JP2017151243A - 液晶レンズ及びその製造方法 - Google Patents

液晶レンズ及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2017151243A
JP2017151243A JP2016032998A JP2016032998A JP2017151243A JP 2017151243 A JP2017151243 A JP 2017151243A JP 2016032998 A JP2016032998 A JP 2016032998A JP 2016032998 A JP2016032998 A JP 2016032998A JP 2017151243 A JP2017151243 A JP 2017151243A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
high resistance
resistance film
glass
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016032998A
Other languages
English (en)
Inventor
隆 秋元
Takashi Akimoto
隆 秋元
富美夫 村上
Tomio Murakami
富美夫 村上
田中 宏和
Hirokazu Tanaka
宏和 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Electric Glass Co Ltd
New Manpower Service Co Ltd
Original Assignee
Nippon Electric Glass Co Ltd
New Manpower Service Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Glass Co Ltd, New Manpower Service Co Ltd filed Critical Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority to JP2016032998A priority Critical patent/JP2017151243A/ja
Publication of JP2017151243A publication Critical patent/JP2017151243A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

【課題】液晶レンズの製造工程において、高抵抗膜の性能の劣化を防止する。【解決手段】液晶レンズの製造方法は、第4ガラス板5と第5ガラス板6に第2スペーサ16を陽極接合することにより、液晶層を封入するための第2ガラスセルC2を形成する工程と、第2電極8に、絶縁膜12を介して高抵抗膜13を形成することにより、高抵抗膜ユニットUを形成する工程を備える。そして、液晶レンズの製造方法は、第2ガラスセルC2に、高抵抗膜ユニットUの高抵抗膜13の側を接着剤で接着する工程とを備える。【選択図】図3

