JP2017157725A - 窒化物半導体テンプレート及びその製造方法、並びに紫外線led - Google Patents
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- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 title claims abstract description 128
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 128
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 41
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims abstract description 35
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 297
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 24
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 9
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 229910010038 TiAl Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000005036 potential barrier Methods 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 229910001258 titanium gold Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02367—Substrates
- H01L21/0237—Materials
- H01L21/02414—Oxide semiconducting materials not being Group 12/16 materials, e.g. ternary compounds
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02367—Substrates
- H01L21/02433—Crystal orientation
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02436—Intermediate layers between substrates and deposited layers
- H01L21/02439—Materials
- H01L21/02455—Group 13/15 materials
- H01L21/02458—Nitrides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
- H01L21/02538—Group 13/15 materials
- H01L21/0254—Nitrides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/0257—Doping during depositing
- H01L21/02573—Conductivity type
- H01L21/02576—N-type
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/0262—Reduction or decomposition of gaseous compounds, e.g. CVD
-
- H—ELECTRICITY
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02656—Special treatments
- H01L21/02658—Pretreatments
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- H—ELECTRICITY
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- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/005—Processes
- H01L33/0062—Processes for devices with an active region comprising only III-V compounds
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- H01L33/007—Processes for devices with an active region comprising only III-V compounds with a substrate not being a III-V compound comprising nitride compounds
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/12—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a stress relaxation structure, e.g. buffer layer
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- H—ELECTRICITY
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- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/26—Materials of the light emitting region
- H01L33/30—Materials of the light emitting region containing only elements of Group III and Group V of the Periodic Table
- H01L33/32—Materials of the light emitting region containing only elements of Group III and Group V of the Periodic Table containing nitrogen
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Abstract
【解決手段】一実施の形態として、Ga2O3を主成分とする基板10と、基板10上に形成された、AlNを主成分とするバッファ層11と、バッファ層11上に形成された、AlxGa1−xN(0.1≦x≦0.4)を主成分とする界面抵抗低減層12と、界面抵抗低減層12上に形成された、AlyGa1−yN(0.5<y≦0.6)を主成分とする応力緩和層13と、応力緩和層13上に形成された、AlzGa1−zN(0.2≦z≦0.5)を主成分とするn型窒化物半導体層14と、を有する窒化物半導体テンプレート1を提供する。
【選択図】図1
Description
(窒化物半導体テンプレートの構造)
図1は、第1の実施の形態に係る窒化物半導体テンプレート1の垂直断面図である。窒化物半導体テンプレート1は、基板10と、基板10上のバッファ層11と、バッファ層11上の界面抵抗低減層12と、界面抵抗低減層12上の応力緩和層13と、応力緩和層13上のn型窒化物半導体層14と、を含む。
以下に、窒化物半導体テンプレート1の製造工程の一例について説明する。
第2の実施の形態は、応力緩和層の構成において第1の実施の形態と異なる。なお、第1の実施の形態と同様の点については、説明を省略又は簡略化する。
図3は、第2の実施の形態に係る窒化物半導体テンプレート2の垂直断面図である。窒化物半導体テンプレート2は、応力緩和層13が組成式におけるyの値が異なる複数の層から構成される点において、第1の実施の形態に係る窒化物半導体テンプレート1と異なる。応力緩和層13以外の構成については、窒化物半導体テンプレート1の構成と同じである。
(紫外線LEDの構造)
第3の実施の形態は、第1の実施の形態に係る窒化物半導体テンプレート1又は第2の実施の形態に係る窒化物半導体テンプレート2を含む紫外線LEDについての形態である。
