JP2017161795A - 電子写真感光体及び画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明の課題は、振れ精度の低下を抑制しつつ、帯電プロセスにおけるＡＣ成分との共振やクリーニングブレードとの共振を抑制する電子写真感光体を提供することである。【解決手段】本発明の電子写真感光体（１０）は、導電性基体（１）上に、感光層（２）を有して構成され、導電性基体（１）の外径中心位置（Ｄ１）と内径中心位置（Ｄ２）との距離Ｌ（ｍｍ）が、導電性基体（１）の外径をＤ（ｍｍ）としたとき、下記式（１）を満たすことを特徴とする。０．００１３×Ｄ≦Ｌ≦０．００５０×Ｄ （１）【選択図】図３
Description
本発明は、電子写真感光体及び画像形成装置に関し、より詳しくは、振れ精度の低下を抑制しつつ、帯電プロセスにおけるＡＣ成分との共振やクリーニングブレードとの共振を抑制する電子写真感光体及びこれを備える画像形成装置に関する。
電子写真感光体は、プリンタや複写機の画像形成に用いられ、画像形成プロセスにあたって帯電→像露光→現像→転写→クリーニング→除電の各プロセスを経て使用される（例えば、特許文献１参照。）。
この中で、帯電プロセスは、接触帯電プロセスを適用する場合が少なくない。接触帯電プロセスでは、帯電を均一にして帯電性を上げるために、ＡＣ帯電方式が好ましく用いられている。ＡＣ帯電方式は、ＤＣ電圧にＡＣ成分を重畳させ高圧電界をかけることで安定した帯電を付与することができる。
この中で、帯電プロセスは、接触帯電プロセスを適用する場合が少なくない。接触帯電プロセスでは、帯電を均一にして帯電性を上げるために、ＡＣ帯電方式が好ましく用いられている。ＡＣ帯電方式は、ＤＣ電圧にＡＣ成分を重畳させ高圧電界をかけることで安定した帯電を付与することができる。
被帯電体である電子写真感光体にＡＣ高圧電界をかけると、電子写真感光体の固有振動とＡＣ周波数とが共振する周波数で「鳴き」（帯電音ともいう。）が発生する場合があり、機器の騒音として問題となる。この共振周波数での鳴きは、プロセス設計上、大きな制約となる。
また、もう一つの現象として、クリーニングプロセスにおいて、ブレードクリーニングする場合が多いが、こちらも電子写真感光体とブレードとの共振で「鳴き」が発生する場合があり、同様に大きな問題である。
以上のような共振を抑えるため、基体肉厚を厚くすることや、電子写真感光体の円筒内に重りや緩衝材を装着することがなされている。しかし、電子写真感光体の製造に多大な負荷がかかり、かつ高コストとなっているのが現状である。
また、別の方法としてフランジに工夫を施すことやブレードに制振部材をとりつけること等がなされているが、コスト面で不利である。
さらには、機器の設計上、ＡＣ周波数をずらして共振を抑える方法があるが、これでは共振を抑えるのに不十分であり、また、静電的な最適条件と共振抑制のための最適条件との制約から設計負荷が著しく大きく、電源や部材に対し制約が生じてしまう。
また、別の方法としてフランジに工夫を施すことやブレードに制振部材をとりつけること等がなされているが、コスト面で不利である。
さらには、機器の設計上、ＡＣ周波数をずらして共振を抑える方法があるが、これでは共振を抑えるのに不十分であり、また、静電的な最適条件と共振抑制のための最適条件との制約から設計負荷が著しく大きく、電源や部材に対し制約が生じてしまう。
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、振れ精度の低下を抑制しつつ、帯電プロセスにおけるＡＣ成分との共振やクリーニングブレードとの共振を抑制する電子写真感光体及びこれを備える画像形成装置を提供することである。
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、導電性基体の外径中心位置と内径中心位置との距離Ｌを特定範囲内とすることにより、帯電プロセスにおけるＡＣ成分との共振やクリーニングブレードとの共振を抑制する電子写真感光体及びこれを備える画像形成装置を提供できることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
１．導電性基体上に、感光層を有して構成される電子写真感光体であって、
前記導電性基体の外径中心位置と内径中心位置との距離Ｌ（ｍｍ）が、前記導電性基体の外径をＤ（ｍｍ）としたとき、下記式（１）を満たすことを特徴とする電子写真感光体。
０．００１３×Ｄ≦Ｌ≦０．００５０×Ｄ （１）
前記導電性基体の外径中心位置と内径中心位置との距離Ｌ（ｍｍ）が、前記導電性基体の外径をＤ（ｍｍ）としたとき、下記式（１）を満たすことを特徴とする電子写真感光体。
０．００１３×Ｄ≦Ｌ≦０．００５０×Ｄ （１）
２．前記導電性基体の端部に、前記導電性基体の外径中心位置と同心のインローが形成されていることを特徴とする第１項に記載の電子写真感光体。
３．前記導電性基体の平均肉厚が、２ｍｍ以下であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の電子写真感光体。
４．ＡＣ帯電方式による帯電プロセスに供される画像形成装置であって、
第１項から第３項までのいずれか一項に記載の電子写真感光体を備えることを特徴とする画像形成装置。
第１項から第３項までのいずれか一項に記載の電子写真感光体を備えることを特徴とする画像形成装置。
５．前記ＡＣ帯電方式による帯電プロセスにおける周波数が、１〜３ｋＨｚの範囲内であることを特徴とする第４項に記載の画像形成装置。
本発明の上記手段により、振れ精度の低下を抑制しつつ、帯電プロセスにおけるＡＣ成分との共振やクリーニングブレードとの共振を抑制した電子写真感光体及びこれを備える画像形成装置を提供することができる。
本発明の効果の発現機構・作用機構については明確になっていないが、以下のように推察している。
本発明の電子写真感光体は、電子写真感光体を構成する導電性基体重量を周方向に沿って積極的にアンバランス化させて、共振・振動抑制効果を得るものである。
すなわち、導電性基体の外径と内径との同心がとれている円筒ほど、与えられた振動に対して、その振動数が一致した場合に振動幅の狭い急峻な共振となり高い音となるが、アンバランスを与えることで分散させ、共振・振動を抑制させることができるものと考えられる。
すなわち、導電性基体の外径と内径との同心がとれている円筒ほど、与えられた振動に対して、その振動数が一致した場合に振動幅の狭い急峻な共振となり高い音となるが、アンバランスを与えることで分散させ、共振・振動を抑制させることができるものと考えられる。
また、電子写真感光体用の支持体は、表面切削後の寸法精度（特に、振れ精度）を確保するため、偏肉を小さくすることが求められており、現在の技術では量産レベルででも偏肉量０．０５ｍｍ以下で加工するのが一般的であり、また、コストの関係で肉厚は薄くする要請が高い。
本発明においては、偏肉量を大きくし、振れ精度の低下を抑えた条件下で、肉厚を極端に厚くすることなく、共振を抑えることができるものである。
本発明においては、偏肉量を大きくし、振れ精度の低下を抑えた条件下で、肉厚を極端に厚くすることなく、共振を抑えることができるものである。
本発明の電子写真感光体は、導電性基体上に、感光層を有して構成され、導電性基体の外径中心位置と内径中心位置との距離Ｌ（ｍｍ）が、導電性基体の外径をＤ（ｍｍ）としたとき、式（１）を満たすことを特徴とする。この特徴は、各請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
本発明の実施態様としては、導電性基体の外径中心位置と同心のインローが形成されていることが好ましい。
また、本発明の導電性基体は、十分な共振抑制効果を発揮することができることから、その平均肉厚を２ｍｍ以下とすることができ、製造コストを抑えることができる。
本発明の電子写真感光体は、ＡＣ帯電方式による帯電プロセスに供される画像形成装置に適用することができる。
ＡＣ帯電方式による帯電プロセスの周波数は、帯電安定性及び減耗量を抑える観点から、１〜３ｋＨｚの範囲内であることが好ましい。
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、数値範囲を表す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用している。
《電子写真感光体》
図１に示すとおり、本発明の電子写真感光体１０は、ドラム状（円筒状）の導電性基体１と、当該導電性基体１の外周面に沿って形成された感光層２とを有して構成されている。
感光層２は、電荷発生層２ａ及び電荷輸送層２ｂから構成されていてもよいし、電荷発生物質及び電荷輸送物質を含む単層として構成されていてもよいが、電荷発生層２ａ及び電荷輸送層２ｂの２層構造を有していることが好ましい。
図１に示すとおり、本発明の電子写真感光体１０は、ドラム状（円筒状）の導電性基体１と、当該導電性基体１の外周面に沿って形成された感光層２とを有して構成されている。
感光層２は、電荷発生層２ａ及び電荷輸送層２ｂから構成されていてもよいし、電荷発生物質及び電荷輸送物質を含む単層として構成されていてもよいが、電荷発生層２ａ及び電荷輸送層２ｂの２層構造を有していることが好ましい。
また、本発明の電子写真感光体１０は、図２に示すとおり、後述する下引き層３、表面保護層４等を有していてもよい。
〈導電性基体（１）〉
（導電性基体の構成）
本発明に係る導電性基体は、外径中心位置と内径中心位置との距離Ｌ（ｍｍ）が、導電性基体の外径をＤ（ｍｍ）としたとき、下記式（１）を満たすことを特徴とする。
（導電性基体の構成）
本発明に係る導電性基体は、外径中心位置と内径中心位置との距離Ｌ（ｍｍ）が、導電性基体の外径をＤ（ｍｍ）としたとき、下記式（１）を満たすことを特徴とする。
０．００１３×Ｄ≦Ｌ≦０．００５０×Ｄ （１）
外径中心位置と内径中心位置との距離Ｌ（ｍｍ）が０．００１３×Ｄ（ｍｍ）より小さいと共振抑制効果が得られず、０．００５０×Ｄ（ｍｍ）より大きいと振れ精度が顕著に悪くなってしまう。
外径中心位置と内径中心位置との距離Ｌ（ｍｍ）は、下記式（２）を満たすことがより好ましい。
０．００１５×Ｄ≦Ｌ≦０．００４０×Ｄ （２）
外径中心位置と内径中心位置との距離Ｌ（ｍｍ）が上記範囲内であれば、共振抑制効果を十分に得ることができ、振れ精度を良好にすることができる。
以下、図面を用いて詳細に説明する。
図３に示すとおり、本発明に係る導電性基体１は、ドラム状（円筒状）で、その軸方向両端部に開口部１１を有している。導電性基体１の軸方向両端部の内周面には、インロー加工部１２が形成されている。インロー加工部１２は、電子写真感光体１０にフランジ（図示略）を取り付ける際に、フランジを嵌める部分である。
本発明に係る導電性基体１において、軸方向両端部（インロー加工部１２）の肉厚Ｗ１は、周面に沿って均一となっているが、インロー加工部１２を除く部分の肉厚Ｗ２は、周面に沿って不均一となっている。すなわち、外径中心位置Ｄ１と内径中心位置Ｄ２とがずれるようにして構成されている。この外径中心位置Ｄ１と内径中心位置Ｄ２との「ずれ」（距離Ｌ）が、上記式（１）、好ましくは上記式（２）を満たすことにより、共振抑制効果を得ることができるものである。
本発明に係る導電性基体１において、軸方向両端部（インロー加工部１２）の肉厚Ｗ１は、周面に沿って均一となっているが、インロー加工部１２を除く部分の肉厚Ｗ２は、周面に沿って不均一となっている。すなわち、外径中心位置Ｄ１と内径中心位置Ｄ２とがずれるようにして構成されている。この外径中心位置Ｄ１と内径中心位置Ｄ２との「ずれ」（距離Ｌ）が、上記式（１）、好ましくは上記式（２）を満たすことにより、共振抑制効果を得ることができるものである。
なお、上記導電性基体１では、インロー加工部１２が形成されている場合について説明したが、インロー加工部１２は必ずしも必要ではなく、外径中心位置Ｄ１と内径中心位置Ｄ２との距離Ｌが上記式（１）（好ましくは上記式（２））を満たすように構成されていればよい。
この場合、導電性基体１は、例えば、後述の画像形成装置に電子写真感光体として適用される際には、電子写真感光体の外径にフランジを嵌合させることによって使用される。
