JP2017147430A - 積層型キャパシタ及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、積層型キャパシタ及びその製造方法に関するものである。【解決手段】本発明は、外部電極を内部電極と同様にニッケルを主成分とする導電性ペーストで形成し、且つ上記導電性ペーストは、ガラス（ｇｌａｓｓ）をさらに含み、その際、上記ガラスは、上記ニッケルまたはニッケル合金の重量に対して１０〜３０ｗｔ％であり、ＢａＯを５〜５０ｍｏｌ％、ＳｉＯ２を５〜５０ｍｏｌ％、ＺｎＯを３〜５０ｍｏｌ％含む積層型キャパシタ及びその製造方法を提供する。【選択図】図１

Description

本発明は、積層型キャパシタ及びその製造方法に関するものである。

積層型キャパシタは、複数のシートと内部電極パターンを交互に積層し、圧着及び焼結して本体を構成した後、本体の表面に導電性ペーストで外部電極を形成することで製造される。

このような積層型キャパシタは、小型でありながら高容量が保障され、実装が容易であるという長所を有するため、コンピュータ、個人携帯端末（ＰＤＡ）及び携帯電話のような様々な電子製品の基板に装着されて電気を充電または放電させる役割をする。

最近、電子製品が小型化するにつれて、積層型キャパシタの小型化及び高容量化が求められている。このような積層型キャパシタの容量をさらに高く実現するためには、より高い誘電率の材料を使用したり、または内部電極をより多く積層しなければならない。

しかし、積層型キャパシタの大きさは限られているため、誘電体層及び内部電極の厚さをより薄くすることが求められている。

一般に、積層型キャパシタは、ニッケルからなる内部電極、及び銅からなる外部電極を用いる。しかし、誘電体層及び内部電極の厚さが薄すぎる場合、焼成時の外部電極の銅成分が内部電極のニッケル成分に拡散するため体積膨張が発生し、その際に発生するストレスを除去するために本体にクラックが生じる。上記クラックは積層型キャパシタの信頼性を低下させる原因となる。

これを改善させるために、外部電極を内部電極と同一の材料で形成する技術が開示されている。

しかし、この場合、素体の本体にある残炭を除去することが困難であり、外部電極がグリーンチップを用いて塗布されるため本体に損傷が発生し得る。

また、超高容量キャパシタの場合は、微粒粒子を用いるとセラミックの粗さが減少するため、アンカリング（ａｎｃｈｏｒｉｎｇ）効果が低下し、本体と外部電極間の接着力が低下するという問題が発生し得る。

韓国公開特許第２０１２−００６８６２２号公報 特開２０１２−００４１８９号公報

本発明の目的は、焼成時の内部電極の体積膨張による本体のクラックを防止するとともに、焼成温度を下げて外部電極の接着力及び電極緻密度を向上させることができる積層型キャパシタ及びその製造方法を提供することにある。

本発明の一側面は、外部電極を内部電極と同様に、ニッケルまたはニッケル合金を主成分とする導電性ペーストで形成し、且つ上記導電性ペーストはガラス（ｇｌａｓｓ）をさらに含み、その際、上記ガラスは、上記ニッケルまたはニッケル合金の重量に対して１０〜３０ｗｔ％であり、ＢａＯを５〜５０ｍｏｌ％、ＳｉＯ_２を５〜５０ｍｏｌ％、ＺｎＯを３〜５０ｍｏｌ％含む積層型キャパシタ及びその製造方法を提供する。

本発明の一実施形態によると、外部電極が内部電極と同一のニッケル成分を有することにより、焼成時の内部電極の体積膨張による本体のクラックを防止することができる。また、外部電極がガラスを含み、且つガラスの成分及び含有量を特定することにより、外部電極の接着力及び電極緻密度を改善させて積層型キャパシタの信頼性を向上させることができるという効果がある。

本発明の一実施形態による積層型キャパシタを概略的に示した斜視図である。 図１のＩ−Ｉ'線の断面図である。

以下では、添付の図面を参照し、本発明の好ましい実施形態について説明する。しかし、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形されることができ、本発明の範囲は以下で説明する実施形態に限定されない。また、本発明の実施形態は、当該技術分野で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。

なお、明細書全体において、ある構成要素を「含む」というのは、特に反対の記載がない限り、他の構成要素を除外するのではなく、他の構成要素をさらに含むことができるということを意味する。