上記第1、2の実施の形態によれば、n型窒化物半導体層中の応力の発生を抑え、クラックの少ない高品質の窒化物半導体テンプレートを提供することができる。
Claims (10)
- Ga2O3を主成分とする基板と、
前記基板上に形成された、AlNを主成分とするバッファ層と、
前記バッファ層上に形成された、AlxGa1−xN(0.1≦x≦0.4)を主成分とする界面抵抗低減層と、
前記界面抵抗低減層上に形成された、AlyGa1−yN(0.5<y≦0.6)を主成分とする応力緩和層と、
前記応力緩和層上に形成された、AlzGa1−zN(0.2≦z≦0.5)を主成分とするn型窒化物半導体層と、
を有する窒化物半導体テンプレート。 - 前記応力緩和層が前記yの値が異なる複数の層から構成され、前記複数の層のうちの最上層の前記yの値が最も低く、最下層の前記yの値が最も高い、
請求項1に記載の窒化物半導体テンプレート。 - 前記応力緩和層の厚さが150nm以上300nm以下である、
請求項1又は2に記載の窒化物半導体テンプレート。 - 前記n型窒化物半導体層が、結晶の三次元成長により形成された三次元成長層と、結晶の二次元成長により形成された、前記三次元成長層上の二次元成長層とを含む、
請求項1〜3のいずれか1項に記載の窒化物半導体テンプレート。 - 前記応力緩和層の表面にクラックを有しない、
請求項1〜4のいずれか1項に記載の窒化物半導体テンプレート。 - 前記n型窒化物半導体層の表面にクラックを有しない、又は前記クラックに直交する方向の長さ1cmあたりの平均本数が2本未満である、
請求項1〜5のいずれか1項に記載の窒化物半導体テンプレート。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載の窒化物半導体テンプレートを含む、紫外線LED。
- Ga2O3を主成分とする基板上に、AlNを主成分とするバッファ層を形成する工程と、
前記バッファ層上に、AlxGa1−xN(0.1≦x≦0.4)を主成分とする結晶を成長させて界面抵抗低減層を形成する工程と、
前記界面抵抗低減層上に、AlyGa1−yN(x<y、0.5<y≦0.6)を主成分とする結晶を二次元成長させて応力緩和層を形成する工程と、
前記応力緩和層上に、AlzGa1−zN(0.2≦z≦0.5)を主成分とする結晶を成長させてn型窒化物半導体層を形成する工程と、
を含む窒化物半導体テンプレートの製造方法。 - 前記応力緩和層が前記yの値が異なる複数の層から構成され、前記複数の層のうちの最上層の前記yの値が最も低く、最下層の前記yの値が最も高い、
請求項8に記載の窒化物半導体テンプレートの製造方法。 - 前記n型窒化物半導体層が、結晶の三次元成長により形成された三次元成長層と、前記三次元成長層上に結晶の二次元成長により形成された二次元成長層とを含む、
請求項9に記載の窒化物半導体テンプレートの製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016040531A JP2017157725A (ja) | 2016-03-02 | 2016-03-02 | 窒化物半導体テンプレート及びその製造方法、並びに紫外線led |
PCT/JP2017/005162 WO2017150161A1 (ja) | 2016-03-02 | 2017-02-13 | 窒化物半導体テンプレート及びその製造方法、並びに紫外線led |
TW106104838A TW201801345A (zh) | 2016-03-02 | 2017-02-15 | 氮化物半導體模板及其製造方法、以及紫外線發光二極體 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016040531A JP2017157725A (ja) | 2016-03-02 | 2016-03-02 | 窒化物半導体テンプレート及びその製造方法、並びに紫外線led |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017157725A true JP2017157725A (ja) | 2017-09-07 |
Family
ID=59743833
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016040531A Pending JP2017157725A (ja) | 2016-03-02 | 2016-03-02 | 窒化物半導体テンプレート及びその製造方法、並びに紫外線led |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017157725A (ja) |
TW (1) | TW201801345A (ja) |
WO (1) | WO2017150161A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110808320A (zh) * | 2019-11-12 | 2020-02-18 | 清华大学 | 深紫外led结构及其制作方法 |
US10731274B2 (en) * | 2016-06-24 | 2020-08-04 | Stanley Electric Co., Ltd. | Group III nitride laminate and vertical semiconductor device having the laminate |
WO2022202747A1 (ja) | 2021-03-24 | 2022-09-29 | アダマンド並木精密宝石株式会社 | Ga2O3系単結晶基板並びにGa2O3系単結晶基板の製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111369759A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-07-03 | 浙江万芯集成科技有限公司 | 一种基于光电型薄膜芯片的电气火灾监测系统 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007234902A (ja) * | 2006-03-01 | 2007-09-13 | Toyoda Gosei Co Ltd | 発光素子およびその製造方法 |
KR20140030180A (ko) * | 2011-04-08 | 2014-03-11 | 가부시키가이샤 다무라 세이사쿠쇼 | 반도체 적층체 및 그 제조 방법과 반도체 소자 |
US9165766B2 (en) * | 2012-02-03 | 2015-10-20 | Transphorm Inc. | Buffer layer structures suited for III-nitride devices with foreign substrates |
-
2016
- 2016-03-02 JP JP2016040531A patent/JP2017157725A/ja active Pending
-
2017
- 2017-02-13 WO PCT/JP2017/005162 patent/WO2017150161A1/ja active Application Filing
- 2017-02-15 TW TW106104838A patent/TW201801345A/zh unknown
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10731274B2 (en) * | 2016-06-24 | 2020-08-04 | Stanley Electric Co., Ltd. | Group III nitride laminate and vertical semiconductor device having the laminate |
CN110808320A (zh) * | 2019-11-12 | 2020-02-18 | 清华大学 | 深紫外led结构及其制作方法 |
WO2022202747A1 (ja) | 2021-03-24 | 2022-09-29 | アダマンド並木精密宝石株式会社 | Ga2O3系単結晶基板並びにGa2O3系単結晶基板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2017150161A1 (ja) | 2017-09-08 |
TW201801345A (zh) | 2018-01-01 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
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