この場合、導電性基体１は、例えば、後述の画像形成装置に電子写真感光体として適用される際には、電子写真感光体の外径にフランジを嵌合させることによって使用される。
導電性基体の外径は、２０〜１２０ｍｍの範囲内であることが好ましく、２４〜１００ｍｍの範囲内であることが好ましい。導電性基体は、外径が１２０ｍｍ以下となることで質量が小さくなり共振が発生しやすくなることから、本発明の構成とすることで共振抑制効果をより効果的に得ることができる。導電性基体の外径は、実用面から２４ｍｍ以上であることが好ましい。
導電性基体のインロー加工部を除く部分の平均肉厚は、２ｍｍ以下であることが好ましく、１．５ｍｍ以下であることがより好ましい。導電性基体の平均肉厚を２ｍｍ以下と薄肉として共振が発生しやすくなっても、共振抑制効果を得ることができる。
インロー加工部の直径（インロー径）は、（Ｄ−１．４）〜（Ｄ−２．５）ｍｍの範囲内であることが好ましく、（Ｄ−１．５）〜（Ｄ−２．２）ｍｍの範囲内であることがより好ましい。
導電性基体の振れ精度（寸法精度）は、０．０５ｍｍ以下であることが好ましく、０．０３ｍｍ以下であることがより好ましい。
導電性基体の長さは、２２０〜５００ｍｍの範囲内であることが好ましい。
導電性基体の表面粗さＲｔは、好ましくは０．６μｍ以上であり、より好ましくは０．９〜１．１μｍの範囲内である。「表面粗さＲｔ」とは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１に準拠するパラメーターであって、ＪＩＳ規格による粗さ曲線の最大断面高さである。
導電性基体の材料としては、電気伝導率、加工性、製造コストの点から、アルミニウム又はアルミニウム合金が用いられ、中でも、ＪＩＳ Ａ １０００系、３０００系（Ａｌ−Ｍｎ系合金）、５０００系（Ａｌ−Ｍｇ系合金）又は６０００系（Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金）が好ましい。
（導電性基体の作製方法）
以下、インロー加工部が形成されている導電性基体の作製（加工）方法について、原管の偏肉量が小さい場合と大きい場合とに分けて、図面を用いて説明する。
以下、インロー加工部が形成されている導電性基体の作製（加工）方法について、原管の偏肉量が小さい場合と大きい場合とに分けて、図面を用いて説明する。
（１）原管の偏肉量が小さい場合
まず、偏肉量が小さい、加工するドラム原管１３（図４（ａ）参照。）を固定する。この原管１３の端面に対し、回転刃物をあてて端面加工を行う。
次いで、原管１３の端部内周面側に、インロー加工を施す。インロー加工は、その加工中心位置Ｄ３を内径中心位置Ｄ２から距離Ｌだけずらして行う。なお、インロー加工は、上記端面加工と同時に行ってもよい。このようにして、インロー加工された端面加工管１４を得ることができる（図４（ｂ）参照。）。
次いで、端面加工管１４を旋盤にセットし、インロー加工部１２をチャックして端面加工管１４を回転させる。この端面加工管１４の外周面に、外周面粗加工用バイト（刃物）をあて、端面加工管１４の長手方向に移動させることにより、表面切削を行う。続けて、外周面粗加工と同様に、外周面仕上げ加工用バイト（刃物）を端面加工管１４の外周面にあて、端面加工管１４の長手方向に移動させることにより、外周面仕上げ加工を行う。表面切削は、加工中心位置Ｄ３を基準にして行う。すなわち、加工中心位置Ｄ３が、外径中心位置Ｄ１となる（図４（ｃ）参照。）。
以上のようにして、外径中心位置Ｄ１と内径中心位置Ｄ２とは距離Ｌだけずれた導電性基体１を得ることができる。
上記の一連の加工は、複数の旋盤で実施してもよいし、一台の旋盤で実施してもよい。
まず、偏肉量が小さい、加工するドラム原管１３（図４（ａ）参照。）を固定する。この原管１３の端面に対し、回転刃物をあてて端面加工を行う。
次いで、原管１３の端部内周面側に、インロー加工を施す。インロー加工は、その加工中心位置Ｄ３を内径中心位置Ｄ２から距離Ｌだけずらして行う。なお、インロー加工は、上記端面加工と同時に行ってもよい。このようにして、インロー加工された端面加工管１４を得ることができる（図４（ｂ）参照。）。
次いで、端面加工管１４を旋盤にセットし、インロー加工部１２をチャックして端面加工管１４を回転させる。この端面加工管１４の外周面に、外周面粗加工用バイト（刃物）をあて、端面加工管１４の長手方向に移動させることにより、表面切削を行う。続けて、外周面粗加工と同様に、外周面仕上げ加工用バイト（刃物）を端面加工管１４の外周面にあて、端面加工管１４の長手方向に移動させることにより、外周面仕上げ加工を行う。表面切削は、加工中心位置Ｄ３を基準にして行う。すなわち、加工中心位置Ｄ３が、外径中心位置Ｄ１となる（図４（ｃ）参照。）。
以上のようにして、外径中心位置Ｄ１と内径中心位置Ｄ２とは距離Ｌだけずれた導電性基体１を得ることができる。
上記の一連の加工は、複数の旋盤で実施してもよいし、一台の旋盤で実施してもよい。
（２）原管の偏肉量が大きい場合
まず、偏肉量が大きいドラム原管１５（図５（ａ）参照。）を旋盤にセットし、原管１５の外径をチャックして回転させ、原管１５の端面に刃物をあて端面加工を行う。
次いで、原管１５の端部内周面側に、インロー加工を施す。インロー加工は、原管１５の外径中心位置Ｄ４を基準にして行う。なお、インロー加工は、上記端面加工と同時に行ってもよい。このようにして、インロー加工された端面加工管１６を得ることができる（図５（ｂ）参照。）。
次いで、端面加工管１６のインロー加工部１２をチャックして端面加工管１６を回転させる。この端面加工管１６の外周面に、外周面粗加工用バイト（刃物）をあて、端面加工管１６の長手方向に移動させることにより、表面切削を行う。続けて、外周面粗加工と同様に、外周面仕上げ加工用バイト（刃物）を端面加工管１６の外周面にあて、端面加工管１６の長手方向に移動させることにより、外周面仕上げ加工を行う。表面切削は、原管１５の外径中心位置Ｄ４を基準にして行う。すなわち、原管１５の外径中心位置Ｄ４が、導電性基体１の外径中心位置Ｄ１となる（図５（ｃ）参照。）。
まず、偏肉量が大きいドラム原管１５（図５（ａ）参照。）を旋盤にセットし、原管１５の外径をチャックして回転させ、原管１５の端面に刃物をあて端面加工を行う。
次いで、原管１５の端部内周面側に、インロー加工を施す。インロー加工は、原管１５の外径中心位置Ｄ４を基準にして行う。なお、インロー加工は、上記端面加工と同時に行ってもよい。このようにして、インロー加工された端面加工管１６を得ることができる（図５（ｂ）参照。）。
次いで、端面加工管１６のインロー加工部１２をチャックして端面加工管１６を回転させる。この端面加工管１６の外周面に、外周面粗加工用バイト（刃物）をあて、端面加工管１６の長手方向に移動させることにより、表面切削を行う。続けて、外周面粗加工と同様に、外周面仕上げ加工用バイト（刃物）を端面加工管１６の外周面にあて、端面加工管１６の長手方向に移動させることにより、外周面仕上げ加工を行う。表面切削は、原管１５の外径中心位置Ｄ４を基準にして行う。すなわち、原管１５の外径中心位置Ｄ４が、導電性基体１の外径中心位置Ｄ１となる（図５（ｃ）参照。）。
なお、以上の加工方法では、導電性基体１の外径中心位置Ｄ１と内径中心位置Ｄ２との距離Ｌが、加工前の原管１５の外径中心位置Ｄ４と内径中心位置Ｄ２との距離が、上記式（１）を満たしておく必要があるが、上記式（１）を満たしていない場合であっても、上記加工方法（１）でも示したように、原管１５を固定して、上記式（１）を満たすような加工中心位置を基準にしてインロー加工を行えばよい。
〈感光層（２）〉
上述したように、感光層は、感光層の機能（電荷発生機能及び電荷輸送機能）を、電荷発生層と電荷輸送層とに分離させた層構成のものがより好ましい。機能分離型の層構成によれば、繰り返し使用にともなう残留電位の上昇を小さく制御できる他、各種の電子写真特性を目的に合わせて制御しやすいメリットがある。
負帯電性感光体では、下引き層の上に電荷発生層、その上に電荷輸送層を設ける構成をとる。正帯電性感光体では、下引き層の上に電荷輸送層、その上に電荷発生層を設ける構成をとる。
感光層の好ましい態様は、機能分離構造を有する負帯電性感光体である。
ここでは、感光層の具体例として、機能分離型の負帯電性感光体の感光層の各層について説明する。
上述したように、感光層は、感光層の機能（電荷発生機能及び電荷輸送機能）を、電荷発生層と電荷輸送層とに分離させた層構成のものがより好ましい。機能分離型の層構成によれば、繰り返し使用にともなう残留電位の上昇を小さく制御できる他、各種の電子写真特性を目的に合わせて制御しやすいメリットがある。
負帯電性感光体では、下引き層の上に電荷発生層、その上に電荷輸送層を設ける構成をとる。正帯電性感光体では、下引き層の上に電荷輸送層、その上に電荷発生層を設ける構成をとる。
感光層の好ましい態様は、機能分離構造を有する負帯電性感光体である。
ここでは、感光層の具体例として、機能分離型の負帯電性感光体の感光層の各層について説明する。
（電荷発生層（２ａ））
電荷発生層は、電荷発生物質（ＣＧＭ）とバインダー樹脂とを含有するものであり、電荷発生物質をバインダー樹脂溶液中に分散させた塗布液を用いて、浸漬塗布方式により形成される。
電荷発生層は、電荷発生物質（ＣＧＭ）とバインダー樹脂とを含有するものであり、電荷発生物質をバインダー樹脂溶液中に分散させた塗布液を用いて、浸漬塗布方式により形成される。
電荷発生物質としては、スーダンレッドやダイアンブルーなどのアゾ原料、ピレンキノンやアントアントロンなどのキノン顔料、キノシアニン顔料、ペリレン顔料、インジゴ及びチオインジゴなどのインジゴ顔料や、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン及びチタニルフタロシアニンなどのフタロシアニン顔料などが挙げられる。これらの中でも７００ｎｍ以上に感度を有するフタロシアニン系顔料が好ましく、中でもチタニルフタロシアニン系顔料、特にＹ−チタニルフタロシアニン（Ｃｕ−Ｋα特性Ｘ線回折スペクトル測定で、少なくとも２７．３°の位置に最大回折ピークを有するチタニルフタロシアニン顔料で、７８０ｎｍに非常に大きな吸収を有する。Ｙ−ＴｉＰｈと記載する。）を含有することが好ましいが、電荷発生物質はこれらに限定されるものではない。
これらの電荷発生物質は、単独又は公知のバインダー樹脂中に分散させる形態で使用することができる。
電荷発生層を形成するバインダー樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、及びこれらの樹脂のうち二つ以上を含む共重合体樹脂（例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂）、ポリ−ビニルカルバゾール樹脂などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
電荷発生層を形成する場合は、バインダー樹脂を溶媒で溶解した溶液中に分散機を用いて電荷発生物質を分散させて塗布液を調製し、塗布液を浸漬塗布方式で一定の層厚に塗布し、塗布膜を乾燥させるのが好ましい。
電荷発生層に使用するバインダー樹脂を溶解し塗布するための溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、ピリジン、ジエチルアミンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
電荷発生物質の分散手段としては、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダー、ホモミキサーなどが使用できるが、これらに限定されるものではない。
バインダー樹脂に対する電荷発生物質の混合割合は、バインダー樹脂１００質量部に対して、電荷発生物質１〜６００質量部の範囲内が好ましく、５０〜５００質量部の範囲内がより好ましい。
電荷発生層の層厚は、電荷発生物質の特性、バインダー樹脂の特性、混合割合などにより異なるが、０．０１〜５μｍの範囲内が好ましく、０．０５〜３μｍの範囲内がより好ましい。
なお、電荷発生層用の塗布液は塗布前に異物や凝集物を濾過することで画像欠陥の発生を防ぐことができる。