積層型キャパシタ
図１は本発明の一実施形態による積層型キャパシタを概略的に示す斜視図であり、図２は図１のＩ−Ｉ'線の断面図である。

図１及び図２を参照すると、本実施形態による積層型キャパシタ１００は、本体１１０と、第１及び第２外部電極１３１、１３２と、を含む。

本体１１０は、複数の誘電体層１１１と、第１及び第２内部電極１２１、１２２と、を含む。

本体１１０は、複数の誘電体層１１１を厚さ方向に積層してから焼成したもので、本体１１０の形状、寸法及び誘電体層１１１の積層数が本実施形態に示されたものに限定されるものではない。

その際、本体１１０を形成する複数の誘電体層１１１は、焼結された状態で、隣接する誘電体層１１１との間の境界が走査電子顕微鏡（ＳＥＭ：Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を利用せずには確認できないほど一体化していることができる。

また、本体１１０の形状は、特に制限されず、例えば、立方体形状を有することができる。

本実施形態では、説明の便宜のために、本体１１０の誘電体層１１１が積層された厚さ方向の相対する下面及び上面をそれぞれ第１面及び第２面、上記第１面及び第２面を接続し、対向する長さ方向の両面をそれぞれ第３面及び第４面、これと垂直に交差し対向する幅方向の両面をそれぞれ第５面及び第６面と定義する。

また、本体１１０は、最上部に配置された第１内部電極１２１の上部に形成される所定の厚さを有する上部カバー１１２と、最下部に配置された第２内部電極１２２の下部に配置される所定の厚さを有する下部カバー１１３と、を含むことができる。

上部カバー１１２及び下部カバー１１３は、例えば、誘電体層１１１と同一の組成からなることができ、内部電極を含まない誘電体層を、本体１１０の最上部に配置された第１内部電極１２１の上部、及び最下部に配置された第２内部電極１２２の下部に、それぞれ少なくとも１つ以上積層した後、圧着して形成されることができる。

誘電体層１１１は、キャパシタの容量形成に寄与するもので、１層の厚さを積層型キャパシタ１００の容量設計に応じて任意に変更することができ、誘電体層１１１の１層の厚さが焼成後に０．１〜１．０μｍになるように構成することが好ましいが、本発明はこれに限定されるものではない。

また、誘電体層１１１は、高誘電率のセラミック材料を含むことができ、例えば、ＢａＴｉＯ_３（チタン酸バリウム）系セラミック粉末などを含むことができるが、本発明はこれに限定されるものではない。

上記ＢａＴｉＯ_３系セラミック粉末には、例えば、ＢａＴｉＯ_３にＣａ（カルシウム）、Ｚｒ（ジルコニウム）などが一部固溶された（Ｂａ_１−ｘＣａ_ｘ）ＴｉＯ_３、Ｂａ（Ｔｉ_１−ｙＣａ_ｙ）Ｏ_３、（Ｂａ_１−ｘＣａ_ｘ）（Ｔｉ_１−ｙＺｒ_ｙ）Ｏ_３またはＢａ（Ｔｉ_１−ｙＺｒ_ｙ）Ｏ_３などがあるが、本発明はこれに限定されるものではない。

また、誘電体層１１１には、必要に応じて、セラミック添加剤、有機溶剤、可塑剤、結合剤、及び分散剤のうち少なくとも一つ以上が含まれることができる。

その際、上記セラミック添加剤は、例えば、遷移金属酸化物または炭化物、希土類元素、マグネシウム（Ｍｇ）またはアルミニウム（Ａｌ）などが用いられることができる。

第１及び第２内部電極１２１、１２２は、誘電体層１１１を形成するセラミックシート上に形成され、厚さ方向に積層された後、焼成により一つの誘電体層１１１を介して本体１１０の内部に厚さ方向に交互に配置される。

これらの第１及び第２内部電極１２１、１２２は、互いに異なる極性が印加される電極で、誘電体層１１１の積層方向に沿って対向するように配置され、中間に配置された誘電体層１１１によって互いに電気的に絶縁されることができる。

第１及び第２内部電極１２１、１２２の一端部は、本体１１０の長さ方向の第３面及び第４面にそれぞれ露出する。このように本体１１０の第３面及び第４面に露出した第１及び第２内部電極１２１、１２２の端部は、本体１１０の第３面及び第４面において第１及び第２外部電極１３１、１３２とそれぞれ接続されて電気的に連結されることができる。

第１及び第２内部電極１２１、１２２は導電性金属で形成され、本実施形態において、上記導電性金属はニッケル（Ｎｉ）またはニッケル（Ｎｉ）合金を用いることができる。

上記導電性金属の印刷方法は、スクリーン印刷法またはグラビア印刷法などを用いることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。