Description

本発明は、高抵抗膜を備えた液晶レンズ及びその製造方法の改良技術に関する。
公知のように、近年、印加電圧により液晶層の屈折率を変更可能な液晶素子(いわゆる液晶レンズ)が開発されている。
液晶レンズは、一般に、一対の電極と、前記一対の電極の間に配設された液晶層とを備えている。この液晶レンズの種類の中には、性能向上のために、前記一対の電極の少なくとも一方の電極における前記液晶層の側に、絶縁膜を介して高抵抗膜が形成されているものがある(例えば、特許文献1,2参照)。
また、液晶レンズは、一般に、一対のガラス板と、これらのガラス板の間に配設されたスペーサとを有し、液晶層が封入されたガラスセルを備える。そして、上述の電極や高抵抗膜は、一対のガラス板における液晶層側の面に形成される。
特開2008−203360号公報 特開2011−180373号公報 特開2015−215502号公報
ところで、ガラスセルの一対のガラス板とスペーサとの接着には、陽極接合と呼ばれる一対のガラス板とスペーサとを直接接着する方法が採用されることが多い(例えば、特許文献3参照)。これは、液晶レンズにおいて、液晶層の厚さが均一であることが重要なためである。つまり、接着に接着剤を使用すると、接着剤層の厚さのムラに起因して、ガラスセルの一対のガラス板の間の距離が均一にならない可能性があるためである。
しかしながら、この陽極接合では、対象物に熱や電圧を加える。そのため、ガラスセルを形成するために陽極接合を行なう場合、この熱や電圧によって、高抵抗膜の性能が劣化する可能性がある。
本発明は、上記事情に鑑み、液晶レンズの製造工程において、高抵抗膜の性能の劣化を防止することを技術的課題とする。
前記課題を解決するために創案された本発明に係る液晶レンズの製造方法は、一対のガラス板にスペーサを陽極接合することにより、液晶層を封入するためのガラスセルを形成する工程と、電極に、絶縁膜を介して高抵抗膜を形成することにより、高抵抗膜ユニットを形成する工程と、前記ガラスセルに、前記高抵抗膜ユニットの前記高抵抗膜の側を接着剤で接着する工程とを備えることに特徴づけられる。
この構成によれば、ガラスセルに使用されるガラス板に高抵抗膜を形成しなくて済むので、陽極接合を使用してガラスセルを形成する際にガラスセルに加えられる熱や電圧が、高抵抗膜に加えられることは無い。従って、陽極接合の際の熱や電圧によって高抵抗膜の性能が劣化することを防止できる。すなわち、本発明の液晶レンズの製造方法によれば、液晶レンズの製造工程において、高抵抗膜の性能の劣化を防止することができる。
上記の構成において、前記一対のガラス板の双方に、前記スペーサを同時に陽極接合することが好ましい。
この構成では、陽極接合する際に、ガラスセルの一対のガラス板の双方に熱や電圧を加える必要があるので、ガラスセルのガラス板に高抵抗膜を形成する従来の構成では、高抵抗膜の性能が劣化する可能性が高い。従って、上記の構成の本発明の作用及び効果が、より有効なものとなる。
上記の構成において、前記高抵抗膜をIGZOで形成することが好ましい。
この構成のIGZO(Indium Gallium Zinc Oxide)は、電気的・熱的に抵抗値の経時的な安定が図れるので、高抵抗膜に好ましい材料である。しかしながら、高抵抗膜としてIGZO膜を使用する場合、陽極接合での熱や電圧で性能が劣化する可能性が高い。従って、上記の構成の本発明が、更に有効なものとなる。
この構成において、前記絶縁膜を、可視光で透明な非酸化物で形成することが好ましい。
この構成では、成膜過程において、非酸化物の絶縁膜上にIGZO膜を成膜することになる。絶縁膜が酸素を含んでいないことから、成膜過程で、IGZO膜における絶縁膜との界面の酸素欠損量が乱されることが無く安定する。従って、成膜過程で、IGZO膜の抵抗値が変化することが無くなり、成膜されるIGZO膜の抵抗値を所望の値にすることが可能となる。従って、IGZO膜を高抵抗膜として使用する際に好適である。しかしながら、この構成であっても、高抵抗膜としてIGZO膜を使用する場合、陽極接合での熱や電圧で性能が劣化する可能性が高い。従って、上記の構成の本発明が、更に有効なものとなる。
また、前記課題を解決するために創案された本発明に係る液晶レンズは、一対のガラス板と、これらのガラス板に陽極接合されたスペーサとを有し、液晶層が封入されたガラスセルと、電極と、この電極に絶縁膜を介して形成された高抵抗膜とを有する高抵抗膜ユニットとを備え、前記ガラスセルと前記高抵抗膜ユニットの前記高抵抗膜の側が、接着剤層で接着された状態であることに特徴づけられる。
この構成によれば、冒頭の構成の液晶レンズの製造方法と実質的に同様の作用及び効果を得ることができる。
以上のように本発明によれば、液晶レンズの製造工程において、高抵抗膜の性能の劣化を防止することができる。
本発明の実施形態に係る液晶レンズを示す概略断面図である。 液晶レンズの電極を示す概略平面図である。 本発明の実施形態に係る液晶レンズの製造方法を説明するための概略断面図である。 本発明の別の実施形態に係る液晶レンズを示す概略断面図である。