電荷発生層の層厚は、電荷発生物質の特性、バインダー樹脂の特性、混合割合などにより異なるが、０．０１〜５μｍの範囲内が好ましく、０．０５〜３μｍの範囲内がより好ましい。
なお、電荷発生層用の塗布液は塗布前に異物や凝集物を濾過することで画像欠陥の発生を防ぐことができる。
（電荷輸送層（２ｂ））
電荷輸送層は、電荷輸送物質（ＣＴＭ）とバインダー樹脂とを含有するものであり、電荷輸送物質をバインダー樹脂溶液中に溶解させた塗布液を用いて、浸漬塗布方式により形成される。
電荷輸送層は、電荷輸送物質（ＣＴＭ）とバインダー樹脂とを含有するものであり、電荷輸送物質をバインダー樹脂溶液中に溶解させた塗布液を用いて、浸漬塗布方式により形成される。
電荷輸送物質としては、公知の化合物を用いることが可能で、例えば、カルバゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリ−１−ビニルピレン、ポリ−９−ビニルアントラセンなどが挙げられる。これらの化合物を単独又は２種類以上混合して使用することができる。
電荷輸送層用のバインダー樹脂としては、公知の樹脂を用いることが可能で、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリルニトリル共重合体樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体樹脂などが挙げられる。これらの中でもポリカーボネート樹脂が好ましく、更に、ビスフェノールＡ（ＢＰＡ）、ビスフェノールＺ（ＢＰＺ）、ジメチルＢＰＡタイプのポリカーボネート樹脂、ＢＰＡ−ジメチルＢＰＡ共重合体などのタイプのポリカーボネート樹脂が耐クラック性、耐摩耗性、帯電特性の観点から好ましいものである。
電荷輸送層を形成する場合は、バインダー樹脂と電荷輸送物質とを溶媒に溶解させて塗布液を調製し、塗布液を浸漬塗布方式で一定の層厚に塗布し、塗布膜を乾燥させるのが好ましい。
上記バインダー樹脂と電荷輸送物質を溶解する溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソランなどが挙げられる。
なお、電荷輸送層用の塗布液を調製するのに使用する溶媒としては、上記のものに限定されるものではない。
なお、電荷輸送層用の塗布液を調製するのに使用する溶媒としては、上記のものに限定されるものではない。
バインダー樹脂と電荷輸送物質との混合比率は、バインダー樹脂１００質量部に対して、電荷輸送物質を１０〜５００質量部の範囲内とすることが好ましく、２０〜１００質量部の範囲内とすることがより好ましい。
電荷輸送層の厚さは、電荷輸送物質やバインダー樹脂の特性、これらの混合比などにより異なるが、５〜４０μｍの範囲内が好ましく、１０〜３０μｍの範囲内がより好ましい。
電荷輸送層中には、公知の酸化防止剤を添加することが可能で、例えば、特開２０００−３０５２９１号公報記載の酸化防止剤が使用できる。
〈下引き層（３）〉
本発明の電子写真感光体は、導電性基体と感光層との間に下引き層を有していてもよい。下引き層は、バリア機能及び接着機能を有している。
下引き層は、カゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリウレタン、ゼラチンなどのバインダー樹脂を公知の溶媒に溶解させて浸漬塗布方式により形成される。バインダー樹脂としては、アルコール可溶性のポリアミド樹脂を使用するのが好ましい。
本発明の電子写真感光体は、導電性基体と感光層との間に下引き層を有していてもよい。下引き層は、バリア機能及び接着機能を有している。
下引き層は、カゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリウレタン、ゼラチンなどのバインダー樹脂を公知の溶媒に溶解させて浸漬塗布方式により形成される。バインダー樹脂としては、アルコール可溶性のポリアミド樹脂を使用するのが好ましい。
下引き層には、抵抗調整の目的で、金属酸化物が含有させることもできる。同様に、下引き層には、抵抗調整の目的で、各種導電性微粒子などの無機微粒子が含有されてもよい。金属酸化物としては、例えば、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマスなどが挙げられる。スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ及び酸化ジルコニウムなどの超微粒子も用いることができる。
これら金属酸化物は、１種類で使用されてもよいし、２種類以上が混合され使用されてもよい。２種類以上が混合され使用される場合には、固溶体又は融着の形態をとってもよい。このような金属酸化物は、微粒子の状態で下引き層に含有されることが好ましく、その場合、個数平均一次粒径が０．３μｍ以下のものが好ましく、０．１μｍ以下のものがより好ましい。
当該金属酸化物の個数平均一次粒径の測定方法は、表面保護層に含有される金属酸化物微粒子のそれと同様である（後述参照。）。
これら金属酸化物は、１種類で使用されてもよいし、２種類以上が混合され使用されてもよい。２種類以上が混合され使用される場合には、固溶体又は融着の形態をとってもよい。このような金属酸化物は、微粒子の状態で下引き層に含有されることが好ましく、その場合、個数平均一次粒径が０．３μｍ以下のものが好ましく、０．１μｍ以下のものがより好ましい。
当該金属酸化物の個数平均一次粒径の測定方法は、表面保護層に含有される金属酸化物微粒子のそれと同様である（後述参照。）。
下引き層の形成に使用可能な溶媒としては、前述した導電性微粒子や金属酸化物などの無機微粒子を良好に分散させ、ポリアミド樹脂をはじめとするバインダー樹脂を溶解するものが好ましい。
具体的には、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノールなどの炭素数２〜４のアルコール類が挙げられる。これらアルコール類は、バインダー樹脂として公的なポリアミド樹脂に対し良好な溶解性と塗布性能を発現させることから好ましい。
かかる溶媒には、保存性や無機微粒子の分散性を向上させるために、以下のような助溶剤を併用することができる。好ましい効果が得られる助溶媒としては、例えば、メタノール、ベンジルアルコール、トルエン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフランなどが挙げられる。
具体的には、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノールなどの炭素数２〜４のアルコール類が挙げられる。これらアルコール類は、バインダー樹脂として公的なポリアミド樹脂に対し良好な溶解性と塗布性能を発現させることから好ましい。
かかる溶媒には、保存性や無機微粒子の分散性を向上させるために、以下のような助溶剤を併用することができる。好ましい効果が得られる助溶媒としては、例えば、メタノール、ベンジルアルコール、トルエン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフランなどが挙げられる。
塗布液形成時のバインダー樹脂濃度は、下引き層の厚さなどに合わせて適宜選択することができる。
無機微粒子などを分散させるとき、バインダー樹脂に対する無機微粒子の混合割合は、バインダー樹脂１００質量部に対して、無機微粒子を２０〜４００質量部の範囲内とすることが好ましく、５０〜２００質量部の範囲内とすることがより好ましい。
無機微粒子の分散手段は、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダー、ホモミキサーなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
下引き層の乾燥方法は、溶媒の種類や形成する厚さに応じて公知の乾燥方法を適宜選択することができ、特に熱乾燥が好ましい。
下引き層の厚さは、好ましくは１〜３０μｍの範囲内であり、より好ましくは０．１〜１５μｍの範囲内であり、更に好ましくは０．３〜１０μｍの範囲内である。
無機微粒子などを分散させるとき、バインダー樹脂に対する無機微粒子の混合割合は、バインダー樹脂１００質量部に対して、無機微粒子を２０〜４００質量部の範囲内とすることが好ましく、５０〜２００質量部の範囲内とすることがより好ましい。
無機微粒子の分散手段は、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダー、ホモミキサーなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
下引き層の乾燥方法は、溶媒の種類や形成する厚さに応じて公知の乾燥方法を適宜選択することができ、特に熱乾燥が好ましい。
下引き層の厚さは、好ましくは１〜３０μｍの範囲内であり、より好ましくは０．１〜１５μｍの範囲内であり、更に好ましくは０．３〜１０μｍの範囲内である。
〈表面保護層（４）〉
表面保護層は、少なくとも架橋性の重合性化合物を重合して得られた樹脂と金属酸化物微粒子とで構成されている。
表面保護層は、少なくとも架橋性の重合性化合物を重合して得られた樹脂と金属酸化物微粒子とで構成されている。
表面保護層は、架橋性の重合性化合物を重合して得られた樹脂をバインダー樹脂として含有する。表面保護層では、架橋性の重合性化合物を重合して得られた樹脂の他に、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂などの公知の樹脂を併用して用いることができる。
（１）架橋性の重合性化合物
表面保護層に使用可能な架橋性の重合性化合物としては、ラジカル重合性反応基を二つ以上有するラジカル重合性の化合物が挙げられ、ラジカル重合性化合物としては、ラジカル重合性反応基として、アクリロイル基又はメタクリロイル基の少なくともいずれかを有するラジカル重合性単量体が好ましい。
表面保護層に使用可能な架橋性の重合性化合物としては、ラジカル重合性反応基を二つ以上有するラジカル重合性の化合物が挙げられ、ラジカル重合性化合物としては、ラジカル重合性反応基として、アクリロイル基又はメタクリロイル基の少なくともいずれかを有するラジカル重合性単量体が好ましい。
これらのラジカル重合性単量体としては、例えば以下の化合物を例示することができるが、ラジカル重合性単量体はこれらに限定されるものではない。
上記のラジカル重合性単量体は公知であり、市販品として入手できる。
ここで、Ｒは下記アクリロイル基、Ｒ′は下記メタクリロイル基を表す。
ここで、Ｒは下記アクリロイル基、Ｒ′は下記メタクリロイル基を表す。
（２）金属酸化物微粒子
表面保護層には、金属酸化物微粒子５（図１参照）が含有される。
金属酸化物微粒子としては、酸化スズ微粒子、酸化亜鉛微粒子、酸化チタン微粒子及び酸化アルミニウム微粒子が好ましい。
金属酸化物微粒子の個数平均一次粒径は、１〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは３〜１００ｎｍの範囲内である。
表面保護層には、金属酸化物微粒子５（図１参照）が含有される。
金属酸化物微粒子としては、酸化スズ微粒子、酸化亜鉛微粒子、酸化チタン微粒子及び酸化アルミニウム微粒子が好ましい。
金属酸化物微粒子の個数平均一次粒径は、１〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは３〜１００ｎｍの範囲内である。
（２．１）金属酸化物微粒子の個数平均一次粒径の測定法
金属酸化物微粒子の個数平均一次粒径は、走査型電子顕微鏡「ＪＳＭ−７４０１Ｆ」（日本電子（株）製）により１００００倍の拡大写真を撮影し、ランダムに３００個の粒子をスキャナーにより取り込んだ写真画像（凝集粒子は除く）を自動画像処理解析装置「ルーゼックス ＡＰ（ＬＵＺＥＸ（登録商標）ＡＰ）」（（株）ニレコ製）ソフトウエアＶｅｒ．１．３２を使用して、２値化処理し、それぞれ水平方向フェレ径を算出、その平均値を個数平均一次粒径として算出する。
水平方向フェレ径とは、金属酸化物微粒子の画像を２値化処理したときの外接長方形の、ｘ軸に平行な辺の長さをいう。
