JP2017157587A - 圧電デバイス、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、および圧電デバイスの製造方法 - Google Patents
圧電デバイス、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、および圧電デバイスの製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】圧電体の特性劣化を抑制することが可能な圧電デバイス、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、および圧電デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】支持体(34)上に第1電極(17)、鉛を含む圧電体(18)、および第2電極(19)がこの順に積層された圧電素子(35)を有する圧電デバイス(2)であって、第2電極の前記圧電体とは反対側の面に、圧電体に含まれる鉛が吸着した複数の凸部(44)が設けられており、第2電極における凸部の面積の割合が、5%以上、15%以下であることを特徴とする。【選択図】図3
Description
本発明は、圧電体を電極材で挟んで構成された圧電デバイス、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、および圧電デバイスの製造方法に関するものである。
圧電デバイスは、圧電素子を備え、各種の液体噴射装置等に応用されている。例えば、液体噴射装置では、圧電デバイスをアクチュエーター(能動素子)として利用して液体噴射ヘッドから各種の液体を噴射(吐出)する。この液体噴射装置としては、例えば、インクジェット式プリンターやインクジェット式プロッター等の画像記録装置があるが、最近ではごく少量の液体を所定位置に正確に着弾できるという特長を生かして各種の製造装置にも応用されている。例えば、液晶ディスプレイ等のカラーフィルターを製造するディスプレイ製造装置,有機EL(Electro Luminescence)ディスプレイやFED(面発光ディスプレイ)等の電極を形成する電極形成装置,バイオチップ(生物化学素子)を製造するチップ製造装置に応用されている。そして、画像記録装置用の記録ヘッドでは液状のインクを噴射し、ディスプレイ製造装置用の色材噴射ヘッドではR(Red)・G(Green)・B(Blue)の各色材の溶液を噴射する。また、電極形成装置用の電極材噴射ヘッドでは液状の電極材料を噴射し、チップ製造装置用の生体有機物噴射ヘッドでは生体有機物の溶液を噴射する。また、圧電デバイスは、上記のアクチュエーターのような能動素子の他に、例えば振動・圧力センサー等の各種センサーのような受動素子も含まれる。
上記圧電デバイスの一形態である液体噴射ヘッドは、圧電素子を駆動素子として駆動することで圧力室の液体に圧力変動を生じさせて、この圧力室に通じるノズルから液体を噴射するように構成されている。上記圧力室の一部は可撓部材により区画されて可撓面となっており、この可撓面上に下電極と、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)等の圧電材料からなる圧電体と、上電極とが、成膜技術によりそれぞれ積層されて構成されている。例えば、特許文献1に開示されている液体噴射ヘッドでは、上下の電極のうちの下電極が、圧力室毎にパターニングされた個別電極であり、他方の上電極が、複数の圧力室に亘って連続して形成された共通電極となっている。この構成では、上電極、圧電体、および下電極が、平面視(すなわち、各層の積層方向で見た状態)において互いに重なり合う部分が、電極への電圧の印加によって変形する駆動部である。
上記特許文献1では、圧電体に含まれる過剰鉛によって耐電圧が低くなることを抑制するため、圧電素子の製造の工程において、圧電体を焼成した後、上電極の1層目を形成した段階で、740℃で再加熱処理(ポストアニール)を行い、鉛(Pb)の凝集物を上電極に形成させることで、圧電体の耐電圧の向上が図られている。
ところが、上記の再加熱処理において圧電体の鉛が上電極側に過剰に拡散すると圧電体において酸素欠陥が発生する。この酸素欠陥が増加すると、駆動電圧(駆動パルス)の印加により駆動が繰り返されることに伴う駆動部の変位量の初期値からの低下の度合が大きくなったり、直流電圧に対する耐性が低下したりする等、圧電体の特性が低下するという問題があった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、圧電体の特性劣化を抑制することが可能な圧電デバイス、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、および圧電デバイスの製造方法を提供することにある。
