均一な厚さで溶剤を塗り広げることができると共に、凹パターン９２内に溶剤Ｒを充填でき、且つ、溶剤Ｒの飛散を防止できるように設定されている。

凹パターン９２内にペーストが存在する場合、このペーストが溶剤Ｒにより膨潤する。それにより、ペーストと凹パターン９２との接着力が低下する。

なお、バーコーター２３０に代えてブレードを用いて凹版９０の版面９１上の溶剤Ｒを塗り広げるようにしてもよい。また、本実施形態では、版テーブル１０を移動機構７１により移動させているが、バーコーター２３０と版テーブル１０とが、相対的に移動可能となっていれば、特に上述に限定されない。例えば、移動機構によりバーコーター２３０が版テーブル１０に対して移動してもよいし、バーコーター２３０及び版テーブル１０のそれぞれに移動機構を設け、これらの移動機構の同期駆動下において、バーコーター２３０及び版テーブル１０を相対移動させてもよい。また、バーコーター２３０やブレードを用いることは必須ではなく、ディスペンサ２５０のみで溶剤Ｒを版面９１全体に塗布するようにしてもよい。

洗浄ローラ２６０は、凹版９０の版面９１上の溶剤Ｒを吸収すると共に、凹版９０の版面９１上のペーストを除去する機能を有する。この洗浄ローラ２６０は、バーコーター２３０よりも凹版９０の搬送方向の下流側に配されており、不図示のモータ等により回転される。

洗浄ローラ２６０は、ブランケット胴６１と、洗浄ゴム２６２とを有している。ブランケット胴６１は、転写ローラ６０が備えるブランケット胴６１と同様の構成であり、中心軸の周りに回転可能に支持されている。ブランケット胴６１の回転軸はＸ方向に延びるように配されている。

洗浄ゴム２６２は、弾性ゴム材料で構成された円筒状の部材であり、ブランケット胴６１の外周面６１１上に取り付けられている。この洗浄ゴム２６２は、凹版９０の版面９１を洗浄する洗浄面２６２Ａを有している。洗浄ゴム２６２を構成するゴム材料としては、硬度がショアＡ硬度で７０°未満の柔軟な性質と、所定の吸油性とを有するものを使用することができる。所定の吸油性としては、溶剤に１分間浸漬した場合に０．１ｗｔ％以上の重量増加が実現されるだけの吸油性が要求される。このようなゴム材料としては、シリコーンゴム、ウレタンゴム等を例示することができる。また、洗浄ゴム２６２の厚みは、０．３ｍｍ以上であることが好ましい。

下記（１）式で示すように、洗浄ローラ２６０（洗浄面２６２Ａ）の周長Ｃ（＝２×π×ｒ）は、凹版９０のＸ方向（搬送方向）の長さＬ以上に設定されている。
Ｃ（＝２×π×ｒ）≧Ｌ …（１）
但し、ｒは、洗浄ローラ２６０の半径（洗浄ローラ２６０の回転中心から洗浄面２６２Ａまでの距離）であり、πは円周率である。

図７（Ａ）〜（Ｃ）は、洗浄ローラ２６０により凹版９０の版面９１を洗浄している状態を拡大して示す断面図である。これらの図に示すように、溶剤Ｒが塗布された凹版９０を支持した版テーブル１０を洗浄ローラ２６０の下を通過させる際に、洗浄ローラ２６０を凹版９０の移動方向に対して順方向に回転させる。この際、洗浄ゴム２６２が、洗浄面２６２Ａを凹版９０の版面９１に順次接触させながら回転する。

ここで、洗浄ゴム２６２が、上述したように所定の吸油性を有する材料で構成されていることにより、凹版９０の版面９１上の溶剤Ｒが洗浄ゴム２６２に吸収される。また、洗浄ゴム２６２が、柔軟な性質を有する弾性ゴム材料で構成されていることにより、洗浄ゴム２６２の洗浄面２６２Ａが版面９１の凹凸により弾性変形して凹パターン９２内に入り込む。凹パターン９２内のペーストＰは溶剤Ｒで膨潤しており、洗浄面２６２Ａに対するタック性が高められている。そのため、図７（Ｃ）に示すように、凹パターン９２内のペーストＰは、洗浄面２６２Ａに付着して凹パターン９２から除去される。