上記のような構成により、第１及び第２外部電極１３１、１３２に所定の電圧を印加すると、対向する第１及び第２内部電極１２１、１２２の間に電荷が蓄積される。その際、積層型キャパシタ１００の静電容量は、誘電体層１１１の積層方向に沿って重なる第１及び第２内部電極１２１、１２２の重なり面積に比例するようになる。

第１及び第２外部電極１３１、１３２は、第１及び第２内部電極１２１、１２２に含まれるものと同一の導電性金属であるニッケル（Ｎｉ）１３１ｂ、１３２ｂまたはニッケル合金、及びガラス（ｇｌａｓｓ）１３１ａ、１３２ａを含む導電性ペーストからなり、８００℃以下で焼成されて形成される。

下記表１を参照すると、本実施形態における外部電極のガラスの含有量による積層型キャパシタの信頼性不良及び不めっき不良を確認することができる。

信頼性不良は、めっき層が形成された外部電極を含む積層型キャパシタを基板に実装した後、湿度８５％、温度８５℃及び電圧１Ｖｒの条件で耐湿加速寿命評価を行って特定した。

不めっき不良は、Ｓｎめっき層が形成された外部電極を含む積層型キャパシタをＳｎ槽にディッピングしてＳｎめっき層を除去した後、顕微鏡でＮｉめっき層が形成されたか否かを確認して特定した。

下記表１を参照すると、導電性金属の全体重量に対してガラスの含有量が１０ｗｔ％未満のサンプル１及び２の場合は、緻密度が低下し、めっき液の浸透による信頼性不良が発生し、本体と外部電極との界面接着力が低下してめっき後に外部電極が本体から剥離するという問題が発生したことが分かる。

また、ガラスの含有量が３０ｗｔ％を超えるサンプル７の場合、ガラスが溶出するという問題が発生する。その際、ガラス溶出部にはめっきが施されずに不めっき部分が発生したことが分かる。

したがって、外部電極における好ましいガラスの含有量は、導電性金属の全体重量に対して１０〜３０ｗｔ％であることができる。

また、第１及び第２外部電極１３１、１３２は、本体１１０の第３面及び第４面から、第１面及び第２面の一部と第５面及び第６面の一部まで延びるバンドを有するように形成されて固着強度を向上させることができる。

また、第１及び第２外部電極１３１、１３２と本体１１０との界面には、ガラスのみからなる第１及び第２接着層１３１ａ'、１３２ａ'が形成されることができる。

その際、第１及び第２接着層１３１ａ'、１３２ａ'の両端部は、第１及び第２外部電極１３１、１３２の両端部より内側に位置することができる。

下記表２を参照すると、上記ガラス１３１ａ、１３２ａは、ＢａＯを５〜５０ｍｏｌ％、ＳｉＯ_２を５〜５０ｍｏｌ％、ＺｎＯを３〜５０ｍｏｌ％含むことができる。

上記ＢａＯはガラス網目構造を形成する役割をする。５ｍｏｌ％未満のサンプル７の場合は、耐酸性が低下して外部電極の表面にめっき層を形成すると、外部電極がエッチングされ、信頼性が低下するという問題が発生する可能性がある。これに対し、５０ｍｏｌ％を超えるサンプル１２の場合は、８００℃以下における焼成時に、軟化されずに緻密度が低下するため、キャパシタの信頼性が低下するという問題が発生し得る。

また、上記ＳｉＯ_２もガラス網目構造を形成する役割をする。５ｍｏｌ％未満のサンプル１の場合は、耐酸性が低下して信頼性が低下するという問題が発生する可能性がある。これに対し、５０ｍｏｌ％を超えるサンプル６の場合は、金属との濡れ性（ｗｅｔｔｉｎｇ）が低下し、軟化点が上昇して緻密度が低下し、ガラスが溶出するという問題が発生し得る。

なお、上記ＺｎＯはガラスの軟化点を下げ、低い温度でガラスが軟化することができるようにして外部電極の低温焼結を可能にする役割をする。３ｍｏｌ％未満のサンプル１３の場合は、金属との濡れ性が低下し、軟化点が上昇して緻密度が低下して信頼性が低下するという問題が発生する可能性がある。これに対し、５０ｍｏｌ％を超えると、耐酸性が低下して信頼性が低下するという問題が発生し得る。

