JP2017161626A - 液晶レンズ用ガラスセルの製造方法及び液晶レンズの製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】液晶レンズ用ガラスセルの製造工程において、陽極接合の加熱に起因するガラスセルの反りを抑制する。【解決手段】液晶レンズ用ガラスセルの製造方法は、第1仮接合工程と、第2仮接合工程とを備える。前記第1仮接合工程では、前記積層工程後に、ガラス積層体19において、第1ガラス板5の側を加熱した状態、且つ、第2ガラス板6の側を非加熱とした状態で、第1ガラス板5に第2スペーサ16を陽極接合により仮接合する。前記第2仮接合工程では、前記第1仮接合工程後に、ガラス積層体19において、第1ガラス板5の側を非加熱とした状態、且つ、第2ガラス板6の側を加熱した状態で、第2ガラス板6に第2スペーサ16を陽極接合により仮接合する。【選択図】図7

Description

本発明は、液晶レンズ用ガラスセルの製造方法及び液晶レンズの製造方法の改良技術に関する。
公知のように、近年、印加電圧により液晶層の屈折率を変更可能な液晶素子(いわゆる液晶レンズ)が開発されている。
液晶レンズは、一般に、一対のガラス板と、これらのガラス板の間に配設されたスペーサとを有するガラスセルを備える。ガラスセルでは、スペーサによって一対のガラス板の間に形成された空間に液晶が封入されている。
ガラスセルにおいて、一対のガラス板とスペーサとの接着には、接着剤を使用せずに陽極接合と呼ばれる方法が採用されることが多い(例えば、特許文献1参照)。これは、液晶レンズにおいて、液晶の厚さが均一であることが重要なためである。つまり、接着に接着剤を使用すると、接着剤層の厚さのムラに起因して、ガラスセルの一対のガラス板の間の距離が均一にならない可能性があるためである。
特開2015−215502号公報
しかしながら、この陽極接合では、接合の対象物を加熱する必要があるため、この加熱に起因して、ガラスセルに反りが発生する可能性がある。
本発明は、上記事情に鑑み、液晶レンズ用ガラスセルの製造工程において、陽極接合の加熱に起因するガラスセルの反りを抑制することを技術的課題とする。
前記課題を解決するために本願発明者らは鋭意研究の結果、次のような知見を得た。スペーサは、通常、ガラス板より熱膨張率が大きい金属又は半導体で形成されている。陽極接合の加熱により、接合時には、ガラス板とスペーサは膨張している。陽極接合の終了後、ガラスセルが常温に戻る際には、熱膨張率が大きいスペーサの方がガラス板より大きく収縮する。この収縮の差によりガラスセルに反りが生じる。つまり、ガラスセルの反りは、ガラスセルに使用されるガラス板とスペーサの熱膨張率の差に起因する。
この知見に基づいて創案された本発明に係る液晶レンズ用ガラスセルの製造方法は、金属又は半導体で形成されているスペーサを介して積層され、前記スペーサに陽極接合された第1ガラス板及び第2ガラス板を有する液晶レンズ用ガラスセルを製造する方法において、前記第1及び第2ガラス板を、前記スペーサを介して積層することにより、ガラス積層体を形成する積層工程と、前記積層工程後に、前記ガラス積層体において、前記第1ガラス板の側を加熱した状態、且つ、前記第2ガラス板の側を非加熱とした状態で、前記第1ガラス板に前記スペーサを陽極接合により仮接合する仮接合工程と、前記仮接合工程の後に、前記ガラス積層体において、前記第1及び第2ガラス板の双方の側を加熱した状態で、前記第1及び第2ガラス板に前記スペーサを陽極接合により本接合する両側本接合工程とを備えることに特徴づけられる。
ここで、「非加熱」には、加熱しない場合だけでなく、積極的に冷却する場合も含む(以下、同様)。また、「陽極接合により仮接合する」とは、陽極接合の作業において、電流がまだ流れる状態で電圧の印加を停止することであり、陽極接合自体は完了しないが、ある程度の接着力が得られる(以下、同様)。また、「陽極接合により本接合する」とは、陽極接合の作業において、電流が流れなくなるまで電圧を印加することであり、陽極接合自体が完了する(以下、同様)。
この構成によれば、仮接合工程で、第1ガラス板にスペーサを仮接合する。そして、第1仮接合工程では、ガラス積層体において、スペーサを仮接合する第1ガラス板とは反対側の第2ガラス板の側が非加熱状態である。