ここで、洗浄ローラ２６０の周長Ｃが凹版９０のＸ方向の長さＬ以上に設定されていることにより、洗浄ローラ２６０が一回転する間に、洗浄面２６２Ａにおける凹版９０との接触開始点は、再度凹版９０に接触することはない。これにより、洗浄面２６２Ａに付着したペーストＰ及び洗浄ゴム２６２に吸収された溶剤Ｒが、再び凹版９０に付着することを防止できる。

なお、１枚の凹版９０の洗浄が終了する度に、又は、凹版９０の洗浄を実施している間に、洗浄ローラ２６０の洗浄ゴム２６２を清掃する。洗浄ゴム２６２の清掃方法としては、粘着ローラを用いて、洗浄ゴム２６２に吸収された溶剤を洗浄ゴム２６２から排出し、洗浄面２６２Ａに付着したペーストを洗浄面２６２Ａから除去する方法等を例示することができる。

ここで、洗浄ゴム２６２により凹版９０上の溶剤を完全に除去できることが好ましいが、凹版９０上に溶剤が残存する場合には別途清掃すればよい。また、洗浄ゴム２６２により凹パターン９２内のペーストを完全に除去できることが好ましいが、洗浄後の凹版９０を使用しての印刷処理に支障が無い程度に凹パターン９２内のペーストを除去できればよい。

以下、本実施形態に係る版洗浄装置２００による凹版９０の洗浄の効果を確認するための実験について説明する。

本実験では、溝幅が３０μｍ、深さが１５μｍの凹パターン９２が形成された凹版９０を、印刷装置１において１００回した使用した後に、以下の条件の溶剤と洗浄ゴム２６２とを用いて洗浄した。そして、洗浄後の凹版９０の版面９１をマイクロスコープで観察して、版面９１に不純物が残存しているか否かによって可否を判定した。

表１〜表３は、本実験の結果を示す表である。

表１に示すように、洗浄ゴム２６２を構成するゴム材料を、ショアＡ硬度が５５°のシリコーンゴムとし、溶剤をブチルカルビトールアセテートとし、洗浄ゴム２６２の厚さを０．１ｍｍ、０．３０ｍｍ、０．４５ｍｍ、０．６５ｍｍとして洗浄の効果をマイクロスコープで観察したところ、いずれの場合も印刷処理に支障が無い程度に良好な効果が得られた。ただし、洗浄ゴム２６２の厚さが０．１ｍｍの場合には、一部不純物の残存が観察された。一方、洗浄ゴム２６２の厚さが０．３０ｍｍ以上の場合には、不純物の残存は観察されなかった。

表２に示すように、洗浄ゴム２６２を構成するゴム材料を、厚さが０．４５ｍｍのシリコーンゴムとし、溶剤をブチルカルビトールアセテートとし、洗浄ゴム２６２の硬度（ショアＡ硬度）を７０°、５５°、３５°として洗浄の効果をマイクロスコープで観察したところ、いずれの場合も印刷処理に支障が無い程度に良好な効果が得られた。ただし、洗浄ゴム２６２の硬度が７０°の場合には、一部不純物の残存が観察された。一方、洗浄ゴム２６２の硬度が５５°以下の場合には、不純物の残存は観察されなかった。

表３に示すように、洗浄ゴム２６２を構成するゴム材料を、厚さが０．４５ｍｍ、硬度（ショアＡ硬度）が５５°のシリコーンゴムとし、溶剤をブチルカルビトールアセテート（沸点２４６．８℃）、カルビトールアセテート（沸点２１７．４℃）、ブチルセロソルブアセテート（沸点１９１．５℃）、テルピネオール（沸点２１９℃）、トルエン（沸点１１０．６℃）としてマイクロスコープで洗浄の効果を観察したところ、いずれの場合も印刷処理に支障が無い程度に良好な効果が得られた。ただし、溶剤が凹版９０上で揮発するトルエンの場合には、一部不純物の残存が観察された。一方、溶剤が凹版９０上で揮発しないブチルカルビトールアセテート、カルビトールアセテート、ブチルセロソルブアセテート、テルピネオールの場合には、不純物の残存は観察されなかった。