また、上記外部電極用の導電性ペーストは、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｎａ_２Ｏ、ＴｉＯ_２、ＳｒＯ、Ｂ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２及びＣａＯのような副成分のうち少なくとも１つ以上を上記ガラス全体の１００ｍｏｌ％に対して２０ｍｏｌ％以下さらに含むことができる。この場合、外部電極の焼成時に、ガラスの軟化点を７００℃未満にさらに下げることができるという効果がある。

その際、上記副成分がガラス全体の１００ｍｏｌ％に対して２０ｍｏｌ％を超えると、ガラス網目構造が弱くなって外部電極の耐酸性が低下し、めっき液にガラスが浸食され得る。

一方、他の実施形態として、第１及び第２外部電極に用いられる導電性ペーストは、銅（Ｃｕ）をさらに含むことができる。

このように導電性ペーストに銅をさらに含む場合、外部電極の焼成温度を７００℃以上８００℃未満にさらに下げることができる。その際、上記銅が上記導電性ペースト内の導電性金属全体の１００ｗｔ％に対して５０ｗｔ％以下含まれることができる。

下記表３は、導電性ペースト１００ｗｔ％に対して導電性金属とガラスが６５：１０の割合で含まれたものである。下記表３を参照すると、上記銅が上記導電性金属全体の１００ｗｔ％に対して５０ｗｔ％を超えるサンプル７〜９の場合は、外部電極の焼成時に体積膨張が発生して本体１１０にクラックが生じることが分かる。

ここで、放射クラック不良は、外部電極を焼成した後、外部電極が下方に位置するように、チップをエポキシ樹脂にモールドし、外部電極をポリシングした後、本体の内部電極端部におけるクラックの有無を確認して特定した。

第１及び第２外部電極１３１、１３２の表面には、積層型キャパシタ１００を基板に実装する際の接着強度をさらに高めるために、第１及び第２めっき層（図示せず）が形成されることができる。上記第１及び第２めっき層は、ニッケル、銅、及びスズのうち少なくとも一つからなることができる。

従来のニッケル製の内部電極と銅製の外部電極を含む積層型キャパシタにおいて、外部電極を形成する方法は、導電性ペーストで外部電極を形成した後、本体とともに焼成する方法と、本体を先に焼成した後、導電性ペーストを形成し、外部電極を別に焼成する方法がある。

本体を外部電極とともに焼成すると、キャパシタの高容量化に伴い、誘電体層が薄くなった場合、銅のニッケルへの拡散係数が、ニッケルの銅への拡散係数より遥かに大きいため、外部電極の銅成分が内部電極のニッケル成分の方に拡散し、内部電極の体積が膨張して本体にクラックが発生することになる。

これを改善させるために、外部電極を、内部電極と同一のニッケルを含む導電性ペーストで形成し、同時焼成時に外部電極の銅成分が内部電極に拡散することを防止して体積膨張及びストレスを除去する方法が挙げられる。

しかし、このように本体を先に焼成した後、導電性ペーストを形成し、外部電極を別に焼成した場合は、本体内に入っているバインダーなどを除去することが難しいため焼成条件の設定に困難があり、グリーンチップを利用して外部電極を塗布するため外部電極の塗布時にチップ自体に変形が発生し得る。

また、ニッケルを含む外部電極用の導電性ペーストが本体と接着されるのはセラミックの靭性（ｃｅｒａｍｉｃ ｔｏｕｇｈｎｅｓｓ）によるアンカリング（ａｎｃｈｏｒｉｎｇ）効果に起因するものであるため、セラミックの靭性が減少する超高容量製品の場合は、接着力の低下問題が発生し、低温において緻密度を完全に実現できないという問題がある。

本実施形態によると、外部電極が内部電極と同一のニッケルまたはニッケル合金を含む導電性ペーストで形成されるため、外部電極の焼成時に、従来構造のキャパシタにおいて体積膨張によるストレスを最小限に抑えることで、本体のクラックを防止することができる。

また、従来の積層型キャパシタでは、外部電極が本体に形成される際に、接触性の低下による容量低下などの問題が発生し得る。しかし、本実施形態では、外部電極が内部電極と同一の種類のニッケル成分を含むため、内部電極と外部電極間の接続性を向上させることにより上記容量低下などの問題を防止することができる。

なお、本実施形態の積層型キャパシタは、外部電極形成用の導電性ペーストがガラスを含み、且つガラスの成分及び含有量をガラスの軟化点が下がるように特定し、外部電極が銅を含む導電性ペーストを用いて形成される時と類似の８００℃以下で焼成されることができるようにする。