従って、仮接合の際には、スペーサへの加熱が抑制され、スペーサの膨張が抑制され、これにより、スペーサの膨張とガラス板の膨張との差が抑制される。このため、常温に戻した時に、ガラス積層体の反りが抑制される。そして、その後の両側本接合工程で、この反りが抑制されたガラス積層体を本接合してガラスセルを完成させる。そのため、両側本接合工程後のガラスセルは、反りが抑制されたものとなる。すなわち、本発明の液晶レンズ用ガラスセルの製造方法によれば、液晶レンズ用ガラスセルの製造工程において、陽極接合の加熱に起因するガラスセルの反りを抑制することができる。
上記の構成において、前記仮接合工程と前記両側本接合工程との間に、前記ガラス積層体において、前記第1ガラス板の側を非加熱とした状態、且つ、前記第2ガラス板の側を加熱した状態で、前記第2ガラス板に前記スペーサを陽極接合により仮接合する第2の仮接合工程を備えることが好ましい。
この構成によれば、仮接合工程の後に第2の仮接合工程を備える。そして、仮接合工程と第2の仮接合工程では、仮接合するガラス板が相互に反対側であるので、ある程度、反りが相殺される。そのため、第2の仮接合工程後のガラス積層体の反りが抑制される。このガラス積層体の反りの抑制効果と、冒頭の構成によるガラス積層体の反りの抑制効果とが相俟って、ガラス積層体の反りが更に抑制されることになる。従って、両側本接合工程後のガラスセルは、更に、反りが抑制されたものとなる。
上記の構成において、前記第1及び第2仮接合工程の少なくとも一方で、前記ガラス積層体に対し、前記第1及び第2ガラス板の双方の側に陽極接合用の電極が配置され、前記電極の双方が接地されていることが好ましい。
この構成によれば、スパーク等によりガラス積層体にダメージが生じる事態を回避できる。
また、上記の知見に基づいて創案された本発明に係る液晶レンズ用ガラスセルの製造方法は、金属又は半導体で形成されているスペーサを介して積層され、前記スペーサに陽極接合された第1ガラス板及び第2ガラス板を有する液晶レンズ用ガラスセルを製造する方法において、前記第1及び第2ガラス板を、前記スペーサを介して積層することにより、ガラス積層体を形成する積層工程と、前記積層工程後に、前記ガラス積層体において、前記第1ガラス板の側を加熱した状態、且つ、前記第2ガラス板の側を非加熱とした状態で、前記第1ガラス板に前記スペーサを陽極接合により本接合する第1片側本接合工程と、前記第1片側本接合工程後に、前記ガラス積層体において、前記第1ガラス板の側を非加熱とした状態、且つ、前記第2ガラス板の側を加熱した状態で、前記第2ガラス板に前記スペーサを陽極接合により本接合する第2片側本接合工程とを備えることに特徴づけられる。
この構成によれば、第1片側本接合工程で、第1ガラス板にスペーサを本接合し、第2片側本接合工程で、第2ガラス板にスペーサを本接合する。そして、第1片側本接合工程では、ガラス積層体において、スペーサを本接合する第1ガラス板とは反対側の第2ガラス板の側が非加熱状態である。第2片側本接合工程では、ガラス積層体において、スペーサを本接合する第2ガラス板とは反対側の第1ガラス板の側が非加熱状態である。
従って、本接合の際には、スペーサへの加熱が抑制され、スペーサの膨張が抑制され、これにより、スペーサの膨張とガラス板の膨張との差が抑制される。このため、第1片側本接合工程の後では、常温に戻した時に、ガラス積層体の反りが抑制される。そして、第2片側本接合工程の後では、常温に戻した時に、完成したガラスセルの反りが抑制される。すなわち、本発明の液晶レンズ用ガラスセルの製造方法によれば、液晶レンズ用ガラスセルの製造工程において、陽極接合の加熱に起因するガラスセルの反りを抑制することができる。
また、この構成によれば、第1片側本接合工程の後に第2片側本接合工程を備える。そして、第1片側本接合工程と第2片側本接合工程では、本接合するガラス板が相互に反対側であるので、ある程度、反りが相殺される。この効果によっても、第2片側本接合工程後のガラスセルの反りが抑制される。
この構成において、前記第1及び第2片側本接合工程の少なくとも一方で、前記ガラス積層体に対し、前記第1及び第2ガラス板の双方の側に陽極接合用の電極が配置され、前記電極の双方が接地されていることが好ましい。
この構成によれば、スパーク等によりガラス積層体にダメージが生じる事態を回避できる。
上記の構成において、前記第1及び第2ガラス板の厚さが1000μm以下であることが好ましい。
ガラス板の厚さが1000μm以下の場合、ガラス板に可撓性が生じるので、従来の方法でガラスセルを製造すると、より反り易くなる。従って、上記の構成の製造方法が、より有効となる。