以上説明したように、本実施形態に係る版洗浄装置２００によれば、凹パターン９２内で溶剤により膨潤したペーストを、洗浄ローラ２６０における洗浄用の弾性ゴムで構成されている洗浄面２６２Ａに付着させて担持させることができる。これにより、凹版９０を溶剤に浸漬する場合のように大量の溶剤を使用することなく、また、ペーストを溶剤で完全に溶解させる場合のように長時間をかけることなく、凹パターン９２内のペーストを良好に除去できる。

また、本実施形態に係る版洗浄装置２００では、洗浄ローラ２６０の洗浄ゴム２６２は、吸油性を有するゴム材料で構成されている。これにより、版面９１に塗布された溶剤を洗浄ゴム２６２で吸収することができ、版面９１から溶剤を回収することができる。

また、本実施形態に係る版洗浄装置２００では、洗浄ローラ２６０の周長Ｃが、洗浄ローラ２６０が版面９１に接触して版面９１に対して相対的に移動する移動量（即ち、凹版９２のＸ方向の長さ）Ｌと比較して大きくなっている。これにより、洗浄ローラ２６０の洗浄面２６２Ａに担持させたペースト及び洗浄ゴム２６２に吸収させた溶剤が、再び凹版９０に付着することを防止できる。

また、本実施形態に係る版洗浄装置２００では、洗浄ゴム２６２が、弾性変形して凹パターン９２内に入り込む。これにより、凹パターン９２内で溶剤により膨潤したペーストを、より一層効果的に除去することができる。特に、本実施形態に係る版洗浄装置２００では、洗浄ゴム２６２の厚さが０．３ｍｍ以上であり、また、洗浄ゴム２６２の硬度がショアＡ硬度で７０°未満であることにより、より高い洗浄効果を得ることができる。

また、本実施形態に係る版洗浄装置２００では、溶剤の沸点が１５０℃以上であることにより、凹版９０上での溶剤の揮発を防止でき、版面９１上のペーストＰを膨潤させることができる。

図８は、他の実施形態に係る版洗浄装置３００を示す断面図である。この図に示すように、本実施形態に係る版洗浄装置３００は、上述の実施形態における洗浄ローラ２６０に代えて洗浄ローラ３６０を備える。この洗浄ローラ３６０は、転写ローラ６０のブラケット６２の転写面６２１上に、洗浄ゴム２６２が取り付けられた構成である。即ち、本実施形態に係る版洗浄装置３００では、転写ローラ６０が洗浄ローラ３６０に転用されている。

溶剤塗布装置２２０は、退避位置まで上昇したドクタブレード装置３０、ドクタ架台４０、及びディスペンサ５０と、版テーブル１０上の凹版９０との間に設置される。溶剤塗布装置２２０は、装置フレーム８０に着脱可能に設置されており、印刷装置１による印刷処理が実施される際には非設置とされる。なお、溶剤塗布装置２２０は、使用位置と退避位置との間で移動するように構成されていてもよい。

図９は、他の実施形態に係る版洗浄装置４００を示す断面図である。この図に示すように、本実施形態に係る版洗浄装置４００は、上述の実施形態における洗浄ローラ２６０に代えて洗浄ローラ４６０を備える。また、版洗浄装置４００は、洗浄ローラ４６０を清掃する清掃装置４７０を備える。

洗浄ローラ４６０は、洗浄ローラ２６０と比較して小径のローラであり、下記（２）式で示すように、洗浄ローラ４６０の周長Ｃ´（＝２×π×ｒ´）は、凹版９０のＸ方向（移動方向）の長さＬ未満に設定されている。
Ｃ´（＝２×π×ｒ´）＜Ｌ …（２）
但し、ｒ´は、洗浄ローラ４６０の半径（洗浄ローラ４６０の回転中心から洗浄面４６２Ａまでの距離）であり、πは円周率である。

清掃装置４７０は、粘着ローラ４７２を備える。粘着ローラ４７２は、洗浄ローラ４６０の回転軸に対して平行に配されており、周面を洗浄ゴム４６２の洗浄面４６２Ａに接触させている。また、洗浄面４６２Ａと凹版９０との接触点から洗浄面４６２Ａと粘着ローラ４７２との接触点までの洗浄ローラ４６０の回転角度θは、１８０°以上である。粘着ローラ４７２は、洗浄ゴム４６２から溶剤及びペーストを除去する。なお、粘着ローラ４７２に代えて、溶剤を除去でき、洗浄面４６２Ａからペーストを除去できるブレードを用いてもよい。