本発明は、上記目的を達成するために提案されたものであり、支持体上に第1電極、鉛を含む圧電体、および第2電極がこの順に積層された圧電素子を有する圧電デバイスであって、
前記第2電極の前記圧電体とは反対側の面に、前記圧電体に含まれる鉛が吸着した複数の凸部が設けられており、
前記第2電極における前記凸部の面積の割合が、5%以上、15%以下であることを特徴とする。
前記第2電極の前記圧電体とは反対側の面に、前記圧電体に含まれる鉛が吸着した複数の凸部が設けられており、
前記第2電極における前記凸部の面積の割合が、5%以上、15%以下であることを特徴とする。
本発明によれば、第2電極における前部の面積の割合が5%以上、15%以下となるようにすることで、耐電圧を確保しつつ、過剰な酸素欠陥による圧電素子の変位低下が抑制され、また、直流電圧に対する耐性を確保することが可能となる。これにより、圧電素子の信頼性を高めることができる。
また、本発明の液体噴射ヘッドは、上記構成の圧電デバイスを備えることを特徴とする。
さらに、本発明の液体噴射装置は、上記構成の液体噴射ヘッドを備えたことを特徴とする。
本発明によれば、特性劣化が抑制された圧電素デバイスを搭載するので、液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置の信頼性が向上する。
そして、本発明の圧電デバイスの製造方法は、支持体上に第1電極、鉛を含む圧電体、および第2電極がこの順に積層されてなる圧電デバイスの製造方法であって、
前記第1電極がパターニングされた支持体上に圧電体前駆体膜を形成する圧電体前駆体膜形成工程と、
前記圧電体前駆体膜を焼成して前記圧電体を形成する焼成工程と、
前記圧電体の上に前記第2電極の第1層を形成する第1層形成工程と、
前記圧電体を再加熱して当該圧電体に含まれる鉛を前記第1層に吸着させて当該鉛が吸着した複数の凸部を当該第1層に形成するアニール工程と、
前記圧電体と前記第1層とをパターニングする圧電体パターニング工程と、
前記第1層および前記圧電体の露出部分に前記第2電極の第2層を形成する第2層形成工程と、
を含み、
前記アニール工程において、前記第2電極における前記凸部の面積の割合が5%以上、15%以下となるようにしたことを特徴とする。
前記第1電極がパターニングされた支持体上に圧電体前駆体膜を形成する圧電体前駆体膜形成工程と、
前記圧電体前駆体膜を焼成して前記圧電体を形成する焼成工程と、
前記圧電体の上に前記第2電極の第1層を形成する第1層形成工程と、
前記圧電体を再加熱して当該圧電体に含まれる鉛を前記第1層に吸着させて当該鉛が吸着した複数の凸部を当該第1層に形成するアニール工程と、
前記圧電体と前記第1層とをパターニングする圧電体パターニング工程と、
前記第1層および前記圧電体の露出部分に前記第2電極の第2層を形成する第2層形成工程と、
を含み、
前記アニール工程において、前記第2電極における前記凸部の面積の割合が5%以上、15%以下となるようにしたことを特徴とする。
上記方法において、前記焼成工程における焼成時の温度と前記アニール工程における再加熱時の温度との差の絶対値が100℃以内であることが望ましい。
上記方法によれば、焼成工程における焼成時の温度とアニール工程における再加熱時の温度との差の絶対値が100℃以内となるように設定することで、第2電極における凸部の面積の割合が5%以上、15%以下となるように凸部を形成することができる。
以下、本発明を実施するための形態を、添付図面を参照して説明する。なお、以下に述べる実施の形態では、本発明の好適な具体例として種々の限定がされているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。また、以下の説明では、本発明に係る液体噴射装置として、液体噴射ヘッドの一種であるインクジェット式記録ヘッド(以下、記録ヘッド)を搭載したインクジェット式プリンター(以下、プリンター)を例に挙げる。
図1はプリンター1の内部構成を示す斜視図である。このプリンター1は、記録ヘッド2が取り付けられると共に、液体供給源の一種であるインクカートリッジ3が着脱可能に取り付けられるキャリッジ4、このキャリッジ4を記録用紙6(記録媒体および液体着弾対象の一種)の紙幅方向、即ち、主走査方向に往復移動させるキャリッジ移動機構7と、主走査方向に直交する副走査方向に記録用紙6を搬送する紙送り機構8等を備えている。キャリッジ4は、キャリッジ移動機構7によって主走査方向に移動するように構成されている。このプリンター1は、記録用紙6を順次搬送しつつ、キャリッジ4を往復移動させながら当該記録用紙6上に文字や画像等を記録する。なお、インクカートリッジ3がキャリッジ4ではなくプリンター1の本体側に配置され、このインクカートリッジ3内のインクがインク供給チューブを通じて記録ヘッド2側に供給される構成を採用することもできる。