また、上記の構成の液晶レンズ用ガラスセルの製造方法を備えたことを特徴とする液晶レンズの製造方法では、上述した作用及び効果を得ることができる。
以上のように本発明によれば、液晶レンズ用ガラスセルの製造工程において、陽極接合の加熱に起因するガラスセルの反りを抑制することができる。
本発明の第1実施形態に係る液晶レンズを示す概略断面図である。 液晶レンズの電極を示す概略平面図である。 本発明の第1実施形態に係る液晶レンズ用ガラスセルの製造方法を示すフローチャートである。 本発明の第1実施形態に係る液晶レンズ用ガラスセルの製造方法を説明するための概略断面図である。 本発明の第1実施形態に係る液晶レンズ用ガラスセルの製造方法を説明するための概略断面図である。 本発明の第1実施形態に係る液晶レンズ用ガラスセルの製造方法を説明するための概略断面図である。 本発明の第1実施形態に係る液晶レンズ用ガラスセルの製造方法を説明するための概略断面図である。 本発明の第2実施形態に係る液晶レンズ用ガラスセルの製造方法を示すフローチャートである。
以下、本発明を実施するための形態について図面に基づき説明する。
図1は、本発明の第1実施形態に係る液晶レンズを示す概略断面図である。この液晶レンズ1は、複数のガラス板2〜6を備える。第1ガラス板2には、第1電極7が形成されている。ガラス板3には、第2電極8と共に第3電極9が形成されている。
第1電極7と、第2電極8及び第3電極9の間には、第1液晶層10及び第2液晶層11が配設されている。第2ガラス板4と第1ガラス板5は、第1液晶層10と第2液晶層11の間に配設されている。図2に示すように、第2電極8は孔8aを有し、この孔8aの中に第3電極9は配置されている。
そして、図1に示すように、第2電極8及び第3電極9における第2液晶層11の側に、絶縁膜12を介して高抵抗膜13が形成されている。また、高抵抗膜13の第2液晶層11の側にも絶縁膜12が形成されている。
このように、液晶レンズ1は、一対の電極(第1電極7と第2電極8)と、前記一対の電極の間に配設された液晶層(第1液晶層10及び第2液晶層11)とを備えている。そして、液晶レンズ1は、前記一対の電極の少なくとも一方の電極(第2電極8)における前記液晶層の側に、絶縁膜12を介して形成された高抵抗膜13を備えている。
また、図1に示すように、第1ガラス板2と第2ガラス板4との間に、第1液晶層10を封入するための第1スペーサ14が配設される。第1スペーサ14は、第1ガラス板2と第2ガラス板4のそれぞれに対して陽極接合された状態である。
また、第1電極7の第1液晶層10の側と、第2ガラス板4の第1液晶層10の側には、それぞれ、第1配向膜15,15が配設されている。第1配向膜15,15は、第1スペーサ14の内周側に配設されている。
第1ガラス板5と第2ガラス板6との間に、第2液晶層11を封入するための第2スペーサ16が配設されている。第2スペーサ16は、第1ガラス板5と第2ガラス板6のそれぞれに対して陽極接合された状態である。
また、第1ガラス板5の第2液晶層11の側と、第2ガラス板6の第2液晶層11の側には、それぞれ第2配向膜17,17が配設されている。第2配向膜17,17は、第2スペーサ16の内周側に配設されている。
第1ガラス板2と第2ガラス板4と第1スペーサ14と第1配向膜15,15と第1電極7とで、第1液晶層10が封入された第1ガラスセルC1(液晶レンズ用ガラスセル)が構成されている。換言すれば、第1ガラスセルC1は、第1スペーサ14を介して積層され、第1スペーサ14に陽極接合された第1ガラス板2及び第2ガラス板4を有し、液晶が封入されるものである。
第1ガラス板5と第2ガラス板6と第2スペーサ16と第2配向膜17,17とで、第2液晶層11が封入された第2ガラスセルC2(液晶レンズ用ガラスセル)が構成されている。換言すれば、第2ガラスセルC2は、第2スペーサ16を介して積層され、第2スペーサ16に陽極接合された第1ガラス板5及び第2ガラス板6を有し、液晶が封入されるものである。
ガラス板3と第2電極8と第3電極9と高抵抗膜13と絶縁膜12,12とで、高抵抗膜ユニットUが構成されている。
そして、第1ガラスセルC1の第2ガラス板4と第2ガラスセルC2の第1ガラス板5は、接着剤層18で接着された状態である。第2ガラスセルC2の第2ガラス板6と高抵抗膜ユニットUの絶縁膜12も、接着剤層18で接着された状態である。