以上説明したように、本実施形態に係る版洗浄装置４００によれば、洗浄ローラ４６０が一回転する間に、洗浄面４６２Ａに付着したペースト及び洗浄ゴム４６２に吸収された溶剤がブレード４７２により掻き落とされる。これにより、洗浄面４６２Ａに付着したペースト及び洗浄ゴム４６２に吸収された溶剤が、再び凹版９０に付着することを防止できる。

上述の実施形態における「印刷装置１」が本発明における「印刷装置」の一例に相当し、上述の実施形態における「版洗浄装置２００」、「版洗浄装置３００」、「版洗浄装置４００」が本発明における「版洗浄装置」の一例に相当し、上述の実施形態における「凹版９０」が本発明における「版」の一例に相当し、上述の実施形態における「版面９１」が本発明における「版面」の一例に相当し、上述の実施形態における「凹パターン９２」が本発明における「版面の溝」の一例に相当する。

上述の実施形態における「溶剤Ｒ」が本発明における「溶剤」の一例に相当し、上述の実施形態における「溶剤塗布装置２２０」が本発明における「溶剤塗布装置」の一例に相当し、上述の実施形態における「洗浄ローラ２６０」、「洗浄ローラ３６０」、「洗浄ローラ４６０」が本発明における「洗浄ローラ」の一例に相当し、上述の実施形態における「洗浄ゴム２６２」、「洗浄ゴム４６２」が本発明における「洗浄用のゴム」の一例に相当し、上述の実施形態における「洗浄面２６２Ａ」、「洗浄面４６２Ａ」が本発明における「洗浄ローラの外周面」の一例に相当する。

なお、以上に説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。

例えば、上述の実施形態では、平板状の凹版９０を用いているが、版胴を用いてもよい。また、上述の実施形態の印刷装置１は、グラビアオフセット印刷装置であるが、グラビア印刷等の直刷り法（ダイレクト印刷方式）を用いた印刷装置で使用した凹版の洗浄にも本発明を適用できる。

また、上述の実施形態では、洗浄ローラ２６０、３６０、４６０の外周表面層のみを洗浄ゴム２６２、４６２により構成したが、洗浄ローラの回転軸部分を除く全体を洗浄ゴムにより構成してもよい。さらに、上述の実施形態では、洗浄ゴム２６２、４６２に凹パターン９２に入り込むような柔軟性を要求したが、これは必須ではなく、洗浄ゴムは所望の洗浄性能を有していればよい。

また、上述の実施形態では、溶剤塗布装置２２０を設けたが、これは必須ではなく、溶剤が入った容器から版面９１に流下させながら塗り広げる等、溶剤塗布装置２２０を用いずに、溶剤を版面９１に塗布してもよい。

また、本実施形態では、インクとして導電性インクＭを用いているが、特にこれに限定されず、導電性を有していない材料をインクとして用いてもよい。この場合、導電性を有しないインクの材料としては、たとえば、シリコンや上述のバインダ樹脂を含むものを例示することができる。

１・・・印刷装置
１０・・・版テーブル
１１・・・支持面
２０・・・基材テーブル
２１・・・支持面
３０・・・ドクタブレード装置
３１・・・ブレード本体
３２・・・ブレードホルダ
４０・・・ドクタ架台
５０・・・ディスペンサ
６０・・・転写ローラ
６１・・・ブランケット胴
６１１・・・外周面
６２・・・ブランケット
６２１・・・転写面
７１，７２・・・移動機構
８０・・・装置フレーム
８５・・・乾燥炉
９０・・・凹版
９１・・・版面
９２・・・凹パターン
１００・・・配線基板
１１０・・・基材
１２０・・・導体層
２００・・・版洗浄装置
２２０・・・溶剤塗布装置
２３０・・・バーコーター
２３２・・・軸部
２３４・・・ワイヤ部
２５０・・・ディスペンサ
２５２・・・ノズル
２６０・・・洗浄ローラ
２６２・・・洗浄ゴム
２６２Ａ・・・洗浄面
３００・・・版洗浄装置
３６０・・・洗浄ローラ
４００・・・版洗浄装置
４６０・・・洗浄ローラ
４６２・・・洗浄ゴム
４６２Ａ・・・洗浄面
４７０・・・清掃装置
４７２・・・粘着ローラ
Ｍ・・・導電性インク
Ｒ・・・溶剤
Ｐ・・・ペースト