金属酸化物微粒子の個数平均一次粒径は、走査型電子顕微鏡「ＪＳＭ−７４０１Ｆ」（日本電子（株）製）により１００００倍の拡大写真を撮影し、ランダムに３００個の粒子をスキャナーにより取り込んだ写真画像（凝集粒子は除く）を自動画像処理解析装置「ルーゼックス ＡＰ（ＬＵＺＥＸ（登録商標）ＡＰ）」（（株）ニレコ製）ソフトウエアＶｅｒ．１．３２を使用して、２値化処理し、それぞれ水平方向フェレ径を算出、その平均値を個数平均一次粒径として算出する。
水平方向フェレ径とは、金属酸化物微粒子の画像を２値化処理したときの外接長方形の、ｘ軸に平行な辺の長さをいう。
（２．２）金属酸化物微粒子の表面修飾
表面保護層に含有される金属酸化物微粒子は、カップリング剤で修飾されたものであることが好ましく、更に反応性有機基を有するカップリング剤で表面修飾されたものがより好ましい。
表面保護層に含有される金属酸化物微粒子は、カップリング剤で修飾されたものであることが好ましく、更に反応性有機基を有するカップリング剤で表面修飾されたものがより好ましい。
（２．２．１）カップリング剤
金属酸化物微粒子を表面修飾するカップリング剤としては、金属酸化物微粒子の表面に存在するヒドロキシ基などと反応するカップリング剤が好ましく、これらのカップリング剤としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤などが挙げられる。
カップリング剤としては、表面保護層の硬度を更に高くする目的で、反応性有機基を有するカップリング剤が好ましく、反応性有機基を有するカップリング剤としては、ラジカル重合性反応基を有するカップリング剤が好ましい。これらのラジカル重合性反応基は、架橋性の重合性化合物とも反応して強固な保護膜を形成することができる。
ラジカル重合性反応基を有するカップリング剤としては、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などのラジカル重合性反応基を有するシランカップリング剤が好ましく、このようなラジカル重合性反応基を有するシランカップリング剤の例としては、下記のような公知の化合物を挙げることができる。
金属酸化物微粒子を表面修飾するカップリング剤としては、金属酸化物微粒子の表面に存在するヒドロキシ基などと反応するカップリング剤が好ましく、これらのカップリング剤としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤などが挙げられる。
カップリング剤としては、表面保護層の硬度を更に高くする目的で、反応性有機基を有するカップリング剤が好ましく、反応性有機基を有するカップリング剤としては、ラジカル重合性反応基を有するカップリング剤が好ましい。これらのラジカル重合性反応基は、架橋性の重合性化合物とも反応して強固な保護膜を形成することができる。
ラジカル重合性反応基を有するカップリング剤としては、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などのラジカル重合性反応基を有するシランカップリング剤が好ましく、このようなラジカル重合性反応基を有するシランカップリング剤の例としては、下記のような公知の化合物を挙げることができる。
Ｓ−１：ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−２：ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−３：ＣＨ２＝ＣＨＳｉＣｌ３
Ｓ−４：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−５：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−６：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−７：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−８：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−９：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
Ｓ−１０：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−１１：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３
Ｓ−１２：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−１３：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−１４：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−１５：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−１６：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−１７：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
Ｓ−１８：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−１９：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３
Ｓ−２０：ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（Ｃ２Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−２１：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２２：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−２３：ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２４：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−２５：ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−２６：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２７：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−２８：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２９：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−３０：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−３１：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＯＣＨ３）
Ｓ−３２：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＯＣＨ３）２
Ｓ−３３：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＮＨＣＨ３）２
Ｓ−３４：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣ６Ｈ５）２
Ｓ−３５：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（Ｃ１０Ｈ２１）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−３６：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ２Ｃ６Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−２：ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−３：ＣＨ２＝ＣＨＳｉＣｌ３
Ｓ−４：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−５：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−６：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−７：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−８：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−９：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
Ｓ−１０：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−１１：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３
Ｓ−１２：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−１３：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−１４：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−１５：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−１６：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−１７：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
Ｓ−１８：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−１９：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３
Ｓ−２０：ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（Ｃ２Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−２１：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２２：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−２３：ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２４：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−２５：ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ−２６：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２７：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−２８：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ−２９：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−３０：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ−３１：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＯＣＨ３）