第1液晶層10と第2液晶層11の液晶分子の配向方向は、相互に直交しており、これにより、第1液晶層10及び第2液晶層11を、自然光が透過可能となっている。
液晶レンズ1の使用時には、第1電極7は接地され、第2電極8と第3電極9に、電圧が印加される。第2電極8と第3電極9に印加される電圧を調節することにより、第1液晶層10及び第2液晶層11の液晶分子の配向状態が変化し、液晶レンズ1の焦点距離が変化する。
ガラス板2〜6としては、アルカリ金属成分を含有するガラスが用いられる。ガラス板2〜6の厚さは、例えば、1000μm以下であってもよく、500μm以下であってもよく、300μm以下であってもよい。また、ガラス板2〜6の厚さは、例えば、1μm以上であってもよく、5μm以上であってもよく、10μm以上であってもよい。
本実施形態では、第1ガラス板2及び第2ガラス板4は、相互に厚さが異なり、第1ガラス板2は、第2ガラス板4より厚い。また、第1ガラス板5及び第2ガラス板6は、相互に厚さが異なり、第1ガラス板5は、第2ガラス板6より薄い。勿論、本発明は、これに限定されるものではない。
第1及び第2スペーサ14,16は、その熱膨張率が、ガラス板2〜6の熱膨張率より大きい金属又は半導体で形成されている。第1及び第2スペーサ14,16は、例えば、Al,Ti,Niのうちの少なくとも一種を含む材料から形成されることが好ましい。この実施形態では、第1及び第2スペーサ14,16は、Alで形成されている。
第1及び第2スペーサ14,16の熱膨張率は、ガラス板2〜6の熱膨張率に対し、例えば、1.5倍以上であってもよく、2倍以上であってもよく、3倍以上であってもよい。
絶縁膜12は、可視光で透明な非酸化物で形成されており、可視光で透明な非酸化物としては、例えば、窒化物、フッ化物、硫化物等が挙げられる。可視光で透明な窒化物としては、例えば、AlN、SiN等が挙げられる。可視光で透明なフッ化物としては、例えば、MgF2、CF2等が挙げられる。可視光で透明な硫化物としては、例えば、ZnS等が挙げられる。
なお、絶縁膜12は、酸化物で形成されていてもよく、その場合、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウムのうちの少なくとも一種を含むことが好ましい。
絶縁膜12の厚さは、100〜1000nmが好ましく、100〜400nmがより好ましく、100〜200nmが最も好ましい。絶縁膜12の厚さが100nmより薄い場合には、第2電極8及び第3電極9と、高抵抗膜13との間で、絶縁破壊が生じる可能性がある。絶縁膜12の厚さが1000nmより厚い場合には、第1電極7と、第2電極8及び第3電極9により形成される電界が第1液晶層10及び第2液晶層11に十分に作用しない可能性がある。
高抵抗膜13は、IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide)で形成されている。この高抵抗膜13は、例えばスパッタ法やCVD法等により形成される。
なお、高抵抗膜13は、IGZO以外であってもよく、その場合、酸化亜鉛、アルミニウム亜鉛酸化物、インジウムスズ酸化物、アンチモンスズ酸化物、ガリウム亜鉛酸化物、シリコン亜鉛酸化物、スズ亜鉛酸化物、ホウ素亜鉛酸化物、ゲルマニウム亜鉛酸化物のうちの少なくとも一種を含むことが好ましい。
高抵抗膜13の厚さは、20〜1000nmが好ましく、50〜500nmがより好ましく、70〜200nmが最も好ましい。高抵抗膜13の厚さが20nmより薄い場合、高抵抗膜13の厚さが1000nmより厚い場合の何れの場合も、高抵抗膜13としての機能が十分に発揮できない可能性がある。
高抵抗膜13のシート抵抗は、100k〜100GΩ/sqが好ましく、500k〜10GΩ/sqがより好ましく、1M〜1GΩ/sqが最も好ましい。高抵抗膜13のシート抵抗が、100kΩ/sqより小さい場合、100GΩ/sqより大きい場合の何れの場合も、高抵抗膜13としての機能が十分に発揮できない可能性がある。
接着剤層18を形成するために使用される接着剤としては、高い透過率を得るための透明性や、被接着物との界面反射を抑えるための屈折率整合性を有するものが適しており、例えば、紫外線硬化と熱硬化のハイブリッドタイプのエポキシ系接着剤等が挙げられる。
本実施形態に係る液晶レンズ1は、次のように製造される。
予め製造された第1ガラスセルC1の第2ガラス板4に、予め製造された第2ガラスセルC2の第1ガラス板5を、接着剤により接着する。そして、第2ガラスセルC2の第2ガラス板6に、予め製造された高抵抗膜ユニットUの絶縁膜12を接着剤により接着する。