［１］本発明に係る版洗浄装置は、印刷装置で用いられる凹版の版面を溶剤を用いて洗浄する版洗浄装置であって、前記版面に外周面を接触させて回転しながら前記版面に対して相対的に移動するローラであり、少なくとも外周表面層が洗浄用のゴムで構成されている洗浄ローラを備え、下記（１）式を満たす。
Ｃ≧Ｌ …（１）
但し、Ｃは、前記洗浄ローラの周長であり、Ｌは、前記洗浄ローラが前記版面に接触した状態で前記版面に対して相対的に移動する移動量である。
［２］また、本発明に係る版洗浄装置は、印刷装置で用いられる凹版の版面を、溶剤を用いて洗浄する版洗浄装置であって、前記版面に外周面を接触させて回転しながら前記版面に対して相対的に移動するローラであり、少なくとも外周表面層が洗浄用のゴムで構成されている洗浄ローラを備え、前記洗浄用のゴムは、ショアＡ硬度が７０°未満である。

［３］上記発明において、前記洗浄用のゴムは、吸油性を有してもよい。

［６］本発明に係るグラビアオフセット印刷装置は、上記版洗浄装置を備え、該版洗浄装置で洗浄される凹版を用いる。

［７］本発明に係る版洗浄方法は、印刷装置で用いられる凹版の版面を洗浄する版洗浄方法であって、前記版面に溶剤を塗布し、少なくとも外周表面層が洗浄用のゴムで構成されている洗浄ローラの外周面を、前記溶剤が塗布された前記版面に接触させて回転させ、前記版面に対して相対的に前記版面に沿って移動させ、下記（１）式を満たす。
Ｃ≧Ｌ …（１）
但し、Ｃは、前記洗浄ローラの周長であり、Ｌは、前記洗浄ローラが前記版面に接触した状態で前記版面に対して相対的に移動する移動量である。
［８］また、本発明に係る版洗浄方法は、印刷装置で用いられる凹版の版面を洗浄する方法であって、前記版面に溶剤を塗布し、少なくとも外周表面層が洗浄用のゴムで構成されている洗浄ローラの外周面を、前記溶剤が塗布された前記版面に接触させて回転させ、前記版面に対して相対的に前記版面に沿って移動させ、前記洗浄用のゴムは、ショアＡ硬度が７０°未満である。

Claims (9)

1. 印刷装置で用いられる凹版の版面を、溶剤を用いて洗浄する版洗浄装置であって、
   前記版面に外周面を接触させて回転しながら前記版面に対して相対的に移動するローラであり、少なくとも外周表面層が洗浄用のゴムで構成されている洗浄ローラを備える版洗浄装置。
2. 請求項１に記載の版洗浄装置であって、
   前記洗浄用のゴムは、吸油性を有する版洗浄装置。
3. 請求項１又は２に記載の版洗浄装置であって、
   下記（１）式を満たす版洗浄装置。
   Ｃ≧Ｌ …（１）
   但し、Ｃは、前記洗浄ローラの周長であり、Ｌは、前記洗浄ローラが前記版面に接触した状態で前記版面に対して相対的に移動する移動量である。
4. 請求項１〜３の何れか１項に記載の版洗浄装置であって、
   前記洗浄用のゴムは、弾性変形して前記版面の溝に入り込む版洗浄装置。
5. 請求項１〜４の何れか１項に記載の版洗浄装置であって、
   前記洗浄用のゴムは、厚さが０．３ｍｍ以上である版洗浄装置。
6. 請求項１〜５の何れか１項に記載の版洗浄装置であって、
   前記洗浄用のゴムは、ショアＡ硬度が７０°未満である版洗浄装置。
7. 請求項１〜６の何れか１項に記載の版洗浄装置を備え、前記版洗浄装置で洗浄される凹版を用いる印刷装置。
8. 印刷装置で用いられる凹版の版面を洗浄する方法であって、
   前記版面に溶剤を塗布し、
   少なくとも外周表面層が洗浄用のゴムで構成されている洗浄ローラの外周面を、前記溶剤が塗布された前記版面に接触させて回転させ、前記版面に対して相対的に前記版面に沿って移動させる版洗浄方法。
9. 請求項８に記載の版洗浄方法であって、
   前記溶剤の沸点は、１５０℃以上である版洗浄方法。

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