Ｓ−３２：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＯＣＨ３）２
Ｓ−３３：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＮＨＣＨ３）２
Ｓ−３４：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣ６Ｈ５）２
Ｓ−３５：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（Ｃ１０Ｈ２１）（ＯＣＨ３）２
Ｓ−３６：ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ２Ｃ６Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
シランカップリング剤としては、上記Ｓ−１〜Ｓ−３６以外でも、ラジカル重合可能な反応性有機基を有するシラン化合物を用いてもよい。これらのシランカップリング剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
（２．２．２）金属酸化物微粒子の表面修飾方法
表面修飾するに際して、金属酸化物微粒子１００質量部に対し、カップリング剤０．１〜１００質量部、溶媒５０〜５０００質量部を用いて湿式メディア分散型装置を使用して表面修飾することが好ましい。乾式でも表面修飾することができる。
表面修飾するに際して、金属酸化物微粒子１００質量部に対し、カップリング剤０．１〜１００質量部、溶媒５０〜５０００質量部を用いて湿式メディア分散型装置を使用して表面修飾することが好ましい。乾式でも表面修飾することができる。
以下、均一にカップリング剤で表面修飾された金属酸化物微粒子を製造する表面修飾方法について説明する。
金属酸化物微粒子とカップリング剤とを含むスラリー（固体粒子の懸濁液）を湿式粉砕することにより、金属酸化物微粒子を微細化すると同時に微粒子の表面修飾が進行する。その後、溶媒を除去して粉体化することで、均一にカップリング剤により表面修飾された金属酸化物微粒子を得ることができる。
表面修飾装置である湿式メディア分散型装置とは、容器内にメディアとしてビーズを充填し、更に回転軸と垂直に取り付けられた撹拌ディスクを高速回転させることにより、金属酸化物微粒子の凝集粒子を砕いて粉砕・分散する工程を有する装置である。
分散型装置の構成としては、金属酸化物微粒子に表面修飾を行う際に金属酸化物微粒子を十分に分散させかつ表面修飾できる形式であれば問題なく、例えば、縦型・横型、連続式・回分式など、種々の様式が採用できる。具体的には、サンドミル、ウルトラビスコミル、パールミル、グレンミル、ダイノミル、アジテータミル、ダイナミックミルなどが使用できる。これらの分散型装置では、ボール、又はビーズなどの粉砕媒体（メディア）を使用して衝撃圧壊、摩擦、剪断、ズリ応力などにより微粉砕及び分散が行われる。
分散型装置の構成としては、金属酸化物微粒子に表面修飾を行う際に金属酸化物微粒子を十分に分散させかつ表面修飾できる形式であれば問題なく、例えば、縦型・横型、連続式・回分式など、種々の様式が採用できる。具体的には、サンドミル、ウルトラビスコミル、パールミル、グレンミル、ダイノミル、アジテータミル、ダイナミックミルなどが使用できる。これらの分散型装置では、ボール、又はビーズなどの粉砕媒体（メディア）を使用して衝撃圧壊、摩擦、剪断、ズリ応力などにより微粉砕及び分散が行われる。
上記湿式メディア分散型装置で用いるビーズとしては、ガラス、アルミナ、ジルコン、ジルコニア、スチール、フリント石などを原材料としたボールが使用可能であるが、特にジルコニア製やジルコン製のものが好ましい。
ビーズの大きさとしては、通常、直径１〜２ｍｍ程度のものを使用しうるが、０．１〜１．０ｍｍ程度のものを用いるのが好ましい。
ビーズの大きさとしては、通常、直径１〜２ｍｍ程度のものを使用しうるが、０．１〜１．０ｍｍ程度のものを用いるのが好ましい。
湿式メディア分散型装置に使用するディスクや容器内壁には、ステンレス製、ナイロン製、セラミック製など種々の素材のものが使用できるが、特にジルコニア又はシリコンカーバイドといったセラミック製のディスクや容器内壁を使用するのが好ましい。
以上のような湿式処理により、カップリング剤によって表面修飾された金属酸化物微粒子を得ることができる。
上述した表面修飾金属酸化物微粒子は、架橋性の重合性化合物１００質量部に対して、３０〜２５０質量部の範囲内で含有されることが、表面保護層の耐摩耗性向上の観点から好ましい。
上述した表面修飾金属酸化物微粒子は、架橋性の重合性化合物１００質量部に対して、３０〜２５０質量部の範囲内で含有されることが、表面保護層の耐摩耗性向上の観点から好ましい。
（３）表面保護層の形成
表面保護層は、溶媒に架橋性の重合性化合物、表面修飾金属酸化物微粒子、必要に応じて、その他の樹脂、重合開始剤、滑剤粒子、酸化防止剤などを添加して調製した塗布液が、浸漬塗布方式により塗布され、その後、塗布膜に対し自然乾燥又は熱乾燥が行われ硬化処理され（重合反応させ）形成される。
表面保護層の厚さは、０．２〜１０μｍの範囲内が好ましく、０．５〜６μｍの範囲内がより好ましい。
表面保護層は、溶媒に架橋性の重合性化合物、表面修飾金属酸化物微粒子、必要に応じて、その他の樹脂、重合開始剤、滑剤粒子、酸化防止剤などを添加して調製した塗布液が、浸漬塗布方式により塗布され、その後、塗布膜に対し自然乾燥又は熱乾燥が行われ硬化処理され（重合反応させ）形成される。
表面保護層の厚さは、０．２〜１０μｍの範囲内が好ましく、０．５〜６μｍの範囲内がより好ましい。
（３．１）溶媒
表面保護層の形成に使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−２−プロパノール、ベンジルアルコール、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、酢酸エチル、酢酸ブチル、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、ピリジン、ジエチルアミンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
表面保護層の形成に使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−２−プロパノール、ベンジルアルコール、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、酢酸エチル、酢酸ブチル、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、ピリジン、ジエチルアミンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
（３．２）重合開始剤
表面保護層に使用可能な架橋性の重合性化合物を重合反応させる方法としては、電子線開裂反応を利用する方法やラジカル重合開始剤の存在下で光や熱を利用する方法などにより重合反応を行うことができる。
ラジカル重合開始剤を用いて重合反応を行う場合、重合開始剤として光重合開始剤、熱重合開始剤のいずれも使用することができる。また、光、熱の両方の開始剤を併用することもできる。
表面保護層に使用可能な架橋性の重合性化合物を重合反応させる方法としては、電子線開裂反応を利用する方法やラジカル重合開始剤の存在下で光や熱を利用する方法などにより重合反応を行うことができる。
ラジカル重合開始剤を用いて重合反応を行う場合、重合開始剤として光重合開始剤、熱重合開始剤のいずれも使用することができる。また、光、熱の両方の開始剤を併用することもできる。
熱重合開始剤としては、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルアゾビスバレロニリル）、２，２′−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）などのアゾ化合物、過酸化ベンゾイル（ＢＰＯ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、過酸化クロロベンゾイル、過酸化ジクロロベンゾイル、過酸化ブロモメチルベンゾイル、過酸化ラウロイルなどの過酸化物などの熱重合開始剤が挙げられる。
光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン−１（イルガキュア３６９：ＢＡＳＦジャパン社製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルホリノ（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシムなどのアセトフェノン系又はケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルビフェニル、４−ベンゾイルフェニルエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、１，４−ベンゾイルベンゼンなどのベンゾフェノン系光重合開始剤、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントンなどのチオキサントン系光重合開始剤が挙げられる。
その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキしド（イルガキュア８１９：ＢＡＳＦジャパン社製）、ビス（２，４−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、メチルフェニルグリオキシエステル、９，１０−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、及びイミダゾール系化合物が挙げられる。また、光重合促進効果を有するものを単独又は上記光重合開始剤と併用して用いることもできる。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４，４′−ジメチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。
表面保護層に用いられる重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましく、アルキルフェノン系化合物及びホスフィンオキシド系化合物が好ましく、更に好ましくは、α−ヒドロキシアセトフェノン構造又はアシルホスフィンオキシド構造を有する開始剤が好ましい。
これらの重合開始剤は、１種又は２種以上を混合して用いてもよい。
重合開始剤の含有量は、架橋性の重合性化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１〜４０質量部の範囲内であり、より好ましくは０．５〜２０質量部の範囲内である。
重合開始剤の含有量は、架橋性の重合性化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１〜４０質量部の範囲内であり、より好ましくは０．５〜２０質量部の範囲内である。
（３．３）その他の添加剤
表面保護層には、これらの他に必要に応じて滑剤粒子、酸化防止剤などを含有させてもよい。
滑剤粒子としては、例えば、フッ素原子含有樹脂粒子を加えることができる。
フッ素原子含有樹脂粒子としては、四フッ化エチレン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、六フッ化塩化エチレンプロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂、及びこれらの共重合体の中から１種又は２種以上を適宜選択するのが好ましいが、特に四フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂が好ましい。
表面保護層には、これらの他に必要に応じて滑剤粒子、酸化防止剤などを含有させてもよい。
滑剤粒子としては、例えば、フッ素原子含有樹脂粒子を加えることができる。