その後、第1ガラスセルC1と第2ガラスセルC2に液晶を封入することにより、それぞれの内部に、第1液晶層10と第2液晶層11を形成することで、図1に示す液晶レンズ1が製造される。
高抵抗膜ユニットUは、ガラス板3に第2電極8と第3電極9を形成した後、絶縁膜12、高抵抗膜13、絶縁膜12を順次形成することにより、製造される。
第1ガラスセルC1は、次のように製造される。第1ガラス板2に第1電極7と第1配向膜15を形成する。一方で、第2ガラス板4に第1配向膜15を形成する。その後、第1ガラス板2と第2ガラス板4に第1スペーサ14を、後述のように陽極接合する。これにより、第1ガラスセルC1が製造される。
第2ガラスセルC2は、次のように製造される。第1ガラス板5に第2配向膜17を形成する。一方で、第2ガラス板6に第2配向膜17を形成する。その後、第1ガラス板5と第2ガラス板6に第2スペーサ16を、後述のように陽極接合する。これにより、第2ガラスセルC2が製造される。
次に、本実施形態に係る液晶レンズ用ガラスセルの製造方法の陽極接合について、図3〜図7を参照しつつ詳細に説明する。なお、図4〜図7は、第2ガラスセルC2を製造する場合を示しているが、第1ガラスセルC1を製造する場合も、部品が異なるだけで、陽極接合の方法自体は同様である。
図3に示すように、液晶レンズ用ガラスセルの製造方法は、積層工程S1と、第1仮接合工程S2と、冷却工程S3と、第2仮接合工程S4と、冷却工程S5と、両側本接合工程S6と、冷却工程S7とを主要な構成要素として備える。
図4に示すように、積層工程S1では、第2配向膜17が形成された第1ガラス板5に、第2配向膜17が形成された第2ガラス板6を、第2スペーサ16を介して積層する。これにより、図5に示すガラス積層体19が形成される。
積層工程S1の後の第1仮接合工程S2では、まず、図6に示すように、一対のヒータブロック(第1ヒータブロック20及び第2ヒータブロック21)の間に、ダミー電極ガラス22,22を介してガラス積層体19を配置する。つまり、第1ヒータブロック20の上に、ダミー電極ガラス22を配置し、その上にガラス積層体19を第1ガラス板5が下側になるように配置し、その上にダミー電極ガラス22を配置する。
第1及び第2ヒータブロック20,21は、ヒータが内蔵されており、加熱可能である。第1及び第2ヒータブロック20,21は、不図示のシリンダ等の駆動手段により、相互に接近することで、これらの間に配置された物を押圧することができる。また、第1及び第2ヒータブロック20,21は、導電性であり、接地されている。ダミー電極ガラス22は、ガラス板22aに陽極接合用の電極22bとなる金属膜が形成されて成り、この電極22bが、第1及び第2ヒータブロック20,21の側になるように配置されている。ダミー電極ガラス22は、後述の陽極接合の際に、ナトリウム成分等がガラス積層体19に析出することを防止するためのものである。
次に、第1ヒータブロック20を加熱する。第2ヒータブロック21は非加熱状態のままである。そして、第1及び第2ヒータブロック20,21、ダミー電極ガラス22,22、ガラス積層体19が配置された空間(以下、単に配置空間と記す)を、真空排気して例えば数Paにする。また、図7に示すように、第1及び第2ヒータブロック20,21により、ダミー電極ガラス22,22を介してガラス積層体19を所定の圧力(例えば面圧換算で4.43MPa)で加圧する。なお、図7の状態で、ダミー電極ガラス22,22の電極22b,22bは、ガラス積層体19に対し、第1ガラス板5及び第2ガラス板6の双方の側に配置されており、電極22b,22bの双方は、第1及び第2ヒータブロック20,21を介して接地されている。
第1ヒータブロック20の温度が所定値(例えば300℃)に達したら、図7に示すように、第2スペーサ16に電源23により直流電圧を印加する。この時、ガラス積層体19において、第1ガラス板5の側が加熱された状態、且つ、第2ガラス板6の側が非加熱の状態である。
そして、流れる電流が所定値(例えば0.1mA)となるように電圧を調節した状態で、所定の時間(例えば1分間)維持する。そして、所定の時間が経過した時に、電源23による電圧印加を停止する。これにより、第1ガラス板5と第2スペーサ16が陽極接合により仮接合された状態となる。