図2は、上記記録ヘッド2の主要部分の構成を説明する断面図である。また、図3は、圧力室31の幅方向(ノズル列方向)における圧電素子35および圧力室形成基板29の断面図であり、図4は、圧力室31の長手方向(ノズル列方向に交差する方向)における圧電素子35および圧力室形成基板29の断面図である。本実施形態における記録ヘッド2は、圧力発生ユニット14(本発明の圧電デバイスの一種)および流路ユニット21を備え、これらの部材が積層された状態でケース26に取り付けて構成されている。流路ユニット21は、ノズルプレート22及び連通基板23を有している。また、圧力発生ユニット14は、圧力室31が形成された圧力室形成基板29、弾性膜30、圧電素子35、および保護基板24が積層されてユニット化されている。
ケース26は、ノズルプレート22および圧力発生ユニット14が接合された連通基板23が底面側に固定される合成樹脂製の箱体状部材である。このケース26の下面側には、当該下面からケース26の高さ方向の途中まで直方体状に窪んだ収容空部47が形成されている。流路ユニット21がケース26の下面に位置決め状態で接合されると、連通基板23上に積層された圧力発生ユニット14が収容空部47に収容されるように構成されている。また、ケース26には、インク導入空部46が形成されている。インク導入空部46における収容空部47から外れた位置には、インクカートリッジ3側からのインクが導入される。インク導入空部46に流入したインクは、連通基板23の共通液室32(後述)に導入される。
圧力発生ユニット14の構成部材の一つである圧力室形成基板29は、シリコン基板(結晶性基板の一種)から作製されている。この圧力室形成基板29には、シリコン基板に対して異方性エッチング加工によって複数の圧力室(圧力発生室)31となる空部(以下、この空部も含めて圧力室31という。)が、ノズルプレート22の複数のノズル27に対応して複数形成されている。このように、シリコン基板に対して異方性エッチングによって圧力室を形成することで、より高い寸法・形状精度を確保することができる。圧力室31は、ノズル列方向に交差(本実施形態においては直交)する方向に長尺な空部である。圧力室形成基板29が連通基板23に対して位置決めされた状態で接合されると、圧力室31の長手方向一端部は、後述する連通基板23のノズル連通路36を介してノズル27と連通する。また、圧力室31の長手方向他端部は、連通基板23の個別連通口42を介して共通液室32と連通する。
圧力室形成基板29の上面(連通基板23との接合面とは反対側の面)には、圧力室31の上部開口を封止する状態で弾性膜30が形成されている。この弾性膜30は、例えば厚さが約1μmの二酸化シリコンから構成されている。また、この弾性膜30上には、絶縁膜33が形成されている。この絶縁膜33は、例えば、酸化ジルコニウムから成る。そして、弾性膜30および絶縁膜33は、圧力室31の開口面に対応する部分が変位可能な振動板34として機能する。この振動板34に積層される形で圧電素子35の実質的な駆動部(後述)が各圧力室31に対応して形成される。
本実施形態の圧電素子35は、所謂撓みモードの圧電素子である。この圧電素子35は、振動板34(本発明における支持体に相当)上に、下電極17(本発明における第1電極に相当)、圧電体18、及び上電極19(本発明における第2電極に相当)が順次積層されてなる。本実施形態では、下電極17が圧力室31毎に個別に形成されている一方、上電極19は複数の圧力室31に亘ってノズル列方向に連続して設けられている。すなわち、下電極17は圧力室31毎および駆動部毎に設けられた個別電極であり、上電極19は、各圧力室31および各駆動部に共通な共通電極である。そして、対をなす下電極17と上電極19との間に圧電体18が挟まれた領域が、両電極への電圧の印加により圧電歪みが生じる駆動部となる。
