JP2017135200A - フォトインタラプタおよび荷電粒子ビーム描画装置 - Google Patents

Abstract

【課題】気体を短期間で真空容器の外部へ排出することを可能にするフォトインタラプタおよび荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】本実施形態によるフォトインタラプタは、第１面と第１面の反対側にある第２面とを有する基部と、基部の第１面の上方において互いに対向するように配置された発光部および受光部と、基部の前記第２面の下方に設けられ発光部および受光部のそれぞれに電気的に接続する第１端子および第２端子と、基部の第１面上に設けられ発光部を収容する第１筐体部と、基部の第１面上に設けられ受光部を収容する第２筐体部とを備え、第１および第２筐体部は、それぞれ発光部と受光部との対向方向に設けられた第１および第２スリットを有し、第１筐体部は、第１スリットの形成面以外の第３面に、第１筐体部の内部に連通する第１貫通孔を有し、第２筐体部は、第２スリットの形成面以外の第４面に、第２筐体部の内部に連通する第２貫通孔を有する。
【選択図】図６

Description

本発明による実施形態は、フォトインタラプタおよび荷電粒子ビーム描画装置に関する。

荷電粒子ビーム描画装置は、真空容器内においてマスクやブランクなどの対象物を支持するステージ部を備え、ステージ部を移動させながら対象物の所定位置に電子ビームなどの荷電粒子ビームを偏向して照射する。これにより、その対象物にパターンを描画する。

ステージ部を移動させる軸部分には、ステージ部の原点の位置あるいはステージ部の終点の位置を検出するために、フォトインタラプタが配置されている。フォトインタラプタは、発光素子と対向して配置される受光素子を有するセンサであり、これらの間を光遮蔽体が通過することにより位置が検出される。

荷電粒子ビーム描画装置に用いられるフォトインタラプタは、ビームの直進性に影響しないように低磁性の金属と非磁性の樹脂材料を用いて形成されている。また、低磁性の金属の使用量も極限まで減らしている。しかし、樹脂材料は、真空中で有機系ガスなどの気体を放出するため、描画に悪影響を与えるおそれがあり、真空容器内を減圧してから描画開始までのできるだけ短時間のうちに真空容器の外部へ排出することが望まれる。

特開平１０−１９５６５３号公報

真空中で樹脂材料から放出される気体を短時間で真空容器の外部へ排出することを可能にするフォトインタラプタおよび荷電粒子ビーム描画装置を提供する。

本実施形態によるフォトインタラプタは、第１面と第１面の反対側にある第２面とを有する基部と、基部の第１面の上方において互いに対向するように配置された発光部および受光部と、基部の前記第２面の下方に設けられ発光部および受光部のそれぞれに電気的に接続する第１端子および第２端子と、基部の第１面上に設けられ発光部を収容する第１筐体部と、基部の第１面上に設けられ受光部を収容する第２筐体部とを備え、第１および第２筐体部は、それぞれ発光部と受光部との対向方向に設けられた第１および第２スリットを有し、第１筐体部は、第１スリットの形成面以外の第３面に、第１筐体部の内部に連通する第１貫通孔を有し、第２筐体部は、第２スリットの形成面以外の第４面に、第２筐体部の内部に連通する第２貫通孔を有する。

第１実施形態による荷電粒子ビーム描画装置１の構成の一例を示すブロック図。 第１実施形態による描画チャンバ２ａの一例を示す外観図。 Ｘ方向駆動部１２Ｘの内部構成の一例を示す図。 第１実施形態によるフォトインタラプタ５０＿１〜５０＿３の構成の一例を示す外観図。 発光部１５０、受光部１６０、第１端子Ｔ１＿１、Ｔ１＿２、および、第２端子Ｔ２＿１、Ｔ２＿２の接続関係を示す回路図。 図４（Ｃ）の５−５線に沿った断面図。 第２実施形態によるフォトインタラプタ５０の構成の一例を示す断面図。