第1仮接合工程S2の後の冷却工程S3では、第1ヒータブロック20を非加熱状態にして自然冷却し、これにより、第1ヒータブロック20の温度を常温にする。この時、第1及び第2ヒータブロック20,21によるガラス積層体19の加圧は維持した状態で、配置空間の真空排気は停止して配置空間が大気圧の状態である。
冷却工程S3の後の第2仮接合工程S4では、第2ヒータブロック21を加熱する。第1ヒータブロックは非加熱状態のままである。そして、配置空間を、真空排気して例えば数Paにする。また、図7に示すように、第1及び第2ヒータブロック20,21により、ダミー電極ガラス22,22を介してガラス積層体19を所定の圧力(例えば面圧換算で4.43MPa)で加圧する。
第2ヒータブロック21の温度が所定値(例えば300℃)に達したら、図7に示すように、第2スペーサ16に電源23により直流電圧を印加する。この時、ガラス積層体19において、第2ガラス板6の側が加熱された状態、且つ、第1ガラス板5の側が非加熱の状態である。
そして、流れる電流が所定値(例えば0.1mA)となるように電圧を調節した状態で所定の時間(例えば1分間)維持する。そして、所定の時間が経過した時に、電源23による電圧印加を停止する。これにより、第2ガラス板6と第2スペーサ16が陽極接合により仮接合された状態となる。
第2仮接合工程S4の後の冷却工程S5では、第2ヒータブロック21を非加熱状態にして自然冷却し、これにより、第2ヒータブロック21の温度を常温にする。この時、第1及び第2ヒータブロック20,21によるガラス積層体19の加圧は維持した状態で、配置空間の真空排気は停止して配置空間が大気圧の状態である。
冷却工程S5の後の両側本接合工程S6では、第1ヒータブロック20及び第2ヒータブロック21を加熱する。そして、配置空間を、真空排気して例えば数Paにする。また、図7に示すように、第1及び第2ヒータブロック20,21により、ダミー電極ガラス22,22を介してガラス積層体19を所定の圧力(例えば面圧換算で4.43MPa)で加圧する。
第1ヒータブロック20及び第2ヒータブロック21の温度が所定値(例えば300℃)に達したら、図7に示すように、第2スペーサ16に電源23により所定の直流電圧(例えば250V)を印加する。この時、ガラス積層体19において、第1ガラス板5及び第2ガラス板6の双方の側が加熱された状態である。
そして、電流が流れなくなるまで電圧の印加を続け、電流が流れなくなったら電圧の印加を停止する。これで、第1ガラス板5及び第2ガラス板6に第2スペーサ16が陽極接合により本接合された状態となる。
両側本接合工程S6の後の冷却工程S7では、第1ヒータブロック20及び第2ヒータブロック21を非加熱状態として自然冷却し、これにより、第1ヒータブロック20及び第2ヒータブロック21の温度を常温にする。この時、第1及び第2ヒータブロック20,21によるガラス積層体19の加圧は維持した状態で、配置空間の真空排気は停止して配置空間が大気圧の状態である。冷却工程S7が完了すれば、第2ガラスセルC2の製造が完了となる。
以上のように構成された本実施形態に係る液晶レンズ用ガラスセルの製造方法では以下の効果を享受できる。
第1仮接合工程S2で、第1ガラス板5に第2スペーサ16を仮接合し、第2仮接合工程S4で、第2ガラス板6に第2スペーサ16を仮接合する。そして、第1仮接合工程S2では、ガラス積層体19において、第2スペーサ16を仮接合する第1ガラス板5とは反対側の第2ガラス板6の側が非加熱状態である。第2仮接合工程S4では、ガラス積層体19において、第2スペーサ16を仮接合する第2ガラス板6とは反対側の第1ガラス板5の側が非加熱状態である。
従って、仮接合の際には、第2スペーサ16への加熱が抑制され、第2スペーサ16の膨張が抑制され、これにより、第2スペーサ16の膨張と第1ガラス板5,第2ガラス板6の膨張との差が抑制される。このため、常温に戻した時に、ガラス積層体19の反りが抑制される。そして、その後の両側本接合工程S6で、この反りが抑制されたガラス積層体19を本接合して第2ガラスセルC2を完成させる。そのため、両側本接合工程S6後の第2ガラスセルC2は、反りが抑制されたものとなる。すなわち、本実施形態の液晶レンズ用ガラスセルの製造方法によれば、液晶レンズ用ガラスセルの製造工程において、陽極接合の加熱に起因する第2ガラスセルC2の反りを抑制することができ、また、同様の理由で、陽極接合の加熱に起因する第1ガラスセルC1の反りを抑制することができる。