図3に示すように、圧電素子35を構成する下電極17は、圧力室31のノズル列方向(圧力室並設方向)の幅よりも狭い幅で形成されている。すなわち、圧力室31のノズル列方向において、下電極17は、振動板34上の圧力室31に対向する領域(駆動領域)内に位置している。また、圧力室長手方向において、振動板34上の下電極17の両端部は、それぞれ圧力室31の外側まで延設されている。なお、下電極17の材料は、後述する圧電体18を成膜する際に酸化せず、導電性を維持できる材料であることが必要であり、例えば、白金(Pt)、イリジウム(Ir)等の貴金属、またはランタンニッケル酸化物(LNO)などに代表される導電性酸化物が好適に用いられる。また、下電極17として、上記の導電材料と振動板34との間に、両者の密着力を確保するための密着層が形成されていてもよい。本実施形態においては、図示しない密着層としてチタンが用いられている。なお、密着層としては、ジルコニウム、チタン、酸化チタンなどを用いることができる。すなわち、本実施形態では、チタンからなる密着層と、上述した導電材料から選択される少なくとも一種の導電層とで下電極17が形成されている。なお、下電極17には、例えば、金(Au)等からなる図示しないリード電極が接続されている。このリード電極は、駆動回路等に繋がる接続配線が接続される端子部を構成する。
圧電体18は、下電極17を覆い隠すように振動板34上に形成されている。この圧電体18の圧力室長手方向の寸法は、圧力室31の上部開口の長手方向の長さよりも長く設定されている。このため、振動板34における圧電体18は、圧力室31の上部開口の圧力室長手方向の外側まで設けられている。また、圧電体18には、圧力室31同士を隔てている隔壁37(図3参照)に対向する凹部48が形成されている。凹部48は、圧電体18の肉厚を他の部分よりも薄くした部分、若しくは、厚さ方向を貫通した部分である。この凹部48が設けられていることにより、圧電素子35の駆動部を良好に変位させることができる。
圧電体18としては、下電極17上に形成される電気機械変換作用を示す強誘電性セラミックス材料からなるペロブスカイト構造の結晶膜(ペロブスカイト型結晶)が挙げられる。このような圧電体18の材料としては、鉛(Pb)、チタン(Ti)及びジルコニウム(Zr)を含むもの、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)等の強誘電性圧電材料や、これに酸化ニオブ、酸化ニッケル又は酸化マグネシウム等の金属酸化物を添加したもの等を用いることができる。具体的には、チタン酸鉛(PbTiO3)、チタン酸ジルコン酸鉛(Pb(Zr,Ti)O3)、ジルコニウム酸鉛(PbZrO3)、チタン酸鉛ランタン((Pb,La),TiO3)、ジルコン酸チタン酸鉛ランタン((Pb,La)(Zr,Ti)O3)又は、マグネシウムニオブ酸ジルコニウムチタン酸鉛(Pb(Zr,Ti)(Mg,Nb)O3)等を用いることができる。本実施形態では、圧電体18として、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)が用いられている。この圧電体18は、ゾル−ゲル法、MOD(Metal-Organic Decomposition)法などの液相法や、スパッタリング法、レーザーアブレーション法等などのPVD(Physical Vapor Deposition)法(気相法)などで形成することができる。
上電極19は、圧電体18の下電極17とは反対面側に設けられており、複数の駆動部に共通する共通電極を構成する。本実施形態では、上電極19は、圧電体18側に設けられた第1層40と、第1層40の圧電体18とは反対面側に設けられた第2層41との層構造を有する。第1層40は、例えば、酸化イリジウムと酸化チタンからなる。また、第1層40のイリジウム層は、加熱処理した際に圧電体18を構成する成分が第1層40中に拡散し過ぎるのを抑制すると共にチタン層の成分が圧電体18中に拡散するのを抑制するための拡散防止層としても機能する。また、第1層40のチタン層は、圧電体18の表面(上電極19側)の過剰鉛を吸着する役割を有する。
また、上電極19を構成する第2層41は、導電性を有する材料、例えば、イリジウム又はチタンとイリジウムとを積層したものを用いることができる。なお、第2層41は、上電極19全体としての電気抵抗を下げるために第1層40に比べて厚く形成されている。そして、イリジウムは内部応力が圧縮応力となっており、チタンは内部応力が略0となっているため、上電極19は、内部応力が圧縮応力となっている。
このような上電極19には、圧電体18とは反対側に突出する複数の凸部44が設けられている。凸部44は、圧電体18に含まれる鉛(Pb)が、第1層40のチタン(Ti)に吸着されて凝集することによって形成されたものであり、圧電体18の鉛と、上電極19(第1層40)に含まれる成分であるイリジウム及びチタンとによって形成されている。凝集した鉛は、第1層40および第2層41を部分的に隆起させるので、上電極19の表面(圧電体18とは反対面側)に凸部44が形成される。
このような凸部44は、平面方向(ノズル列方向及び圧力室長手方向)において、500nm以下、高さ方向(圧電体18と上電極19との積層方向)が20nm以上、50nm以下である。上電極19の表面において凸部44が占める面積の割合(凸部44の総面積の割合)は、焼成温度、アニール温度などの条件によって変化する。この点の詳細については後述する。