したがって、外部電極の接着力を向上させ、外部電極で焼結されたニッケル成分が満たせない空き空間を満たし、外部電極の緻密度を高めて密閉シーリング（ｈｅｒｍａｔｉｃ ｓｅａｌｉｎｇ）特性を高めることにより、優れた耐湿特性を有する高信頼性の積層型キャパシタを製造することができるため、シーリングのためのめっき層を別に形成しなくてもよいという効果がある。

積層型キャパシタの製造方法
以下、本発明の一実施形態による積層型キャパシタの製造方法を説明する。

まず、複数のセラミックシートを設ける。

上記セラミックシートは、本体１１０の誘電体層１１１を形成するためのもので、セラミック粉末、ポリマー及び溶剤などを混合してスラリーを製造し、上記スラリーをドクターブレードなどの工法を通じてキャリアフィルム上に塗布及び乾燥して厚さ数μｍのシート（ｓｈｅｅｔ）状に製作する。

次に、上記それぞれのセラミックシートの少なくとも一面に所定の厚さでニッケルを含む導電性ペーストを印刷して、第１及び第２内部電極パターンをそれぞれ形成する。

その際、第１及び第２内部電極パターンは、セラミックシートの長さ方向の両面にそれぞれ露出するように形成する。

また、上記導電性ペーストの印刷方法は、スクリーン印刷法またはグラビア印刷法などを用いることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。

その後、上記第１及び第２内部電極パターンが形成された複数のセラミックシートを交互に積層して加圧することで積層体を設ける。

その際、上記積層体は、複数のセラミックシートを厚さ方向に積層して加圧することで設けることができる。

続いて、上記積層体を１つのキャパシタに対応する領域ごとに切断してチップ化し、約１０００℃で焼成して、対向する厚さ方向の第１面及び第２面、第１及び第２内部電極１２１、１２２が交互に露出する長さ方向の第３面及び第４面、及び幅方向の第５面及び第６面を有する本体１１０を設ける。

次に、本体１１０の長さ方向の第３面及び第４面に、第１及び第２内部電極１２１、１２２の露出した部分とそれぞれ接続されて電気的に連結されるように、外部電極用の導電性ペーストで第１及び第２外部電極１３１、１３２を形成する。

その際、第１及び第２外部電極１３１、１３２は、ディッピングなどの方法で形成することができるが、本発明はこれに限定されるものではない。

上記外部電極用の導電性ペーストは、ニッケル（Ｎｉ）またはニッケル合金と、ＢａＯを５〜５０ｍｏｌ％、ＳｉＯ_２を５〜５０ｍｏｌ％、ＺｎＯを３〜５０ｍｏｌ％含むガラスと、を含む。その際、上記ガラスは、ニッケル（Ｎｉ）またはニッケル合金の重量に対して１０〜３０ｗｔ％であることができる。

また、上記外部電極用の導電性ペーストは、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｎａ_２Ｏ、ＴｉＯ_２、ＳｒＯ、Ｂ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２及びＣａＯのうち少なくとも１つ以上を上記ガラス全体の１００ｍｏｌ％に対して２０ｍｏｌ％以下さらに含むことができる。

上記副成分は、それぞれガラスが軟化したり溶融（ｍｅｌｔｉｎｇ）する温度を下げる役割をし、必要に応じて一つ以上を入れることができ、このうちどの成分を添加するか、及びその配合量により、ガラスの特性が微細に調節されることができる。

また、上記外部電極用の導電性ペーストは、銅（Ｃｕ）をさらに含むことができる。その際、上記銅は、上記導電性ペースト内の導電性金属全体の１００ｗｔ％に対して５０ｗｔ％以下含まれることができる。

次に、第１及び第２外部電極１３１、１３２が形成された本体１１０を８００℃で焼成して積層型キャパシタ１００を完成する。

本実施形態では、本体を焼成した後、外部電極を別に焼成するため、誘電体の残炭の除去が容易となり、内部電極が陥没した場合に研磨が可能であるため、内部電極と外部電極間の電気的連結性を向上させることができる。

一方、第１及び第２外部電極１３１、１３２を形成した後、第１及び第２外部電極１３１、１３２をニッケル（Ｎｉ）、スズ（Ｓｎ）及び銅（Ｃｕ）のうち少なくとも一つでめっきして、第１及び第２めっき層を形成する段階をさらに行うことができる。

以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の範囲はこれに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で多様な修正及び変形が可能であるということは、当技術分野の通常の知識を有するものには明らかである。