次に、第2実施形態に係る液晶レンズ用ガラスセルの製造方法の陽極接合について、図8を参照しつつ説明する。なお、第2実施形態に係る液晶レンズの構成は、第1実施形態と同様である。
図8に示すように、本実施形態の液晶レンズ用ガラスセルの製造方法は、積層工程S11と、第1片側本接合工程S12と、冷却工程S13と、第2片側本接合工程S14と、冷却工程S15とを主要な構成要素として備える。
積層工程S11は、第1実施形態の積層工程S1と同様である。
積層工程S11の後の第1片側本接合工程S12は、第1ヒータブロック20の温度が所定値(例えば300℃)に達するまでは、第1実施形態の第1仮接合工程S2と同様である。
第1片側本接合工程S12では、第1ヒータブロック20の温度が所定値(例えば300℃)に達したら、図7に示すように、第2スペーサ16に電源23により所定の直流電圧(例えば250V)を印加する。この時、ガラス積層体19において、第1ガラス板5の側が加熱された状態、且つ、第2ガラス板6の側が非加熱の状態である。
そして、電流が流れなくなるまで電圧の印加を続け、電流が流れなくなったら電圧の印加を停止する。これで、第1ガラス板5に第2スペーサ16が陽極接合により本接合された状態となる。
第1片側本接合工程S12の後の冷却工程S13は、第1実施形態の冷却工程S3と同様である。
冷却工程S13の後の第2片側本接合工程S14は、第2ヒータブロック21の温度が所定値(例えば300℃)に達するまでは、第1実施形態の第2仮接合工程S4と同様である。
第2片側本接合工程S14では、第2ヒータブロック21の温度が所定値(例えば300℃)に達したら、図7に示すように、第2スペーサ16に電源23により所定の直流電圧(例えば250V)を印加する。この時、ガラス積層体19において、第2ガラス板6の側が加熱された状態、且つ、第1ガラス板5の側が非加熱の状態である。
そして、電流が流れなくなるまで電圧の印加を続け、電流が流れなくなったら電圧の印加を停止する。これで、第2ガラス板6に第2スペーサ16が陽極接合により本接合された状態となる。
第2片側本接合工程S14の後の冷却工程S15は、第1実施形態の冷却工程S5と同様である。
以上のように構成された本実施形態に係る液晶レンズ用ガラスセルの製造方法では以下の効果を享受できる。
第1片側本接合工程S12で、第1ガラス板5に第2スペーサ16を本接合し、第2片側本接合工程S14で、第2ガラス板6に第2スペーサ16を本接合する。そして、第1片側本接合工程S12では、ガラス積層体19において、第2スペーサ16を本接合する第1ガラス板5とは反対側の第2ガラス板6の側が非加熱状態である。第2片側本接合工程S14では、ガラス積層体19において、第2スペーサ16を本接合する第2ガラス板6とは反対側の第1ガラス板5の側が非加熱状態である。
従って、本接合の際には、第2スペーサ16への加熱が抑制され、第2スペーサ16の膨張が抑制され、これにより、第2スペーサ16の膨張と第1ガラス板5,第2ガラス板6の膨張との差が抑制される。このため、第1片側本接合工程S12の後では、常温に戻した時に、ガラス積層体19の反りが抑制される。そして、第2片側本接合工程S14の後では、常温に戻した時に、完成した第2ガラスセルC2の反りが抑制される。すなわち、本実施形態の液晶レンズ用ガラスセルの製造方法によれば、液晶レンズ用ガラスセルの製造工程において、陽極接合の加熱に起因する第2ガラスセルC2の反りを抑制することができ、また、同様の理由で、陽極接合の加熱に起因する第1ガラスセルC1の反りを抑制することができる。
本発明は、上記実施形態に限定されず、その技術的思想の範囲で様々な変形が可能である。例えば、上記の第1実施形態では、第1仮接合工程S2と第2仮接合工程S4を備えていたが、何れか一方の仮接合工程のみを備えているだけでもよい。
また、例えば、上記の第1実施形態では、一対のヒータブロックだけで、第1仮接合工程S2、第2仮接合工程S4及び両側本接合工程S6を行ったが、それぞれの工程を、それぞれの工程に専用である一対のヒータブロックで行ってもよい。この場合、第1冷却工程S3によって第1ヒータブロック20の温度を常温にする必要が無くなるので、第1冷却工程S3は不要になる。また、この場合、第1仮接合工程S2と第2仮接合工程S4に使用される一対のヒータブロックのうち非加熱状態とするヒータブロックは、ヒータが内蔵されていないブロックで代用してもよい。勿論、上記の第2実施形態についても同様である。