以下、図面を参照して本発明に係る実施形態を説明する。本実施形態は、本発明を限定するものではない。

（第１実施形態）
図１は、第１実施形態による荷電粒子ビーム描画装置１の構成の一例を示すブロック図である。荷電粒子ビーム描画装置１（以下、描画装置１ともいう）は、荷電粒子ビームによる描画を行う描画部２と、描画部２を制御する制御部３とを備えている。描画装置１は、荷電粒子ビームとして例えば電子ビームを用いた可変成形型の描画装置の一例である。なお、荷電粒子ビームは電子ビームに限られるものではなく、イオンビームなどの他の荷電粒子ビームであってもよい。

描画部２は、描画対象となる対象物Ｗを収容する真空容器である描画チャンバ２ａと、描画チャンバ２ａにつながる光学鏡筒２ｂとを有している。描画チャンバ２ａは気密性を有しており、真空容器として機能する。また、光学鏡筒２ｂは、描画チャンバ２ａの上面に設けられており、光学系により電子ビームを成形及び偏向し、描画チャンバ２ａ内の対象物Ｗに対して照射する。このとき、描画チャンバ２ａ及び光学鏡筒２ｂの両方の内部は減圧されて真空状態（例えば、１×１０^−６Ｐａ以下）となっている。

描画チャンバ２ａ内には、マスクやブランクなどの対象物Ｗを支持するステージ部１１と、ステージ部１１を移動させるステージ移動機構１２とがさらに設けられている。ステージ移動機構１２は、水平面内で互いに直交するＸ軸方向とＹ軸方向（以下、単にＸ方向及びＹ方向という）にステージ部１１を移動させる機構である。

光学鏡筒２ｂ内には、電子ビームＢを出射する電子銃などの出射部２１と、電子ビームＢを集光する照明レンズ２２と、ビーム成形用の第１成形アパーチャ２３と、投影用の投影レンズ２４と、ビーム成形用の成形偏向器２５と、ビーム成形用の第２成形アパーチャ２６と、対象物Ｗ上にビーム焦点を結ぶ対物レンズ２７と、対象物Ｗに対するビームショット位置を制御するための副偏向器２８及び主偏向器２９とが配置されている。

制御部３は、対象物Ｗにパターンを描画するための描画データを記憶する描画データ記憶部３ａと、描画データを処理してショットデータを生成するショットデータ生成部３ｂと、描画部２を制御する描画制御部３ｃとを備えている。描画データ記憶部３ａとしては、例えば、磁気ディスク装置や半導体ディスク装置（フラッシュメモリ）などを用いることが可能である。ショットデータ生成部３ｂや描画制御部３ｃは、電気回路などのハードウエアにより構成されてもよく、また、各機能を実行するプログラムなどのソフトウエアにより構成されてもよく、あるいは、それらの両方の組合せにより構成されてもよい。

電子ビームＢは、副偏向器２８と主偏向器２９によって偏向され、連続的に移動するステージ部１１に追従しながら、その照射位置が決められる。ステージ部１１の長手方向の移動を連続的に行うとともに、ステージ部１１の移動に電子ビームＢのショット位置を追従させることで、描画時間を短縮することができる。ただし、ステージ部１１の長手方向の移動を連続して行っているが、これに限るものではなく、例えば、ステージ部１１を停止させた状態で一つのサブ領域の描画を行い、次のサブ領域に移動するステップアンドリピート方式の描画方法を用いてもよい。

次に、描画チャンバ２ａについて説明する。

図２は、第１実施形態による描画チャンバ２ａの一例を示す外観図である。図２では図示しないが、上述の通り、描画チャンバ２ａは、その内部にステージ部１１と、ステージ移動機構１２とを備えている。ステージ部１１は、ベアリングステージであってもよく、あるいは、エアーステージであってもよい。