１００ 積層型キャパシタ
１１０ 本体
１１１ 誘電体層
１２１、１２２ 第１及び第２内部電極
１３１、１３２ 第１及び第２外部電極
１３１ａ、１３２ａ ガラス
１３１ａ'、１３２ａ' 第１及び第２接着層
１３１ｂ、１３２ｂ ニッケル

Claims (11)

1. 複数の誘電体層とニッケル（Ｎｉ）またはニッケル合金を含む導電性ペーストからなる第１及び第２内部電極とを含む本体と、
   前記本体に前記第１及び第２内部電極とそれぞれ電気的に連結されるように配置される第１及び第２外部電極と、を含み、
   前記第１及び第２外部電極は、ニッケル（Ｎｉ）またはニッケル合金とガラス（ｇｌａｓｓ）とを含む導電性ペーストからなり、
   前記ガラスは、前記ニッケルまたはニッケル合金の重量に対して１０〜３０ｗｔ％であり、ＢａＯを５〜５０ｍｏｌ％、ＳｉＯ_２を５〜５０ｍｏｌ％及びＺｎＯを３〜５０ｍｏｌ％含む、積層型キャパシタ。
2. 前記第１及び第２外部電極の導電性ペーストは、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｎａ_２Ｏ、ＴｉＯ_２、ＳｒＯ、Ｂ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２及びＣａＯのうち少なくとも１つ以上を前記ガラス全体の１００ｍｏｌ％に対して２０ｍｏｌ％以下さらに含む、請求項１に記載の積層型キャパシタ。
3. 前記第１及び第２外部電極は８００℃以下で焼成される、請求項１または２に記載の積層型キャパシタ。
4. 前記第１及び第２外部電極の導電性ペーストは銅（Ｃｕ）をさらに含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の積層型キャパシタ。
5. 前記銅は、前記導電性ペースト内の導電性金属全体の１００ｗｔ％に対して５０ｗｔ％以下含まれる、請求項４に記載の積層型キャパシタ。
6. 前記第１及び第２外部電極上に形成される第１及び第２めっき層をさらに含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の積層型キャパシタ。
7. 複数のセラミックシートを設ける段階と、
   前記複数のセラミックシートにニッケルまたはニッケル合金を含む導電性ペーストで第１及び第２内部電極パターンをそれぞれ形成する段階と、
   前記第１及び第２内部電極パターンが形成されたセラミックシートを交互に積層して加圧することで積層体を設ける段階と、
   前記第１及び第２内部電極パターンの一部が前記積層体の一面に露出するように、前記積層体を切断し焼成して第１及び第２内部電極を有する本体を設ける段階と、
   前記本体の一面に、前記第１及び第２内部電極の露出した部分とそれぞれ電気的に連結されるように、ニッケル（Ｎｉ）またはニッケル合金の重量に対して１０〜３０ｗｔ％であり、ＢａＯを５〜５０ｍｏｌ％、ＳｉＯ_２を５〜５０ｍｏｌ％、ＺｎＯを３〜５０ｍｏｌ％含むガラスを含む導電性ペーストで第１及び第２外部電極を形成する段階と、
   前記第１及び第２外部電極が形成された本体を８００℃以下で焼成する段階と、を含む、積層型キャパシタの製造方法。
8. 前記外部電極形成段階において、外部電極用の導電性ペーストは、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｎａ_２Ｏ、ＴｉＯ_２、ＳｒＯ、Ｂ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２及びＣａＯのうち少なくとも１つ以上を前記ガラス全体の１００ｍｏｌ％に対して２０ｍｏｌ％以下さらに含む、請求項７に記載の積層型キャパシタの製造方法。
9. 前記外部電極形成段階において、外部電極用の導電性ペーストは銅（Ｃｕ）をさらに含む、請求項７または８に記載の積層型キャパシタの製造方法。
10. 前記外部電極形成段階において、前記銅は、前記導電性ペースト内の導電性金属全体の１００ｗｔ％に対して５０ｗｔ％以下含まれる、請求項９に記載の積層型キャパシタの製造方法。
11. 前記第１及び第２外部電極を形成する段階後に、前記第１及び第２外部電極にニッケル（Ｎｉ）、スズ（Ｓｎ）及び銅（Ｃｕ）のうち少なくとも一つをめっきして第１及び第２めっき層を形成する段階をさらに含む、請求項７〜１０のいずれか一項に記載の積層型キャパシタの製造方法。

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