フッ素原子含有樹脂粒子としては、四フッ化エチレン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、六フッ化塩化エチレンプロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂、及びこれらの共重合体の中から１種又は２種以上を適宜選択するのが好ましいが、特に四フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂が好ましい。
（３．４）表面保護層の重合反応
表面保護層の重合反応では、塗布膜に活性線を照射してラジカルを発生させて重合させ、かつ、分子間及び分子内で架橋反応による架橋結合を形成させて硬化させ、硬化樹脂を生成することが好ましい。
活性線としては、紫外線、可視光などの光や電子線が好ましく、使いやすさなどの見地から紫外線が特に好ましい。
表面保護層の重合反応では、塗布膜に活性線を照射してラジカルを発生させて重合させ、かつ、分子間及び分子内で架橋反応による架橋結合を形成させて硬化させ、硬化樹脂を生成することが好ましい。
活性線としては、紫外線、可視光などの光や電子線が好ましく、使いやすさなどの見地から紫外線が特に好ましい。
紫外線光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。
例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、フラッシュ（パルス）キセノン、紫外線ＬＥＤなどを用いることができる。
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常１〜２０ｍＪ／ｃｍ２の範囲内、好ましくは５〜１５ｍＪ／ｃｍ２の範囲内である。光源の出力電圧は、好ましくは０．１〜５ｋＷの範囲内であり、特に好ましくは０．５〜３ｋＷの範囲内である。
例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、フラッシュ（パルス）キセノン、紫外線ＬＥＤなどを用いることができる。
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常１〜２０ｍＪ／ｃｍ２の範囲内、好ましくは５〜１５ｍＪ／ｃｍ２の範囲内である。光源の出力電圧は、好ましくは０．１〜５ｋＷの範囲内であり、特に好ましくは０．５〜３ｋＷの範囲内である。
電子線源としては、電子線照射装置に格別の制限はなく、一般にはこのような電子線照射用の電子線加速機として、比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式のものが有効に用いられる。電子線照射の際の加速電圧は、１００〜３００ｋＶの範囲内であることが好ましい。吸収線量としては０．００５Ｇｙ〜１００ｋＧｙ（０．５ｒａｄ〜１０Ｍｒａｄ）の範囲内であることが好ましい。
活性線の照射時間は、活性線の必要照射量が得られる時間であり、具体的には０．１秒〜１０分が好ましく、重合効率又は作業効率の観点から１秒〜５分がより好ましいとされる。
表面保護層の形成では、活性線の照射前後及び活性線を照射中に、表面保護層を乾燥処理することができ、乾燥を行うタイミングは活性線の照射条件と組み合わせて適宜選択することができる。
表面保護層の乾燥条件は、塗布液に使用する溶媒の種類や表面保護層の厚さなどにより適宜選択することが可能である。
乾燥温度は、室温（２５℃）〜１８０℃の範囲内が好ましく、８０〜１４０℃の範囲内が特に好ましい。乾燥時間は、１〜２００分が好ましく、５〜１００分が特に好ましい。上記乾燥条件で表面保護層を乾燥させることにより、表面保護層に含有される溶媒量を２０ｐｐｍから７５ｐｐｍの範囲に制御することができる。
表面保護層の乾燥条件は、塗布液に使用する溶媒の種類や表面保護層の厚さなどにより適宜選択することが可能である。
乾燥温度は、室温（２５℃）〜１８０℃の範囲内が好ましく、８０〜１４０℃の範囲内が特に好ましい。乾燥時間は、１〜２００分が好ましく、５〜１００分が特に好ましい。上記乾燥条件で表面保護層を乾燥させることにより、表面保護層に含有される溶媒量を２０ｐｐｍから７５ｐｐｍの範囲に制御することができる。
以上のようにして感光層上に表面保護層を設けることにより、感光体表面の硬度を上げ、耐摩耗性を向上させ耐久性を向上させることができる。
《画像形成装置》
以下、本発明の電子写真感光体を適用可能な画像形成装置の一例として、図面を参照しながら説明する。
以下、本発明の電子写真感光体を適用可能な画像形成装置の一例として、図面を参照しながら説明する。
図６に示すとおり、本発明の画像形成装置１００は、いわゆるタンデム型のカラープリンター装置であって、作像ユニット１０１Ｙ、１０１Ｍ、１０１Ｃ及び１０１Ｂｋが中間転写ベルト１０２に沿って順に配設されている。作像ユニット１０１Ｙ、１０１Ｍ、１０１Ｃ及び１０１Ｋは、露光装置１０３からそれぞれ画像露光Ｈを受けてイエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）及びブラック（Ｂｋ）の各色のトナー像を形成して、中間転写ベルト１０２上に重なり合うように静電転写する（１次転写）。これによって、カラートナー像が形成される。また、Ｂｋ色のモノクロトナー像を形成してもよい。
中間転写ベルト１０２は、無端状のベルトであって、トナー像を担持した状態でＡ方向に回転走行する。これによって、カラートナー像が２次転写ローラー対１０４に向かって搬送される。２次転写ローラー対１０４は、不図示の圧接離間機構によって、圧接及び離間される。２次転写ローラー対１０４を構成する一対のローラーが互いに圧接している領域を、２次転写ニップという。
記録シートＰは、給紙カセット１０５に収容されており、ピックアップローラー１０６によって１枚ずつ搬送経路１０７上に送り出される。搬送経路１０７上に送り出された記録シートＰは、タイミングローラー１０８によって２次転写タイミングに合わせて２次転写ニップへ搬送される。
中間転写ベルト１０２に担持されたトナー像と記録シートＰとがタイミングを合わせて２次転写ニップを通過する際には、２次転写ローラー対１０４を構成する一対のローラー間に２次転写バイアスが印加される。これによって、中間転写ベルト１０２上のトナー像が記録シートＰ上に静電転写（２次転写）される。
中間転写ベルト１０２に担持されたトナー像と記録シートＰとがタイミングを合わせて２次転写ニップを通過する際には、２次転写ローラー対１０４を構成する一対のローラー間に２次転写バイアスが印加される。これによって、中間転写ベルト１０２上のトナー像が記録シートＰ上に静電転写（２次転写）される。
トナー像を担持する記録シートＰは、定着装置１０９を通過する際にトナー像を熱定着された後、排出ローラー１１０によって排紙トレー１１１上に排出される。
〈作像ユニット〉
次に、作像ユニットの構成について、作像ユニット１０１Ｙを例にとって更に詳しく説明する。
図７に示されるように、作像ユニット１０１Ｙは、円柱形状の電子写真感光体２０１の外周面に沿って順に帯電ローラー２０２、現像装置２０３、一次転写ローラー２０４、クリーニング装置２０５及び除電ランプ２０６が配設されている。
本発明の画像形成装置１００は、作像ユニット１０１Ｙ、１０１Ｍ、１０１Ｃ及び１０１Ｂｋの電子写真感光体２０１の少なくとも一つとして、上記の本発明の電子写真感光体１０を用いる。
次に、作像ユニットの構成について、作像ユニット１０１Ｙを例にとって更に詳しく説明する。
図７に示されるように、作像ユニット１０１Ｙは、円柱形状の電子写真感光体２０１の外周面に沿って順に帯電ローラー２０２、現像装置２０３、一次転写ローラー２０４、クリーニング装置２０５及び除電ランプ２０６が配設されている。
本発明の画像形成装置１００は、作像ユニット１０１Ｙ、１０１Ｍ、１０１Ｃ及び１０１Ｂｋの電子写真感光体２０１の少なくとも一つとして、上記の本発明の電子写真感光体１０を用いる。
電子写真感光体２０１は、例えば、アルミニウム製の導電性基体２０１ｂと、その外周面上に形成された負帯電型の有機感光体からなる感光層２０１ａとを有しており、支軸２０１ｃを中心としてＢ方向に回転駆動される。
帯電ローラー２０２は、芯金２０２ｃ、芯金２０２ｃと一体形成された導電層２０２ｂ、及び導電層２０２ｂの外周面上に形成された弾性を有する高導電体層２０２ａからなっている。芯金２０２ｃは回転自在に軸受けされており、帯電ローラー２０２は電子写真感光体２０１との摩擦によってＣ方向に従動回転する。
帯電ローラー２０２は、芯金２０２ｃ、芯金２０２ｃと一体形成された導電層２０２ｂ、及び導電層２０２ｂの外周面上に形成された弾性を有する高導電体層２０２ａからなっている。芯金２０２ｃは回転自在に軸受けされており、帯電ローラー２０２は電子写真感光体２０１との摩擦によってＣ方向に従動回転する。
帯電ローラー２０２は、電子写真感光体２０１の外周面に押圧されることによって帯電ニップが形成されており、芯金２０２ｃに当接された摺動接点２０２ｄを介して帯電バイアス電源装置２００から給電を受けることによって、電子写真感光体２０１の外周面を接触帯電させる。
帯電ローラー２０２における帯電手段としては、ＤＣ電圧にＡＣ成分を重畳させたＡＣ帯電方式による帯電プロセスが採用される。
ＡＣ帯電方式による帯電プロセスにおけるＡＣ成分の周波数は、１〜３ｋＨｚの範囲内であることが好ましく、１〜２．６ｋＨｚの範囲内であることが好ましい。
帯電プロセスにおけるＡＣ成分の印加電圧Ｖｐｐは、１〜３ｋＶの範囲内であることが好ましく、１〜２．５ｋＶの範囲内であることが好ましい。
ＡＣ帯電方式による帯電プロセスにおけるＡＣ成分の周波数は、１〜３ｋＨｚの範囲内であることが好ましく、１〜２．６ｋＨｚの範囲内であることが好ましい。
帯電プロセスにおけるＡＣ成分の印加電圧Ｖｐｐは、１〜３ｋＶの範囲内であることが好ましく、１〜２．５ｋＶの範囲内であることが好ましい。
現像装置２０３は、外周面上にトナーを担持した状態でＤ方向に回転する現像ローラー２０３ａを備えている。現像ローラー２０３ａは、電子写真感光体２０１に近接して対向配置されており、また、現像バイアスが印加されている。これによって、電子写真感光体２０１の外周面上にトナーが供給され、静電潜像を現像したトナー像が形成される。
１次転写ローラー２０４は、電子写真感光体２０１とともに中間転写ベルト１０２を挟持しており、中間転写ベルト１０２がＡ方向へ回転走行するのに合わせてＥ方向に回転する。１次転写ローラー２０４は、例えば、金属の芯金の表面を弾性体で被覆したもので、不図示の電源からトナーと逆極性の１次転写バイアスが印加されている。これによって、電子写真感光体２０１の外周面上に担持されているトナー像が中間転写ベルト１０２上へ１次転写される。
クリーニング装置２０５は、１次転写後に電子写真感光体２０１の外周面上に残留するトナーをクリーニングブレード２０５ａによって掻き取って回収する。
除電ランプ２０６は、電子写真感光体２０１の外周面を除電露光することによって、残留電荷を除電する。
なお、クリーニング装置２０５等によって除去し切れなかった残留トナーが帯電ローラー２０２に付着して汚損すると、帯電性能が劣化するおそれがあるので、帯電ローラー２０２をクリーニングするクリーニング部材を更に設けてもよい。
除電ランプ２０６は、電子写真感光体２０１の外周面を除電露光することによって、残留電荷を除電する。
なお、クリーニング装置２０５等によって除去し切れなかった残留トナーが帯電ローラー２０２に付着して汚損すると、帯電性能が劣化するおそれがあるので、帯電ローラー２０２をクリーニングするクリーニング部材を更に設けてもよい。
〈トナー〉
以上のような画像形成装置に用いられるトナーは、粉砕トナーであっても重合トナーであってもよいが、本発明の画像形成装置においては、高い画質の画像が得られる観点から、重合法で作製された重合トナーを用いることが好ましい。
以上のような画像形成装置に用いられるトナーは、粉砕トナーであっても重合トナーであってもよいが、本発明の画像形成装置においては、高い画質の画像が得られる観点から、重合法で作製された重合トナーを用いることが好ましい。