ステージ移動機構１２は、Ｘ方向にステージ部１１を移動させるＸ方向駆動部１２Ｘと、Ｙ方向にステージ部１１を移動させるＹ方向駆動部１２Ｙとを備えている。Ｘ方向駆動部１２ＸおよびＹ方向駆動部１２Ｙは、ステージ部１１を互いに略直交方向へ移動させるが、基本的に同じ構成を有する。Ｘ方向駆動部１２ＸおよびＹ方向駆動部１２Ｙは、それぞれケース１２ｃで密閉されており、その内部は描画チャンバ２ａ内と同様に減圧状態となっている。

図３は、Ｘ方向駆動部１２Ｘの内部構成の一例を示す図である。図３は、ケース１２ｃを取り外した状態のＸ方向駆動部１２Ｘを示している。尚、Ｘ方向駆動部１２ＸおよびＹ方向駆動部１２Ｙは基本的に同じ構成を有するので、ここではＸ方向駆動部１２Ｘの構成を説明し、Ｙ方向駆動部１２Ｙの説明については省略する。

Ｘ方向駆動部１２Ｘは、フォトインタラプタ５０＿１〜５０＿３と、シャフト５２と、遮蔽部５４と、支持板５６とを備えている。フォトインタラプタ５０は、描画チャンバ２ａの筐体に固定された支持板５６に配置されている。フォトインタラプタ５０の具体的構成については後述する。シャフト５２は、ステージ部１１に接続されており、ステージ部１１とともにＸ軸方向Ｄｘに動作する。遮蔽部５４は、シャフト５２上に設けられており、シャフト５２とともにＸ軸方向Ｄｘに動作する。

フォトインタラプタ５０および遮蔽部５４は、ステージ部１１の原点位置あるいはステージ部１１の終点位置を検出するために用いられる。例えば、ステージ部１１およびシャフト５２がフォトインタラプタ５０＿１へ向かって移動し、遮蔽部５４が、フォトインタラプタ５０＿１の発光部（図６の１５０）と受光部（図６の１６０）との間の間隙（図６のＧ）に進入すると、フォトインタラプタ５０＿１の発光部からの光は遮断されて受光部に入射しなくなる。これにより、フォトインタラプタ５０＿１は、ステージ部１１の位置が一方側の終点にあることを検出することができる。フォトインタラプタ５０＿１がステージ部１１の終点を検出した場合、図１の制御部３は、ステージ部１１がそれ以上、一方側へ移動することを抑制する。

逆に、ステージ部１１およびシャフト５２がフォトインタラプタ５０＿２へ向かって移動し、遮蔽部５４が、フォトインタラプタ５０＿２の発光部と受光部との間の間隙に進入すると、フォトインタラプタ５０＿２の発光部からの光は遮断されて受光部に入射しなくなる。これにより、フォトインタラプタ５０＿２は、ステージ部１１の位置が他方側の終点にあることを検出することができる。フォトインタラプタ５０＿２がステージ部１１の終点を検出した場合、制御部３は、ステージ部１１がそれ以上、他方側へ移動することを抑制する。

さらに、図３には示されていないが、フォトインタラプタ５０＿３に対向するシャフト５２の側面にも遮蔽部が設けられている。この遮蔽部が、フォトインタラプタ５０＿３の発光部と受光部との間の間隙に進入すると、フォトインタラプタ５０＿３の発光部からの光は遮断されて受光部に入射しなくなる。これにより、フォトインタラプタ５０＿３は、ステージ部１１の位置が原点（基準点）にあることを検出することができる。

このように、フォトインタラプタ５０＿１〜５０＿３は、ステージ部１１の動作を制限し、あるいは、その位置を特定することができる。尚、フォトインタラプタ５０＿１は、単数であってもよく、複数であってもよい。複数のフォトインタラプタ５０＿１が設けられている場合、一方のフォトインタラプタ５０＿１が遮蔽部５４を検出したときに、制御部３は、ステージ部１１を制動し、他方のフォトインタラプタ５０＿１が遮蔽部５４を検出したときに、制御部３は、ステージ部１１を停止させるようにしてもよい。フォトインタラプタ５０＿２についても、フォトインタラプタ５０＿１と同様のことが言える。従って、フォトインタラプタ５０＿２も単数であってもよく、複数であってもよい。