上記構成の圧電素子35は、下電極17と上電極19との間に駆動電圧(例えば、後述する駆動パルスDP)を印加することで変位が生じる。すなわち両電極の間に駆動電圧を印加することで、対を成す下電極17と上電極19とで挟まれている圧電体18に圧電歪みが生じる。そして、両電極間に駆動電圧を印加した際に、圧電体18に圧電歪みが生じる部分が、圧電素子35の実質的な駆動部(本実施形態においては能動部)となる。これに対し、圧電体18に圧電歪みが生じない部分が非駆動部である。また、圧電体18に圧電歪みが生じる駆動部において、圧力室31に対向する部分が可撓部であり、圧力室31の上部開口よりも外側の部分が非可撓部である。本実施形態では、下電極17、圧電体18及び上電極19の全てが圧力室31の圧力室長手方向において圧力室31の外側まで連続的に設けられている。すなわち駆動部が圧力室31の外側まで連続的に設けられている。このため、駆動部のうち圧電素子35の圧力室31に対向する部分が可撓部となり、圧力室31の外側の部分が非可撓部となっている。駆動部の圧力室長手方向の端部は、上電極19と下電極17とが平面視で重なり合う部分によって規定されており、且つ、駆動部の圧力室長手方向の端部は、上記の非可撓部上に設けられている。
圧力室形成基板29および圧電素子35が積層された連通基板23の上面には、保護基板24が配置される。この保護基板24は、例えば、ガラス、セラミックス材料、シリコン単結晶基板、金属、合成樹脂等から作製される。この保護基板24の内部には、圧電素子35に対向する領域に当該圧電素子35の駆動を阻害しない程度の大きさの収容凹部39が形成されている。
連通基板23の下面には、ノズルプレート22が接合される。ノズルプレート22は、複数のノズル27が開設された板材であり、各ノズル27が連通基板23のノズル連通路36とそれぞれ連通する状態で連通基板23に接合されている。このノズルプレート22には、所定のピッチで複数のノズル27が並設されてノズル列が形成されている。本実施形態におけるノズルプレート22は、シリコン基板から作製されている。そして、当該基板に対してエッチングを施すことにより円筒形状のノズル27が形成されている。
図5〜図10は、圧電素子35の製造工程について説明する工程図である。まず、圧力室形成基板29となるシリコン基板の上面に対し熱酸化処理等によって酸化シリコンからなる弾性膜30が形成され、続いてこの弾性膜30の上にスパッタ法等により酸化ジルコニウムからなる絶縁膜33が形成される。次に、絶縁膜33上の全面にスパッタ法等により下電極17となる金属層が形成される。なお、当該金属層と絶縁膜33との間に、両者の密着力を確保するための密着層を形成してもよい。密着層としては、ジルコニウム、チタン、酸化チタンなどを用いることができる。その後、図5に示すように、この金属層がフォトリソグラフィー法によってパターニングされ、個別電極としての下電極17が形成される。下電極17を構成する金属層としては、上述したように白金、イリジウム等の金属や、酸化イリジウム、ランタンニッケル酸化物などの導電性酸化物、及びこれらの材料の積層材料が好適に用いられる。また、下電極17は、上記スパッタ法の他に例えばPVD法(物理蒸着法)、レーザーアブレーション法などの気相成膜、スピンコート法などの液相成膜などにより形成することができる。
下電極17の圧電体18が積層される側の面に圧電体18の結晶成長を制御するための制御層が形成される。本実施形態では、圧電体18(PZT)の結晶制御としてチタンが使用される。なお、チタンは、圧電体18の成膜時に当該圧電体18内に取り込まれるため、圧電体18の形成後には膜として存在しない。結晶制御層としては、ランタンニッケル酸化物などのペロブスカイト型結晶構造の導電性酸化物などを使用することもできる。また、必ずしも結晶制御層が設けられなくてもよい。
続いて、図6に示すように、下電極17がパターニングされた絶縁膜33上の全面に圧電体18となる圧電体層が形成される。具体的には、圧電体前駆体膜形成工程において、ジルコン酸チタン酸鉛等の圧電用のセラミック材の粉末が触媒に溶解・分散されたスラリーが絶縁膜33上に塗布されて圧電体前駆体膜とされ、乾燥工程および脱脂工程を経た後、さらに焼成工程において高温で焼成されることで金属酸化物からなる圧電体層が得られる。乾燥工程では、圧電体前駆体膜が、例えば170〜180℃で8〜30分間保持される。また、脱脂工程では、圧電体前駆体膜が、300〜400℃程度の温度に加熱されて約10〜30分間保持される。なお、ここでいう脱脂とは、圧電体前駆体膜に含まれる有機成分を、例えば、NO2、CO2、H2O等として離脱させることである。また、上記焼成工程では、圧電体前駆体膜が700℃前後(±数十度の範囲)に加熱される。この焼成工程では、昇温レートが50℃/sec以上に設定される。なお、このような乾燥工程、脱脂工程、および焼成工程で用いられる加熱装置としては、例えば、ホットプレートや、赤外線ランプの照射により加熱するRTP(Rapid Thermal Processing)装置などを用いることができる。なお、下電極17がパターニングされる前に、当該下電極17の表面に一層目の圧電体層を薄く形成するようにしても良い。