重合トナーとは、トナーを形成する結着樹脂の生成とトナー粒子形状の形成が、結着樹脂を得るための原料モノマーの重合と、必要によりその後の化学的処理とにより並行して行われて得られるトナーを意味する。
より具体的には、懸濁重合、乳化重合などの重合反応により樹脂微粒子を得る工程と、必要によりその後に行われる樹脂微粒子同士を融着させる工程を経て形成されるトナーを意味する。
トナーとしては、結着樹脂が結晶性樹脂からなるものを用いることが好ましい。トナーとして結晶性樹脂からなる結着樹脂を含有するものを用いることによって、得られる画像におけるカブリの発生を抑制することができる。これは、現像手段４Ｙ、４Ｍ、４Ｃ及び４Ｂｋにおいてトナーが摩擦帯電されたときの帯電のバラツキが低減されることによるものと考えられる。
トナーの体積平均粒径、すなわち、５０％体積粒径（Ｄｖ５０）は２〜９μｍの範囲内、より好ましくは３〜７μｍの範囲内であることが望ましい。この範囲とすることにより、解像度を高くすることができる。さらに、上記の範囲と組み合わせることにより、小粒径トナーでありながら、微細な粒径のトナーの存在量を少なくすることができ、長期にわたってドット画像の再現性が改善され、鮮鋭性の良好な、安定した画像を形成することができる。
トナーは、それのみで一成分現像剤として用いてもよく、キャリアと混合して二成分現像剤として用いてもよい。
一成分現像剤として用いる場合は、非磁性一成分現像剤、あるいはトナー中に０．１〜０．５μｍ程度の磁性粒子を含有させ磁性一成分現像剤としたものが挙げられ、いずれも使用することができる。
また、キャリアと混合して二成分現像剤として用いる場合は、キャリアの磁性粒子として、鉄、フェライト、マグネタイトなどの金属、それらの金属とアルミニウム、鉛などの金属との合金などの従来公知の材料を用いることができ、特にフェライト粒子が好ましい。上記磁性粒子は、その体積平均粒径としては１５〜１００μｍの範囲内、より好ましくは２５〜８０μｍの範囲内のものがよい。
キャリアの体積平均粒径の測定は、代表的には湿式分散機を備えたレーザー回折式粒度分布測定装置「ヘロス（ＨＥＬＯＳ）」（シンパティック（ＳＹＭＰＡＴＥＣ）社製）により測定することができる。
キャリアは、磁性粒子が更に樹脂により被覆されているもの、あるいは樹脂中に磁性粒子を分散させた、いわゆる樹脂分散型キャリアが好ましい。コーティング用の樹脂組成としては、特に限定はないが、例えば、オレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、スチレンアクリル樹脂、シリコーン系樹脂、エステル系樹脂、フッ素含有重合体系樹脂などが用いられる。また、樹脂分散型キャリアを構成するための樹脂としては、特に限定されず公知のものを使用することができ、例えば、スチレンアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素系樹脂、フェノール樹脂などを使用することができる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
［実施例１］
《導電性基体の作製》
導電性基体１０１〜１１１を以下のようにして作製した。
《導電性基体の作製》
導電性基体１０１〜１１１を以下のようにして作製した。
〈導電性基体１０１〜１０４及び１０７〜１１１の作製〉
原管として、Ａ６０６３材料を適用した引抜管を使用した。原管は、内径をすべて２８．０ｍｍとし、外径を３０．２ｍｍから３０．４ｍｍの間で０．０５ｍｍきざみで、長さ３６２ｍｍのものを準備した。原管として、偏肉量が小さいものを選定した（図４参照。）。
原管として、Ａ６０６３材料を適用した引抜管を使用した。原管は、内径をすべて２８．０ｍｍとし、外径を３０．２ｍｍから３０．４ｍｍの間で０．０５ｍｍきざみで、長さ３６２ｍｍのものを準備した。原管として、偏肉量が小さいものを選定した（図４参照。）。
次いで、上記ドラム原管を固定し、直径２８．４ｍｍの回転刃物で原管の両端面を１ｍｍずつ削り落として端面加工をしつつ、インロー加工を施し、外径中心位置と内径中心位置の距離Ｌを表１に記載のとおりとなるようにしてずらし、インロー加工部の周方向に沿って肉厚に偏りのある、長さ３６０ｍｍの端面加工管を得た。インロー加工部は、インロー径２８．４ｍｍ、深さ１０ｍｍとした。
このインロー加工部をチャックしてドラムを回転させ、外周面粗加工及び外周面仕上げ加工を施して表面切削し、外径２９．９５ｍｍの導電性基体１〜４及び７〜１１を作製した。
〈導電性基体１０５及び１０６の作製〉
原管として、Ａ６０６３材料を適用した引抜管を使用した。原管は、内径を２８．０ｍｍ、外径を３０．３ｍｍで偏肉量が大きいものを選定し、長さ３６２ｍｍのものを準備した（図５参照。）。
原管として、Ａ６０６３材料を適用した引抜管を使用した。原管は、内径を２８．０ｍｍ、外径を３０．３ｍｍで偏肉量が大きいものを選定し、長さ３６２ｍｍのものを準備した（図５参照。）。
次いで、上記ドラム原管を旋盤にセットして外径をチャックし、回転させて刃物をあて、原管の両端面を１ｍｍずつ削り落として端面加工をしつつ、インロー加工を施し、長さ３６０ｍｍの端面加工管を得た。インロー加工部は、インロー径２８．４ｍｍ、深さ１０ｍｍとした。
このインロー加工部をチャックしてドラムを回転させ、外周面粗加工及び外周面仕上げ加工を施して表面切削し、外径２９．９５ｍｍの導電性基体１０５及び１０６を作製した。
《電子写真感光体の作製》
電子写真感光体１０１〜１１１を以下のようにして作製した。
電子写真感光体１０１〜１１１を以下のようにして作製した。
〈電子写真感光体１０１〜１１１の作製〉
（１）下引き層の形成
下記組成の分散液を一夜静置後に濾過（フィルター；日本ポール社製リジメッシュ５μｍフィルター使用）し、下引き層形成用塗布液を調製した。
分散機としてサンドミルを用いて、１０時間の分散を行った。
上記塗布液を用いて上記導電性基体上に、乾燥後の厚さが１．５μｍとなるようにして浸漬塗布法で塗布し、下引き層を形成した。
（１）下引き層の形成
下記組成の分散液を一夜静置後に濾過（フィルター；日本ポール社製リジメッシュ５μｍフィルター使用）し、下引き層形成用塗布液を調製した。
分散機としてサンドミルを用いて、１０時間の分散を行った。
上記塗布液を用いて上記導電性基体上に、乾燥後の厚さが１．５μｍとなるようにして浸漬塗布法で塗布し、下引き層を形成した。
バインダー：ポリアミド樹脂 ダイアミドＸ４６８５（ダイセル・エボニック社製）
１００質量部
無機微粒子：酸化チタンＳＭＴ５００ＳＡＳ（テイカ社製） ３００質量部
溶媒：エタノール １４４０質量部
１−プロパノール ３６０質量部
１００質量部
無機微粒子：酸化チタンＳＭＴ５００ＳＡＳ（テイカ社製） ３００質量部
溶媒：エタノール １４４０質量部
１−プロパノール ３６０質量部
（２）電荷発生層の形成
下記原料を混合し、サンドミルを用いて１０時間分散し、電荷発生層形成用塗布液を調製した。
その後、下引き層の上に、電荷発生層形成用塗布液を浸漬塗布法で塗布し、乾燥後の厚さ０．３μｍの電荷発生層を形成した。
下記原料を混合し、サンドミルを用いて１０時間分散し、電荷発生層形成用塗布液を調製した。
その後、下引き層の上に、電荷発生層形成用塗布液を浸漬塗布法で塗布し、乾燥後の厚さ０．３μｍの電荷発生層を形成した。
電荷発生物質：Ｙ−ＴｉＰｈ（チタニルフタロシアニン顔料（Ｃｕ−Ｋα特性Ｘ線回折スペクトル測定で、少なくとも２７．３°の位置に最大回折ピークを有するチタニルフタロシアニン顔料で７８０ｎｍに充分大きな吸収を有する）） ２０質量部
バインダー：ポリビニルブチラール樹脂（＃６０００−Ｃ：電気化学工業社製）
１０質量部
溶媒：酢酸ｔ−ブチル ７００質量部
４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン ３００質量部
バインダー：ポリビニルブチラール樹脂（＃６０００−Ｃ：電気化学工業社製）
１０質量部
溶媒：酢酸ｔ−ブチル ７００質量部
４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン ３００質量部
（３）電荷輸送層
下記原料を混合し、溶解して電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
この塗布液を上記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、乾燥後の厚さ２８μｍの電荷輸送層を形成した。
下記原料を混合し、溶解して電荷輸送層形成用塗布液を調製した。
この塗布液を上記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、乾燥後の厚さ２８μｍの電荷輸送層を形成した。
電荷輸送物質：ＣＴＭ−Ａ １５０質量部
バインダー：ポリカーボネート（ＦＰＣ６５３５Ａ:三菱ガス化学社製）
３００質量部
酸化防止剤：Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０（ＢＡＳＦジャパン社製） ６質量部
溶媒：テトラヒドロフラン １５００質量部
トルエン ３７５質量部
添加剤：シリコーンオイル（ＫＦ−９６：信越化学社製） ０．２５質量部
バインダー：ポリカーボネート（ＦＰＣ６５３５Ａ:三菱ガス化学社製）
３００質量部
酸化防止剤：Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０（ＢＡＳＦジャパン社製） ６質量部
溶媒：テトラヒドロフラン １５００質量部
トルエン ３７５質量部
添加剤：シリコーンオイル（ＫＦ−９６：信越化学社製） ０．２５質量部
上記で用いた電荷発生物質（Ｙ−ＴｉＰｈ）と電荷輸送物質（ＣＴＭ−Ａ）の構造式を下記に示す。
以上のようにして、導電性基体上に、下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成し、これを１２０℃で乾燥熱処理することにより、電子写真感光体１０１〜１１１を作製した。
《評価》
作製した各電子写真感光体について、表面切削面状態、振れ精度及び鳴き（共振）を評価した。
評価結果を表１に示す。
作製した各電子写真感光体について、表面切削面状態、振れ精度及び鳴き（共振）を評価した。
評価結果を表１に示す。
〈表面切削面状態〉
（１）削り残し
作製した各電子写真感光体について、表面切削した外周面に削り残し（刃物が届かない部分）の有無を目視にて観察し、下記評価基準に従って評価した。
（１）削り残し
作製した各電子写真感光体について、表面切削した外周面に削り残し（刃物が届かない部分）の有無を目視にて観察し、下記評価基準に従って評価した。
○：削り残しなし
×：削り残しがわずかでもあり
×：削り残しがわずかでもあり
（２）面乱れ
作製した各電子写真感光体について、表面切削した外周面の面乱れ（切削共振うねり）を目視による観察、及びコニカミノルタ社製ビズハブＣ３６８でのハーフトーン画像の均一性の判定により、下記評価基準に従って評価した。
作製した各電子写真感光体について、表面切削した外周面の面乱れ（切削共振うねり）を目視による観察、及びコニカミノルタ社製ビズハブＣ３６８でのハーフトーン画像の均一性の判定により、下記評価基準に従って評価した。
○：目視判別難、画像非発生
○△：目視判別可（わずか）、画像非発生
△：目視判別可、画像非発生
△×：目視判別明瞭、画像非発生
×：目視判別明瞭、画像発生
○△：目視判別可（わずか）、画像非発生
△：目視判別可、画像非発生
△×：目視判別明瞭、画像非発生
×：目視判別明瞭、画像発生
〈振れ（寸法）精度〉
作製した各電子写真感光体について、両端のインロー加工部に振れ測定用フランジ治具を装着し、渦電流式変位センサ（キーエンス社ＡＳシリーズ）を装備した専用測定治具にて、振れ精度（ｍｍ）を測定し、下記評価基準に従って評価した。
作製した各電子写真感光体について、両端のインロー加工部に振れ測定用フランジ治具を装着し、渦電流式変位センサ（キーエンス社ＡＳシリーズ）を装備した専用測定治具にて、振れ精度（ｍｍ）を測定し、下記評価基準に従って評価した。
◎：０．０３ｍｍ以下
○：０．０３ｍｍより大きく、０．０５ｍｍ以下
×：０．０５ｍｍより大きい
○：０．０３ｍｍより大きく、０．０５ｍｍ以下