以下、本発明を実施するための形態について図面に基づき説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る液晶レンズを示す概略断面図である。この液晶レンズ1は、第1ガラス板2と、第2ガラス板3と、第3ガラス板4と、第4ガラス板5と、第5ガラス板6とを備える。第1ガラス板2には、第1電極7が形成されている。第2ガラス板3には、第2電極8と共に第3電極9が形成されている。
第1電極7と、第2電極8及び第3電極9の間には、第1液晶層10及び第2液晶層11が配設されている。第3ガラス板4と第4ガラス板5は、第1液晶層10と第2液晶層11の間に配設されている。図2に示すように、第2電極8は孔8aを有し、この孔8aの中に第3電極9は配置されている。
そして、図1に示すように、第2電極8及び第3電極9における第2液晶層11の側に、絶縁膜12を介して高抵抗膜13が形成されている。また、高抵抗膜13の第2液晶層11の側にも絶縁膜12が形成されている。
このように、液晶レンズ1は、一対の電極(第1電極7と第2電極8)と、前記一対の電極の間に配設された液晶層(第1液晶層10及び第2液晶層11)とを備えている。そして、液晶レンズ1は、前記一対の電極の少なくとも一方の電極(第2電極8)における前記液晶層の側に、絶縁膜12を介して形成された高抵抗膜13を備えている。
また、図1に示すように、第1ガラス板2と第3ガラス板4との間に、第1液晶層10を封入するための第1スペーサ14が配設される。第1スペーサ14は、第1ガラス板2と第3ガラス板4のそれぞれに対して陽極接合された状態である。
また、第1電極7の第1液晶層10の側と、第3ガラス板4の第1液晶層10の側には、それぞれ、第1配向膜15,15が配設されている。第1配向膜15,15は、第1スペーサ14の内周側に配設されている。
第4ガラス板5と第5ガラス板6との間に、第2液晶層11を封入するための第2スペーサ16が配設されている。第2スペーサ16は、第4ガラス板5と第5ガラス板6のそれぞれに対して陽極接合された状態である。
また、第4ガラス板5の第2液晶層11の側と、第5ガラス板6の第2液晶層11の側には、それぞれ第2配向膜17,17が配設されている。第2配向膜17,17は、第2スペーサ16の内周側に配設されている。
第1ガラス板2と第3ガラス板4と第1スペーサ14と第1配向膜15,15と第1電極7とで、第1液晶層10が封入された第1ガラスセルC1が構成されている。
第4ガラス板5と第5ガラス板6と第2スペーサ16と第2配向膜17,17とで、第2液晶層11が封入された第2ガラスセルC2が構成されている。
第2ガラス板3と第2電極8と第3電極9と高抵抗膜13と絶縁膜12,12とで、高抵抗膜ユニットUが構成されている。
そして、第1ガラスセルC1の第3ガラス板4と第2ガラスセルC2の第4ガラス板5は、接着剤層18で接着された状態である。第2ガラスセルC2の第5ガラス板6と高抵抗膜ユニットUの絶縁膜12も、接着剤層18で接着された状態である。
第1液晶層10と第2液晶層11の液晶分子の配向方向は、相互に直交しており、これにより、第1液晶層10及び第2液晶層11を、自然光が透過可能となっている。
液晶レンズ1の使用時には、第1電極7は接地され、第2電極8と第3電極9に、電圧が印加される。第2電極8と第3電極9に印加される電圧を調節することにより、第1液晶層10及び第2液晶層11の液晶分子の配向状態が変化し、液晶レンズ1の焦点距離が変化する。
第1〜第5ガラス板2〜6としては、アルカリ金属成分を含有するガラスが用いられる。
第1及び第2スペーサ14,16は、金属又は半導体から形成され、例えば、Al,Si,Fe,Ti,Ni,Cr,Cuのうちの少なくとも一種を含む材料から形成されることが好ましい。この実施形態では、第1及び第2スペーサ14,16は、Alで形成されている。
絶縁膜12は、可視光で透明な非酸化物で形成されており、可視光で透明な非酸化物としては、例えば、窒化物、フッ化物、硫化物等が挙げられる。可視光で透明な窒化物としては、例えば、AlN、SiN等が挙げられる。可視光で透明なフッ化物としては、例えば、MgF2、CF2等が挙げられる。可視光で透明な硫化物としては、例えば、ZnS等が挙げられる。
なお、絶縁膜12は、酸化物で形成されていてもよく、その場合、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウムのうちの少なくとも一種を含むことが好ましい。
絶縁膜12の厚さは、300〜1000nmが好ましく、300〜600nmがより好ましく、300〜400nmが最も好ましい。絶縁膜12の厚さが300nmより薄い場合には、第2電極8及び第3電極9と、高抵抗膜13との間で、絶縁破壊が生じる可能性がある。絶縁膜12の厚さが1000nmより厚い場合には、第1電極7と、第2電極8及び第3電極9により形成される電界が第1液晶層10及び第2液晶層11に十分に作用しない可能性がある。
高抵抗膜13は、IGZOで形成されている。この高抵抗膜13は、例えばスパッタ法やCVD法等により形成される。
なお、高抵抗膜13は、IGZO以外であってもよく、その場合、酸化亜鉛、アルミニウム亜鉛酸化物、インジウムスズ酸化物、アンチモンスズ酸化物、ガリウム亜鉛酸化物、シリコン亜鉛酸化物、スズ亜鉛酸化物、ホウ素亜鉛酸化物、ゲルマニウム亜鉛酸化物のうちの少なくとも一種を含むことが好ましい。