図３では、遮蔽部５４はシャフト５２の上面に２つ設けられている。一方の遮蔽部５４は、一方側の終点（フォトインタラプタ５０＿１側の終点）の検出に用いられ、他方の遮蔽部５４は、他方側の終点（フォトインタラプタ５０＿２側の終点）の検出に用いられる。勿論、単数の遮蔽部５４を両方の終点検出に共通に用いてもよい。

図４（Ａ）〜図４（Ｄ）は、第１実施形態によるフォトインタラプタ５０＿１〜５０＿３の構成の一例を示す外観図である。図４（Ａ）は、フォトインタラプタ５０の正面図である。図４（Ｂ）は、フォトインタラプタ５０の側面図である。図４（Ｃ）は、フォトインタラプタ５０の上面図である。図４（Ｄ）は、プリント基板１３０の正面図である。尚、フォトインタラプタ５０＿１〜５０＿３は、それぞれ同一構成であるので、以下、１つのフォトインタラプタ（以下、フォトインタラプタ５０とする）の構成を説明する。

図４（Ａ）に示すように、フォトインタラプタ５０は、基部１１０と、第１筐体部１２１と、第２筐体部１２２と、プリント基板１３０とを備えている。基部１１０は、第１面Ｆ１と、第２面Ｆ２とを有する。第２面Ｆ２は、第１面Ｆ１の反対側にある面である。図４（Ｃ）に示すように、基部１１０には、ネジ留めに用いられる開口部１１１、１１２が設けられている。

第１筐体部１２１は、基部１１０の第１面Ｆ１上に設けられており、例えば、略直方体（四角柱）の形状を有する。図６を参照して説明するように、第１筐体部１２１は、その内部に発光部を収容することができるように空洞を有する。

第２筐体部１２２も、基部１１０の第１面Ｆ１上に設けられており、例えば、略直方体（四角柱）の形状を有する。図６を参照して説明するように、第２筐体部１２２は、その内部に受光部を収容することができるように空洞を有する。

第１筐体部１２１および第２筐体部１２２は、互いに隣接して設けられており、その間にギャップＧを有する。第１筐体部１２１および第２筐体部１２２は、ギャップＧを挟むように対向する対向面Ｆ１２１、Ｆ１２２をそれぞれ有する。

図４（Ｃ）に示すように、第１筐体部１２１は、その上面（第３面）Ｆ３に第１貫通孔１４１〜１４３を有する。第２筐体部１２２は、その上面（第４面）Ｆ４に第２貫通孔１４５〜１４７を有する。

プリント基板１３０は、基部１１０の第２面Ｆ２の下方に設けられており、図４（Ｄ）に示すように、発光部１５０に電気的に接続される第１端子Ｔ１＿１、Ｔ１＿２と、受光部に電気的に接続される第２端子Ｔ２＿１、Ｔ２＿２とを有する。

図５は、発光部１５０、受光部１６０、第１端子Ｔ１＿１、Ｔ１＿２、および、第２端子Ｔ２＿１、Ｔ２＿２の接続関係を示す回路図である。図５に示すように、発光部１５０は、第１端子Ｔ１＿１（例えば、アノード）およびＴ１＿２（例えば、カソード）に接続されており、受光部１６０は、第２端子Ｔ２＿１（例えば、コレクタ）およびＴ２＿２（例えば、エミッタ）に接続されている。