×：０．０５ｍｍより大きい
〈鳴き（共振）〉
作製した各電子写真感光体をビズハブＣ３６８改造機（ＡＣ帯電成分は外部電源から供給）に搭載し、共振をＦＦＴアナライザで測定して聴覚にて確認し、下記評価基準に従って評価した。ＡＣ帯電周波数は、１．２ｋＨｚとした。
作製した各電子写真感光体をビズハブＣ３６８改造機（ＡＣ帯電成分は外部電源から供給）に搭載し、共振をＦＦＴアナライザで測定して聴覚にて確認し、下記評価基準に従って評価した。ＡＣ帯電周波数は、１．２ｋＨｚとした。
◎：鳴きが発生せず
○：実用上問題なし
○△：鳴きがごくわずかに発生するが、実用上問題なし
×：鳴きが継続的に可聴
○：実用上問題なし
○△：鳴きがごくわずかに発生するが、実用上問題なし
×：鳴きが継続的に可聴
〈まとめ〉
表１から明らかなように、本発明の電子写真感光体は、比較例の電子写真感光体と比べて、表面切削面状態及び振れ精度が良好で、鳴き（共振）が十分に抑制されていることが確認された。
以上から、導電性基体の外径中心位置と内径中心位置との距離Ｌ（ｍｍ）を上記式（１）を満たすようにすることが有用であることがわかる。
表１から明らかなように、本発明の電子写真感光体は、比較例の電子写真感光体と比べて、表面切削面状態及び振れ精度が良好で、鳴き（共振）が十分に抑制されていることが確認された。
以上から、導電性基体の外径中心位置と内径中心位置との距離Ｌ（ｍｍ）を上記式（１）を満たすようにすることが有用であることがわかる。
［実施例２］
《導電性基体の作製》
導電性基体２０１及び２０２を以下のようにして作製した。
《導電性基体の作製》
導電性基体２０１及び２０２を以下のようにして作製した。
〈導電性基体２０１及び２０２の作製〉
原管として、Ａ６０６３材料を適用した引抜管を使用した。原管は、内径２７．５ｍｍ及び２５．８ｍｍ、外径３０．３ｍｍ、長さ３６２ｍｍのものを準備した。原管として、偏肉量が小さいものを選定した（図４参照。）。
原管として、Ａ６０６３材料を適用した引抜管を使用した。原管は、内径２７．５ｍｍ及び２５．８ｍｍ、外径３０．３ｍｍ、長さ３６２ｍｍのものを準備した。原管として、偏肉量が小さいものを選定した（図４参照。）。
次いで、上記ドラム原管を固定し、直径２８．４ｍｍの回転刃物で原管の両端面を１ｍｍずつ削り落として端面加工をしつつ、インロー加工を施し、外径中心位置と内径中心位置の距離Ｌを表２に記載のとおりとなるようにしてずらし、インロー加工部の周方向に沿って肉厚に偏りのある、長さ３６０ｍｍの端面加工管を得た。インロー加工部は、インロー径２８．４ｍｍ、深さ１０ｍｍとした。
このインロー加工部をチャックしてドラムを回転させ、外周面粗加工及び外周面仕上げ加工を施して表面切削し、外径２９．９５ｍｍの導電性基体２０１及び２０２を作製した。表面加工時の防振治具は、引抜管内径に応じて防振治具外径を微調整した。
《電子写真感光体の作製》
実施例１と同様にして、導電性基体２０１及び２０２に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成し、電子写真感光体２０１及び２０２を作製した。
実施例１と同様にして、導電性基体２０１及び２０２に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成し、電子写真感光体２０１及び２０２を作製した。
《評価》
作製した電子写真感光体２０１及び２０２について、実施例１と同様にして、表面切削面状態、振れ精度及び鳴き（共振）を評価した。
評価結果を表２に示す。
作製した電子写真感光体２０１及び２０２について、実施例１と同様にして、表面切削面状態、振れ精度及び鳴き（共振）を評価した。
評価結果を表２に示す。
〈まとめ〉
表２からも明らかなように、導電性基体の平均肉厚を２ｍｍ以下とした場合であっても、表面切削面状態及び振れ精度が良好で、鳴き（共振）が十分に抑制されていることが確認された。
表２からも明らかなように、導電性基体の平均肉厚を２ｍｍ以下とした場合であっても、表面切削面状態及び振れ精度が良好で、鳴き（共振）が十分に抑制されていることが確認された。
［実施例３］
《電子写真感光体の作製》
実施例１で作製した電子写真感光体１０６と同じものを三つ作製し、それぞれ電子写真感光体１０６Ａ、１０６Ｂ、１０６Ｃとした。
《電子写真感光体の作製》
実施例１で作製した電子写真感光体１０６と同じものを三つ作製し、それぞれ電子写真感光体１０６Ａ、１０６Ｂ、１０６Ｃとした。
《評価》
作製した各電子写真感光体について、帯電安定性及び減耗について評価した。
評価結果を表３に示す。
作製した各電子写真感光体について、帯電安定性及び減耗について評価した。
評価結果を表３に示す。
〈帯電安定性〉
作製した各電子写真感光体をビズハブＣ３６８改造機（ＡＣ帯電成分は外部電源から供給）に搭載し、ＡＣ帯電周波数を０.８ｋＨｚ、１.２ｋＨｚ、３.２ｋＨｚに変更した場合の帯電安定性をハーフトーン画像の均一性で判定し、下記評価基準に従って評価した。
作製した各電子写真感光体をビズハブＣ３６８改造機（ＡＣ帯電成分は外部電源から供給）に搭載し、ＡＣ帯電周波数を０.８ｋＨｚ、１.２ｋＨｚ、３.２ｋＨｚに変更した場合の帯電安定性をハーフトーン画像の均一性で判定し、下記評価基準に従って評価した。
○：ハーフトーン画像が均一
△：わずかに濃度ムラあり
×：濃度ムラあり
△：わずかに濃度ムラあり
×：濃度ムラあり
〈減耗〉
作製した各電子写真感光体をビズハブＣ３６８改造機に搭載し、ＡＣ帯電周波数をそれぞれ０.８ｋＨｚ、１.２ｋＨｚ、３.２ｋＨｚに変更して標準プリント画像での実写を行い、各電子写真感光体が１００ｋ（１０００００）回転した場合に相当する減耗量を測定し、下記評価基準に従って評価した。
作製した各電子写真感光体をビズハブＣ３６８改造機に搭載し、ＡＣ帯電周波数をそれぞれ０.８ｋＨｚ、１.２ｋＨｚ、３.２ｋＨｚに変更して標準プリント画像での実写を行い、各電子写真感光体が１００ｋ（１０００００）回転した場合に相当する減耗量を測定し、下記評価基準に従って評価した。
○：２．０μｍ未満
△：２．０μｍ以上３．０μｍ以下
×：３．０μｍより大きい
△：２．０μｍ以上３．０μｍ以下
×：３．０μｍより大きい
〈まとめ〉
表３から明らかなように、ＡＣ帯電方式による帯電プロセスにおける周波数が１〜３ｋＨｚの範囲内であることが、帯電安定性に優れるとともに、減耗量が抑えられることが確認された。
表３から明らかなように、ＡＣ帯電方式による帯電プロセスにおける周波数が１〜３ｋＨｚの範囲内であることが、帯電安定性に優れるとともに、減耗量が抑えられることが確認された。
１ 導電性基体
２ 感光層
２ａ 電荷発生層
２ｂ 電荷輸送層
３ 下引き層
４ 表面保護層
５ 金属酸化物微粒子
１０ 電子写真感光体
１１ 開口部
１２ インロー加工部
１３、１５ 原管
１４、１６ 端面加工管
１００ 画像形成装置
１０１Ｙ、１０１Ｍ、１０１Ｃ、１０１Ｂｋ 作像ユニット
１０２ 中間転写ベルト
１０３ 露光装置
１０４ ２次転写ローラー対
１０５ 給紙カセット
１０６ ピックアップローラー
１０７ 搬送経路
１０８ タイミングローラー
１０９ 定着装置
１１０ 排出ローラー
１１１ 排紙トレー
２００ 帯電バイアス電源装置
２０１ 電子写真感光体
２０１ａ 感光層
２０１ｂ 導電性基体
２０１ｃ 支軸
２０２ 帯電ローラー
２０２ａ 高導電体層
２０２ｂ 導電層
２０２ｃ 芯金
２０４ｄ 摺動接点
２０３ 現像装置
２０３ａ 現像ローラー
２０４ 一次転写ローラー
２０５ クリーニング装置
２０５ａ クリーニングブレード
２０６ 除電ランプ
Ａ〜Ｅ 方向
Ｄ１、Ｄ４ 外径中心位置
Ｄ２ 内径中心位置
Ｄ３ 加工中心位置
Ｈ 画像露光
Ｌ 距離
Ｐ 記録シート
Ｗ１、Ｗ２ 肉厚
２ 感光層
２ａ 電荷発生層
２ｂ 電荷輸送層
３ 下引き層
４ 表面保護層
５ 金属酸化物微粒子
１０ 電子写真感光体
１１ 開口部
１２ インロー加工部
１３、１５ 原管
１４、１６ 端面加工管
１００ 画像形成装置
１０１Ｙ、１０１Ｍ、１０１Ｃ、１０１Ｂｋ 作像ユニット
１０２ 中間転写ベルト
１０３ 露光装置
１０４ ２次転写ローラー対
１０５ 給紙カセット
１０６ ピックアップローラー
１０７ 搬送経路
１０８ タイミングローラー
１０９ 定着装置
１１０ 排出ローラー
１１１ 排紙トレー
２００ 帯電バイアス電源装置
２０１ 電子写真感光体
２０１ａ 感光層
２０１ｂ 導電性基体
２０１ｃ 支軸
２０２ 帯電ローラー
２０２ａ 高導電体層
２０２ｂ 導電層
２０２ｃ 芯金
２０４ｄ 摺動接点
２０３ 現像装置
２０３ａ 現像ローラー
２０４ 一次転写ローラー
２０５ クリーニング装置
２０５ａ クリーニングブレード
２０６ 除電ランプ
Ａ〜Ｅ 方向
Ｄ１、Ｄ４ 外径中心位置
Ｄ２ 内径中心位置
Ｄ３ 加工中心位置
Ｈ 画像露光
Ｌ 距離
Ｐ 記録シート
Ｗ１、Ｗ２ 肉厚
Claims (5)
- 導電性基体上に、感光層を有して構成される電子写真感光体であって、
前記導電性基体の外径中心位置と内径中心位置との距離Ｌ（ｍｍ）が、前記導電性基体の外径をＤ（ｍｍ）としたとき、下記式（１）を満たすことを特徴とする電子写真感光体。
０．００１３×Ｄ≦Ｌ≦０．００５０×Ｄ （１） - 前記導電性基体の端部に、前記導電性基体の外径中心位置と同心のインローが形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
- 前記導電性基体の平均肉厚が、２ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
- ＡＣ帯電方式による帯電プロセスに供される画像形成装置であって、
請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の電子写真感光体を備えることを特徴とする画像形成装置。 - 前記ＡＣ帯電方式による帯電プロセスにおける周波数が、１〜３ｋＨｚの範囲内であることを特徴とする請求項４に記載の画像形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016047781A JP2017161795A (ja) | 2016-03-11 | 2016-03-11 | 電子写真感光体及び画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016047781A JP2017161795A (ja) | 2016-03-11 | 2016-03-11 | 電子写真感光体及び画像形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017161795A true JP2017161795A (ja) | 2017-09-14 |
Family
ID=59857928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016047781A Pending JP2017161795A (ja) | 2016-03-11 | 2016-03-11 | 電子写真感光体及び画像形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2017161795A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019088484A (ja) * | 2017-11-14 | 2019-06-13 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
-
2016
- 2016-03-11 JP JP2016047781A patent/JP2017161795A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019088484A (ja) * | 2017-11-14 | 2019-06-13 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
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