圧電体18が形成されたならば、次に、図7に示すように、圧電体18上に第1層40となるイリジウム層50とチタン層51とが順に成膜される(第1層形成工程)。このイリジウム層50及びチタン層51は、スパッタリング法やCVD法等によって形成することができる。続いて、再加熱処理(ポストアニール)が行われる(アニール工程)。このポストアニールにより、第1層40のイリジウム層50及びチタン層51は、酸化されて酸化イリジウム及び酸化チタンとなる。また、このポストアニールを経ることで、図8に示すように、圧電体18に含まれる過剰な鉛が圧電体の結晶粒界に沿って第1層40に向かって拡散し、当該第1層40に吸着される。これにより、過剰鉛による圧電体18の耐電圧の低下が抑制される。この圧電体18の鉛が第1層40に吸着されることにより、第1層40には、圧電体18とは反対面側に突出した複数の凸部44が形成される。すなわち、凸部44は、第1層40の材料であるイリジウム、チタン、および、吸着された鉛とで形成されている。この凸部44の析出量(上電極19の単位面積あたりの凸部44の総面積の割合)は、焼成工程における温度とポストアニールにおける温度に応じて変化する。この点の詳細については後述する。
次に、図9に示すように、第1層40および圧電体18がパターニングされる(圧電体パターニング工程)。本実施形態では、第1層40上に形成された図示しないマスクを介して、いわゆるフォトリソグラフィーによって第1層40および圧電体18が、圧力室31毎に対応するようにエッチングされる。なお、本実施形態では、第1層40が形成された後、第1層40と圧電体18とがパターニングされる前にポストアニールが行われるが、特にこれに限定されず、第1層40となるイリジウム層50及びチタン層51が形成され、圧電体18とイリジウム層50及びチタン層51とがパターニングされた後、ポストアニールが行われるようにしてもよい。
次に、図10に示すように、第1層40、圧電体18の側面、および絶縁膜33上に亘って、例えば、イリジウム(Ir)からなる第2層41が形成されることで(第2層形成工程)、第1層40および第2層41よりなる上電極19が形成され、当該上電極19が所定形状にパターニングされる。この際、第2層41は、第1層40の表面形状に倣って形成されるため、第2層41の表面にも凸部44が形成される。以上のようにして、振動板34上に圧電素子35が形成される。
次に、上電極19における凸部44の析出量(吸着量)と、圧電素子35の特性との関係について説明する。
図11は、上電極19の表面を走査電子顕微鏡(株式会社日立ハイテクノロジーズ・電界放出形走査電子顕微鏡S−4700)により撮像した画像である。また、図12は、図11の画像において突出部44に相当する部分を白塗りで表したものである。上電極19における凸部の44の析出量に関し、ポストアニールの温度が焼成温度よりも高くなるほど多くなり、ポストアニールの温度が焼成温度よりも低くなるほど少なくなる傾向がある。本実施形態においては、縦2.4〔μm〕、横2.4〔μm〕の領域の面積を単位面積として、上電極19における当該単位面積当たりの凸部44の面積比率が、5%以上、15%以下となるように、焼成工程における温度とポストアニールにおける温度とが調整されている。具体的には、例えば、焼成工程における焼成温度とアニール工程におけるポストアニールの温度との差の絶対値が100℃以内に設定されることで、第2電極における面積比率が5%以上、15%以下となるように凸部44を形成することができる。このような凸部44の平面方向(上電極19の上面に平行な方向)における大きさは、例えば、300〔nm〕以上、500〔nm〕以下、高さ(圧電体18と上電極19の積層方向の大きさ)が20〔nm〕以上、50〔nm〕以下となる。