図６は、図４（Ｃ）の５−５線に沿った断面図である。第１筐体部１２１の内部には空洞１８１が設けられており、空洞１８１内に発光部１５０が収容されている。発光部１５０は、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等であり、図４（Ｄ）に示す第１端子Ｔ１＿１、Ｔ１＿２から電力を受けて発光する。第１筐体部１２１は、第２筐体部１２２に対向している対向面Ｆ１２１に第１スリット１７１を有する。第１スリット１７１は、発光部１５０の発光方向に設けられており、発光部１５０からの光を第２筐体部１２２側へ通過させる。また、第１筐体部１２１の上面Ｆ３には、第１貫通孔１４１〜１４３が設けられている。

第２筐体部１２２の内部には空洞１８２が設けられており、空洞１８２内に受光部１６０が収容されている。受光部１６０は、例えば、フォトトランジスタ等であり、発光部１５０からの光を電気信号に変換してその電気信号を第２端子Ｔ２＿１、Ｔ２＿２から出力する。第２筐体部１２２は、第１筐体部１２１に対向している対向面Ｆ１２２に第２スリット１７２を有する。第２スリット１７２は、受光部１６０の受光方向に設けられており、発光部１５０からの光を受光部１６０へ通過させる。また、第２筐体部１２２の上面Ｆ４には、第２貫通孔１４５〜１４７が設けられている。

このように、発光部１５０と受光部１６０とは、互いに対向している。第１および第２筐体部１２１、１２２は、それぞれ発光部１５０と受光部１６０との対向方向に第１および第２スリット１７１、１７２を有する。これにより、ギャップＧに遮蔽部５４が進入していない場合、発光部１５０からの光は、第１および第２スリット１７１、１７２を介して受光部１６０へ入射する。一方、遮蔽部５４がギャップＧに進入してきた場合、発光部１５０からの光は、遮蔽され受光部１６０へ入射しない。従って、制御部３において第２端子Ｔ２＿１、Ｔ２＿２の出力を監視すれば、遮蔽物５４がフォトインタラプタ５０に進入したことを検出することができる。その結果、フォトインタラプタ５０は、遮蔽部５４と協働してステージ部１１の終点または原点を検出することができる。

ここで、第１筐体部１２１は、上述の通り、第３面としての上面Ｆ３に第１貫通孔１４１〜１４３を有する。上面Ｆ３は、第１スリット１７１が設けられた対向面Ｆ１２１以外の面であり、第１筐体部１２１の面のうち基部１１０から最も離れた面である。第１貫通孔１４１〜１４３は、第１筐体部１２１の内部の空洞１８１に連通している。

また、第１貫通孔１４１、１４２は、図４（Ｃ）に示すように、第１筐体部１２１の上面Ｆ３のうち発光部１５０から離間した２つの端部（コーナー部）Ｅ１２１＿１、１２１＿２にそれぞれ設けられている。第１貫通孔１４３は、第１筐体部１２１の上面Ｆ３のほぼ中心部に設けられている。

第１貫通孔１４１〜１４３の平面形状は、特に限定しない。本実施形態では、図４（Ｃ）に示すように、第１貫通孔１４１、１４２の平面形状は、例えば、略円形であり、第１貫通孔１４３の平面形状は、例えば、略四角形である。また、第１貫通孔の個数も特に限定しないが、複数異なる位置に設けることにより、気体の放出時間をより短縮することができる。

第２筐体部１２２は、第４面としての上面Ｆ４に第２貫通孔１４５〜１４７を有する。上面Ｆ４は、第２スリット１７２が設けられた対向面Ｆ１２２以外の面であり、第２筐体部１２２の面のうち基部１１０から最も離れた面である。第２貫通孔１４５〜１４７は、第２筐体部１２２の内部の空洞１８２に連通している。

また、第２貫通孔１４５、１４６は、図４（Ｃ）に示すように、第２筐体部１２２の上面Ｆ４のうち受光部１６０から離間した２つの端部（コーナー部）Ｅ１２２＿１、Ｅ１２２＿２にそれぞれ設けられている。第２貫通孔１４７は、第２筐体部１２２の上面Ｆ４のほぼ中心部に設けられている。