また、上記実施形態では、ガラス積層体19とヒータブロックの間に、ダミー電極ガラス22が配置されていたが、陽極接合の際のナトリウム成分等のガラス積層体19への析出が問題とならない場合には、ダミー電極ガラス22は配置されなくてもよい。また、上記実施形態では、陽極接合の際に、配置空間を真空排気していたが、陽極接合の際に、配置空間が大気圧であってもよい。
また、上記実施形態では、液晶レンズ1は、第1及び第2ガラスセルC1,C2を備えていたが、第1ガラスセルC1のみを備えていてもよい。また、上記実施形態では、第3電極9が、第2電極8の孔8aの中に配置されていたが、第2電極8に対して、第2液晶層11とは反対側に、ガラス板を介して配設されていてもよい。また、第3電極9が、全く配設されていなくてもよい。
1 液晶レンズ
2,5 第1ガラス板
3 ガラス板
4,6 第2ガラス板
10 第1液晶層
11 第2液晶層
14 第1スペーサ
16 第2スペーサ
19 ガラス積層体
20 第1ヒータブロック
21 第2ヒータブロック
C1 第1ガラスセル
C2 第2ガラスセル
S1,S11 積層工程
S2 第1仮接合工程
S4 第2仮接合工程
S6 両側本接合工程
S12 第1片側本接合工程
S14 第2片側本接合工程

Claims (7)

  1. 金属又は半導体で形成されているスペーサを介して積層され、前記スペーサに陽極接合された第1ガラス板及び第2ガラス板を有する液晶レンズ用ガラスセルを製造する方法において、
    前記第1及び第2ガラス板を、前記スペーサを介して積層することにより、ガラス積層体を形成する積層工程と、
    前記積層工程後に、前記ガラス積層体において、前記第1ガラス板の側を加熱した状態、且つ、前記第2ガラス板の側を非加熱とした状態で、前記第1ガラス板に前記スペーサを陽極接合により仮接合する仮接合工程と、
    前記仮接合工程の後に、前記ガラス積層体において、前記第1及び第2ガラス板の双方の側を加熱した状態で、前記第1及び第2ガラス板に前記スペーサを陽極接合により本接合する両側本接合工程とを備えることを特徴とする液晶レンズ用ガラスセルの製造方法。
  2. 前記仮接合工程と前記両側本接合工程との間に、前記ガラス積層体において、前記第1ガラス板の側を非加熱とした状態、且つ、前記第2ガラス板の側を加熱した状態で、前記第2ガラス板に前記スペーサを陽極接合により仮接合する第2の仮接合工程を備えることを特徴とする請求項1に記載の液晶レンズ用ガラスセルの製造方法。
  3. 前記第1及び第2仮接合工程の少なくとも一方で、前記ガラス積層体に対し、前記第1及び第2ガラス板の双方の側に陽極接合用の電極が配置され、前記電極の双方が接地されていることを特徴とする請求項2に記載の液晶レンズ用ガラスセルの製造方法。
  4. 金属又は半導体で形成されているスペーサを介して積層され、前記スペーサに陽極接合された第1ガラス板及び第2ガラス板を有する液晶レンズ用ガラスセルを製造する方法において、
    前記第1及び第2ガラス板を、前記スペーサを介して積層することにより、ガラス積層体を形成する積層工程と、
    前記積層工程後に、前記ガラス積層体において、前記第1ガラス板の側を加熱した状態、且つ、前記第2ガラス板の側を非加熱とした状態で、前記第1ガラス板に前記スペーサを陽極接合により本接合する第1片側本接合工程と、
    前記第1片側本接合工程後に、前記ガラス積層体において、前記第1ガラス板の側を非加熱とした状態、且つ、前記第2ガラス板の側を加熱した状態で、前記第2ガラス板に前記スペーサを陽極接合により本接合する第2片側本接合工程とを備えることを特徴とする液晶レンズ用ガラスセルの製造方法。
  5. 前記第1及び第2片側本接合工程の少なくとも一方で、前記ガラス積層体に対し、前記第1及び第2ガラス板の双方の側に陽極接合用の電極が配置され、前記電極の双方が接地されていることを特徴とする請求項4に記載の液晶レンズ用ガラスセルの製造方法。
  6. 前記第1及び第2ガラス板の厚さが1000μm以下であることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の液晶レンズ用ガラスセルの製造方法。
  7. 請求項1〜6の何れか1項に記載の液晶レンズ用ガラスセルの製造方法を備えたことを特徴とする液晶レンズの製造方法。
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