図11は、上電極19の表面を走査電子顕微鏡(株式会社日立ハイテクノロジーズ・電界放出形走査電子顕微鏡S−4700)により撮像した画像である。また、図12は、図11の画像において突出部44に相当する部分を白塗りで表したものである。上電極19における凸部の44の析出量に関し、ポストアニールの温度が焼成温度よりも高くなるほど多くなり、ポストアニールの温度が焼成温度よりも低くなるほど少なくなる傾向がある。本実施形態においては、縦2.4〔μm〕、横2.4〔μm〕の領域の面積を単位面積として、上電極19における当該単位面積当たりの凸部44の面積比率が、5%以上、15%以下となるように、焼成工程における温度とポストアニールにおける温度とが調整されている。具体的には、例えば、焼成工程における焼成温度とアニール工程におけるポストアニールの温度との差の絶対値が100℃以内に設定されることで、第2電極における面積比率が5%以上、15%以下となるように凸部44を形成することができる。このような凸部44の平面方向(上電極19の上面に平行な方向)における大きさは、例えば、300〔nm〕以上、500〔nm〕以下、高さ(圧電体18と上電極19の積層方向の大きさ)が20〔nm〕以上、50〔nm〕以下となる。
図13は、上電極19における単位面積あたりの凸部44の面積比率と圧電素子35の変位低下率との関係を示すグラフである。当該グラフにおいて、横軸が凸部44の上記単位面積当たりの面積比率〔%〕であり、縦軸が圧電素子35の初期変位量からの低下率〔%〕である。なお、変位量の低下率は、一定の電圧を印加したときに圧電素子35の駆動部が変位する量が初期値からどの程度変化したかを示すものである。また、Pb(1)は、圧電体18におけるチタン(Ti)及びジルコニウム(Zr)に対する鉛(Pb)の組成比が相対的に小さい圧電素子35に対応するグラフであり、Pb(2)は、当該組成比が相対的に大きい圧電素子35に対応するグラフである。そして、当該グラフは、図14に示す駆動パルスDPが数十〔kHz〕(例えば、30〔kHz〕前後)の印加周波数で圧電素子35に合計百数十億回印加されることで、当該回数だけノズル27からインクが噴射された後の当該圧電素子35の変位量の低下率を観察した結果を示している。
図14は、上記駆動パルスDPの構成を説明する波形図である。例示した駆動パルスDPは、中間電位VBを基準(初期値)として最低電位V1と最大電位V2との間で電位が変化する波形である。そして、本実施形態における駆動パルスDPの最大電位V2と最低電位V1との電位差Vh(駆動電圧Vh)は数十〔V〕(例えば、30〔V〕前後)に設定されている。このような駆動パルスDPは、この種のプリンターにおいて圧電素子の駆動に使用される周知の電圧波形であり、詳細については省略するが、当該駆動パルスDPが圧電素子35に印加されると、圧電素子35がノズル27から遠ざかる方向またはノズル27に近づく方向に変位することで、圧力室31内のインクに圧力変動が生じ、当該圧力変動によって当該圧力室31に連通するノズル27からインク滴が噴射される。なお、駆動パルスDPの波形構成は例示したものには限られず、圧電素子35を駆動してノズル27からインク等の液体を噴射させることが可能なものであれば、どのような構成のものでもよい。
図13のグラフより明らかなように、上電極19における単位面積当たりの凸部44の面積比率が5%以上、15%以下の範囲内では、圧電素子35の変位量低下率は、鉛(Pb)の組成比の多少に拘わらず概ね−2〔%〕以内に納まっている。これに対し、当該凸部44の面積比率が5〔%〕未満、あるいは、15〔%〕超となると、変位量低下率が大きくなる傾向となる。ここで、上記のアニール工程において、圧電体18の過剰鉛が上電極19側に向けて拡散することにより、圧電体18に酸素欠陥、すなわち、格子欠陥が生じる。特に、凸部44の面積比率が15〔%〕を超えると酸素欠陥が過剰となり、その結果、駆動パルスDPが繰り返し印加されて駆動された際の分極反転による疲労によって変位量の低下を招く。したがって、凸部44の単位面積当たりの面積比率が5%以上、15%以下となるようにすることで、過剰な酸素欠陥による圧電素子35の変位低下を抑制することができ、圧電素子35の信頼性を高めることができる。
図15は、凸部44の面積比率と直流電圧を所定時間印加したときの圧電素子35の破壊率との関係を示すグラフである。当該グラフにおいて、横軸が凸部44の上記単位面積当たりの面積比率〔%〕であり、縦軸が圧電素子35の破壊率である。当該グラフは、上記Pb(2)の組成比を持つ所定数の圧電素子35に対して直流電圧を200時間継続して印加した場合において、そのうちの破壊が生じた圧電素子35の割合を示している。このときの直流電圧は、上記駆動パルスDPの駆動電圧Vhに揃えられている。同図に示されるように、上電極19における単位面積当たりの凸部44の面積比率が5%以上、15%以下の範囲内であれば、圧電素子35の破壊率が概ね0.015以下と低い結果となった。これに対し、当該凸部44の面積比率が15〔%〕超となると、破壊率が急激に増加することが判った。したがって、凸部44の単位面積当たりの面積比率が5%以上、15%以下となるようにすることで、直流電圧に対する耐性を確保することが可能となり、圧電素子35の信頼性をより高めることができる。そして、このような特性劣化が抑制された圧電素子35を備える圧電デバイス(本実施形態においては圧力発生ユニット14)を備える記録ヘッド2、および、この記録ヘッド2を備えるプリンター1においては、特性劣化が抑制された圧電素デバイスを搭載するので信頼性の向上が期待できる。