高抵抗膜13の厚さは、20〜1000nmが好ましく、50〜500nmがより好ましく、70〜200nmが最も好ましい。高抵抗膜13の厚さが20nmより薄い場合、高抵抗膜13の厚さが1000nmより厚い場合の何れの場合も、高抵抗膜13としての機能が十分に発揮できない可能性がある。
高抵抗膜13のシート抵抗は、100k〜100GΩ/sqが好ましく、500k〜10GΩ/sqがより好ましく、1M〜1GΩ/sqが最も好ましい。高抵抗膜13のシート抵抗が、100kΩ/sqより小さい場合、100GΩ/sqより大きい場合の何れの場合も、高抵抗膜13としての機能が十分に発揮できない可能性がある。
接着剤層18を形成するために使用される接着剤としては、高い透過率を得るための透明性や、被接着物との界面反射を抑えるための屈折率整合性を有するものが適しており、例えば、紫外線硬化と熱硬化のハイブリッドタイプのエポキシ系接着剤等が挙げられる。
次に、本実施形態に係る液晶レンズ1の製造方法を、図3を参照しつつ説明する。
図3に示す第1ガラスセルC1は、次のように形成する。第1ガラス板2に第1電極7と第1配向膜15を形成する。一方で、第3ガラス板4に第1配向膜15を形成する。その後、第1ガラス板2と第3ガラス板4に第1スペーサ14を同時に陽極接合する。これにより、図3に示す第1ガラスセルC1が形成される。
図3に示す第2ガラスセルC2は、次のように形成する。第4ガラス板5に第2配向膜17を形成する。一方で、第5ガラス板6に第2配向膜17を形成する。その後、第4ガラス板5と第5ガラス板6に第2スペーサ16を同時に陽極接合する。これにより、第2ガラスセルC2が形成される。
図3に示す高抵抗膜ユニットUは、第2ガラス板3に第2電極8と第3電極9を形成した後、絶縁膜12、高抵抗膜13、絶縁膜12を順次形成することにより、形成される。
このようにして、第1ガラスセルC1、第2ガラスセルC2及び高抵抗膜ユニットUが形成された後、第1ガラスセルC1の第3ガラス板4に、第2ガラスセルC2の第4ガラス板5を、接着剤により接着する。そして、第2ガラスセルC2の第5ガラス板6に、高抵抗膜ユニットUの絶縁膜12を接着剤により接着する。
その後、第1ガラスセルC1と第2ガラスセルC2に液晶を封入することにより、それぞれの内部に、第1液晶層10と第2液晶層11を形成することで、図1に示す液晶レンズ1が製造される。
以上のように構成された本実施形態の液晶レンズ1の製造方法では以下の効果を享受できる。
第1及び第2ガラスセルC1,C2に使用される第1,第3〜第5ガラス板2,4〜6に高抵抗膜13を形成しなくて済むので、陽極接合により第1及び第2ガラスセルC1,C2を形成する際に第1及び第2ガラスセルC1,C2に加えられる熱や電圧が、高抵抗膜13に加えられることは無い。従って、陽極接合の際の熱や電圧によって高抵抗膜13の性能が劣化することを防止できる。すなわち、本実施形態の液晶レンズ1の製造方法によれば、液晶レンズ1の製造工程において、高抵抗膜13の性能の劣化を防止することができる。
本発明は、上記実施形態に限定されず、その技術的思想の範囲で様々な変形が可能である。例えば、上記実施形態では、第2電極8の第2液晶層11の側に、絶縁膜12を介して高抵抗膜13が形成されていたが、図4に示すように、第1電極7の第1液晶層10の側にも、絶縁膜12を介して高抵抗膜13が形成されていてもよい。
この場合、第1ガラスセルC1内に第1電極7が配設されていない。そして、第6ガラス板19と第1電極7と高抵抗膜13と絶縁膜12,12とで、第2高抵抗膜ユニットU2が構成されている。第1ガラスセルC1の第1ガラス板2と第2高抵抗膜ユニットU2の絶縁膜12が、接着剤層18で接着された状態である。製造する際には、第1ガラスセルC1の第1ガラス板2に、第2高抵抗膜ユニットU2の絶縁膜12を接着剤により接着する。その他の構成は、上記実施形態と同様なので説明を省略する。
また、上記実施形態では、液晶レンズ1は、第1及び第2ガラスセルC1,C2を備えていたが、第1ガラスセルC1のみを備えていてもよい。
また、上記実施形態では、第1ガラスセルC1及び第2ガラスセルC2を形成する際に、一対のガラス板の双方に、スペーサを同時に陽極接合していたが、一対のガラス板の一方にスペーサを陽極接合してから他方にスペーサを陽極接合してもよい。
また、上記実施形態では、第1ガラスセルC1及び第2ガラスセルC2を形成する際に、ガラス板に、直接スペーサを陽極接合していたが、ガラス板に、金属膜又は半導体膜を介してスペーサを陽極接合してもよい。この場合には、スペーサの材料として、アルカリ金属成分を含有するガラスを使用することができる。
また、上記実施形態では、第3電極9が、第2電極8の孔8aの中に配置されていたが、第2電極8に対して、第2液晶層11とは反対側に、ガラス板を介して配設されていてもよい。また、第3電極9が、全く配設されていなくてもよい。
1 液晶レンズ
2 第1ガラス板
3 第2ガラス板
4 第3ガラス板
5 第4ガラス板
6 第5ガラス板
7 第1電極
8 第2電極
9 第3電極
10 第1液晶層
11 第2液晶層
12 絶縁膜
13 高抵抗膜
14 第1スペーサ
16 第2スペーサ
18 接着剤層
19 第6ガラス板
C1 第1ガラスセル
C2 第2ガラスセル
U 高抵抗膜ユニット
U2 第2高抵抗膜ユニット