第２貫通孔１４５〜１４７の平面形状も、特に限定しない。本実施形態では、図４（Ｃ）に示すように、第２貫通孔１４５、１４６の平面形状は、例えば、略円形であり、第２貫通孔１４７の平面形状は、例えば、略四角形である。また、第２貫通孔の個数も特に限定しない。

本実施形態において、第１貫通孔１４１〜１４３は、第３面Ｆ３に対して略垂直方向に延伸するように設けられている。第２貫通孔１４５〜１４７は、第４面Ｆ４に対して略垂直方向に延伸するように設けられている。

本実施形態において、基部１１０、第１および第２筐体部１２１、１２２は、一体形成されており、例えば、樹脂材料で形成されている。一方、発光部１５０、受光部１６０およびプリント基板１３０は、基部１１０および筐体１２１、１２２とは別個に形成された支持部材１９０に配置されている。支持部材１９０も、例えば、樹脂材料で形成されている。支持部材１９０に配置された発光部１５０および受光部１６０は、基部１１０の底面Ｆ２からそれぞれ第１および第２筐体部１２１、１２２の空洞１８１、１８２へ差し込まれることによって、基部１１０、第１および第２筐体部１２１、１２２とモジュール化されている。

上述の通り、第１および第２筐体部は、描画ビームに影響しないように低磁性の樹脂材料を用いて形成されている。しかし、樹脂材料は、描画チャンバ２ａ内において気体を放出するため、描画ビームに悪影響を与えるおそれがあり、描画チャンバ２ａ内を減圧してから描画開始までのできるだけ短時間のうちに描画チャンバ２ａの外部へ排出することが好ましい。

本実施形態によれば、第１および第２スリット１７１、１７２だけで無く、第１および第２スリット１７１、１７２の設けられた対向面Ｆ１７１、Ｆ１７２とは異なる第３および第４面Ｆ３、Ｆ４に、第１および第２貫通孔１４１〜１４７が設けられている。これにより、第１および第２筐体部１２１、１２２や支持部材１９０の樹脂材料から発生する気体が第１および第２スリット１７１、１７２だけで無く、第１および第２貫通孔１４１〜１４７を介して空洞部１８１、１８２の外部へ抜けることができる。従って、樹脂材料から発生する気体は、空洞部１８１、１８２内において滞留するが、第１および第２貫通孔を設けることにより排気され易くなる。その結果、フォトインタラプタ５０から発生する気体を短時間で描画チャンバ２ａの外部へ排出することが可能になる。

例えば、第１貫通孔１４３は、第１筐体部１２１の上面Ｆ３のほぼ中心部に設けられている。第２貫通孔１４７は、第２筐体部１２２の上面Ｆ４のほぼ中心部に設けられている。これにより、フォトインタラプタ５０から発生する気体が、空洞１８１、１８２から排気され易くなる。

さらに、第１貫通孔１４１、１４２は、上面Ｆ３のうち発光部１５０から離間した２つの端部（コーナー部）Ｅ１２１＿１、１２１＿２にそれぞれ設けられている。第２貫通孔１４５、１４６は、上面Ｆ４のうち受光部１６０から離間した２つの端部（コーナー部）Ｅ１２２＿１、Ｅ１２２＿２にそれぞれ設けられている。これにより、フォトインタラプタ５０から放出される気体が、空洞１８１、１８２のコーナー部などに籠もることを抑制できる。このとき、第１貫通孔１４１、１４２及び第２貫通孔１４５、１４６は、上面Ｆ３、Ｆ４の総面積の５−１０％程度の面積であれば十分である。そして、このような第１貫通孔１４１、１４２および第２貫通孔１４５、１４６を設けることにより、これらを介して空洞１８１、１８２内に描画チャンバ２ａ内の光源からの光が入射することが考えられるが、受光部１６０の感度に影響を与えるものではない。