なお、記録ヘッド2の構成については本実施形態において例示したものには限られず、種々の構成のものを採用することができる。また、圧電デバイスの圧電素子としては、液体噴射装置における液体噴射ヘッドに能動素子として用いられるものには限られない。例えば、圧電素子を受動素子として利用した各種センサー等にも用いることができる。要するに、支持体上に下電極(第1電極)、圧電体、および上電極(第2電極)がこの順に積層されてなるものであれば、本発明を適用することができる。
そして、上記実施形態では、液体噴射ヘッドとしてインクジェットプリンターに搭載されるインクジェット式記録ヘッドを例示したが、インク以外の液体を噴射するものにも適用することができる。例えば、液晶ディスプレイ等のカラーフィルターの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機EL(Electro Luminescence)ディスプレイ、FED(面発光ディスプレイ)等の電極形成に用いられる電極材噴射ヘッド、バイオチップ(生物化学素子)の製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等およびこれらを備える液体噴射装置にも本発明を適用することができる。
1…プリンター,2…記録ヘッド,3…インクカートリッジ,4…キャリッジ,6…記録用紙,7…キャリッジ移動機構,8…紙送り機構,9…プリントエンジン,14…圧力発生ユニット,15…ケース,17…下電極,18…圧電体,19…上電極,21…流路ユニット,22…ノズルプレート,23…連通基板,24…保護基板,26…ケース,27…ノズル,28…ノズル列,29…圧力室形成基板,30…弾性体膜,31…圧力室
32…共通液室,33…絶縁膜,34…振動板,35…圧電素子,36…ノズル連通路,37…隔壁,39…収容凹部,40…第1層,41…第2層,42…個別連通口,44…凸部,46…インク導入空部,47…収容空部,48…凹部,50…イリジウム層,51…チタン層
32…共通液室,33…絶縁膜,34…振動板,35…圧電素子,36…ノズル連通路,37…隔壁,39…収容凹部,40…第1層,41…第2層,42…個別連通口,44…凸部,46…インク導入空部,47…収容空部,48…凹部,50…イリジウム層,51…チタン層
Claims (5)
- 支持体上に第1電極、鉛を含む圧電体、および第2電極がこの順に積層された圧電素子を有する圧電デバイスであって、
前記第2電極の前記圧電体とは反対側の面に、前記圧電体に含まれる鉛が吸着した複数の凸部が設けられており、
前記第2電極における前記凸部の面積の割合が、5%以上、15%以下であることを特徴とする圧電デバイス。 - 請求項1に記載の圧電デバイスを備えたことを特徴とする液体噴射ヘッド。
- 請求項2に記載の液体噴射ヘッドを備えたことを特徴とする液体噴射射装置。
- 支持体上に第1電極、鉛を含む圧電体、および第2電極がこの順に積層されてなる圧電デバイスの製造方法であって、
前記第1電極がパターニングされた支持体上に圧電体前駆体膜を形成する圧電体前駆体膜形成工程と、
前記圧電体前駆体膜を焼成して前記圧電体を形成する焼成工程と、
前記圧電体の上に前記第2電極の第1層を形成する第1層形成工程と、
前記圧電体を再加熱して当該圧電体に含まれる鉛を前記第1層に吸着させて当該鉛が吸着した複数の凸部を当該第1層に形成するアニール工程と、
前記圧電体と前記第1層とをパターニングする圧電体パターニング工程と、
前記第1層および前記圧電体の露出部分に前記第2電極の第2層を形成する第2層形成工程と、
を含み、
前記アニール工程において、前記第2電極における前記凸部の面積の割合が5%以上、15%以下となるようにしたことを特徴とする圧電デバイスの製造方法。 - 前記焼成工程における焼成時の温度と前記アニール工程における再加熱時の温度との差の絶対値が100℃以内であることを特徴とする請求項4に記載の圧電デバイスの製造方法。
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-
2016
- 2016-02-29 JP JP2016036790A patent/JP2017157587A/ja active Pending
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