Claims (5)

  1. 一対のガラス板にスペーサを陽極接合することにより、液晶層を封入するためのガラスセルを形成する工程と、
    電極に、絶縁膜を介して高抵抗膜を形成することにより、高抵抗膜ユニットを形成する工程と、
    前記ガラスセルに、前記高抵抗膜ユニットの前記高抵抗膜の側を接着剤で接着する工程とを備えることを特徴とする液晶レンズの製造方法。
  2. 前記一対のガラス板の双方に、前記スペーサを同時に陽極接合することを特徴とする請求項1に記載の液晶レンズの製造方法。
  3. 前記高抵抗膜をIGZOで形成することを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶レンズの製造方法。
  4. 前記絶縁膜を、可視光で透明な非酸化物で形成することを特徴とする請求項3に記載の液晶レンズの製造方法。
  5. 一対のガラス板と、これらのガラス板に陽極接合されたスペーサとを有し、液晶層が封入されたガラスセルと、
    電極と、この電極に絶縁膜を介して形成された高抵抗膜とを有する高抵抗膜ユニットとを備え、
    前記ガラスセルと前記高抵抗膜ユニットの前記高抵抗膜の側が、接着剤層で接着された状態であることを特徴とする液晶レンズ。
JP2016032998A 2016-02-24 2016-02-24 液晶レンズ及びその製造方法 Pending JP2017151243A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016032998A JP2017151243A (ja) 2016-02-24 2016-02-24 液晶レンズ及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016032998A JP2017151243A (ja) 2016-02-24 2016-02-24 液晶レンズ及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017151243A true JP2017151243A (ja) 2017-08-31

Family

ID=59740634

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016032998A Pending JP2017151243A (ja) 2016-02-24 2016-02-24 液晶レンズ及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2017151243A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102062243B1 (ko) 박막 트랜지스터, 및 화상 표시 장치
JP6167519B2 (ja) 液晶素子及び液晶素子用セル
JP2010517313A (ja) 半透明結晶質シリコン薄膜太陽電池
CN112955811B (zh) 电光元件用的复合基板及其制造方法
US9041889B2 (en) Array substrate and liquid crystal display panel
US9759952B2 (en) Glass cell, liquid crystal element, glass cell manufacturing method, and liquid crystal element manufacturing method
JP2017151243A (ja) 液晶レンズ及びその製造方法
JP7356899B2 (ja) 液晶光偏向素子及び液晶光偏向素子の製造方法
JP2004319655A (ja) 液晶表示装置とその製造方法
JP6019903B2 (ja) 液晶素子の製造方法及び液晶素子
KR101982095B1 (ko) 씰 패턴을 구비한 액정표시장치
KR101980752B1 (ko) 박막트랜지스터, 액정표시소자 및 그 제조방법
CN105336743B (zh) 薄膜晶体管基板以及显示面板
JP4736745B2 (ja) 液晶表示装置の製造方法
WO2010134446A1 (ja) 電子部品素子
WO2014203595A1 (ja) 液晶レンズ
JP5538834B2 (ja) 液晶光学変調素子
JP2017072817A (ja) 液晶レンズ及びその製造方法
TWI422912B (zh) 基板模組、顯示面板以及觸控面板
KR102294298B1 (ko) 곡면 투명 기판, 이를 갖는 곡면 표시 패널 및 이의 제조 방법
JP2015215502A (ja) ガラスセル、液晶素子及びこれらの製造方法
JP6226199B2 (ja) ガラスセル、及び液晶素子、並びに陽極接合方法
JP2017161626A (ja) 液晶レンズ用ガラスセルの製造方法及び液晶レンズの製造方法
WO2014203596A1 (ja) 液晶レンズ
WO2020045409A1 (ja) 光学装置及び導電膜付きヒーター基板