尚、上面Ｆ３、Ｆ４以外の側面や発光部１５０および受光部１６０の設置面、第２面Ｆ２に空洞１８１、１８２と繋がる孔（図示せず）が設けられてもよい。この場合、描画チャンバ２ａ内の光源からの光の影響は若干大きくなるが、フォトインタラプタ５０から放出される気体は、空洞１８１、１８２からさらに短期間に排出され得る。

（第２の実施形態）
図７は、第２実施形態によるフォトインタラプタ５０の構成の一例を示す断面図である。第２実施形態において、第１貫通孔１４１〜１４３は、第３面Ｆ３に対して垂直方向から傾斜した方向に延伸している。第２貫通孔１４５〜１４７は、第４面Ｆ４に対して垂直方向から傾斜した方向に延伸している。第１貫通孔１４１〜１４３の傾斜方向は、例えば、第１筐体部１２１の上面Ｆ３から基部１１０または支持部材１９０へ向かって、発光素子１５０から離間する方向へ傾斜している。第２貫通孔１４５〜１４７の傾斜方向は、第２筐体部１２２の上面Ｆ４から基部１１０へ向かって、受光素子１６０から離間する方向へ傾斜している。これにより、描画チャンバ２ａ内の光源からの光による受光素子１６０の感度低下を抑制することができる。

第２実施形態によるフォトインタラプタ５０のその他の構成は、第１実施形態によるフォトインタラプタ５０の対応する構成と同様でよい。従って、第２実施形態は、さらに第１実施形態と同様の効果をも得ることができる。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。

５０・・・フォトインタラプタ、１１０・・・基部、１２１・・・第１筐体部、１２２・・・第２筐体部、１３０・・・プリント基板、１４１〜１４３・・・第１貫通孔、１４５〜１４７・・・第２貫通孔、１５０・・・発光部、１６０・・・受光部、１７１・・・第１スリット、１７２・・・第２スリット

Claims (5)

1. 第１面と前記第１面の反対側にある第２面とを有する基部と、
   前記基部の前記第１面の上方において互いに対向するように配置された発光部および受光部と、
   前記基部の前記第２面の下方に設けられ、前記発光部および前記受光部のそれぞれに電気的に接続する第１端子および第２端子と、
   前記基部の前記第１面上に設けられ前記発光部を収容する第１筐体部と、
   前記基部の前記第１面上に設けられ前記受光部を収容する第２筐体部とを備え、
   前記第１および第２筐体部は、それぞれ発光部と受光部との対向方向に設けられた第１および第２スリットを有し、
   前記第１筐体部は、前記第１スリットの形成面以外の第３面に、前記第１筐体部の内部に連通する第１貫通孔を有し、
   前記第２筐体部は、前記第２スリットの形成面以外の第４面に、前記第２筐体部の内部に連通する第２貫通孔を有する、フォトインタラプタ。
2. 前記第３および第４面は、前記第１および第２筐体部のそれぞれの上面である、請求項１に記載のフォトインタラプタ。
3. 前記第１貫通孔、および前記第２貫通孔は、複数設けられている、請求項１または請求項２に記載のフォトインタラプタ。
4. 前記第１貫通孔は、前記第３面に対して垂直方向から傾斜した方向に延伸しており、
   前記第２貫通孔は、前記第４面に対して垂直方向から傾斜した方向に延伸している、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のフォトインタラプタ。
5. 真空中で荷電粒子ビームを移動可能なステージ部上に搭載される対象物の所定位置に照射してパターンを描画する描画部と、
   前記ステージ部の位置を検出するフォトインタラプタとを備え、
   前記フォトインタラプタは、
   第１面と前記第１面の反対側にある第２面とを有する基部と、
   前記基部の前記第１面の上方において互いに対向するように配置された発光部および受光部と、
   前記基部の前記第２面の下方に設けられ、前記発光部および前記受光部のそれぞれに電気的に接続する第１端子および第２端子と、
   前記基部の前記第１面上に設けられ前記発光部を収容する第１筐体部と、
   前記基部の前記第１面上に設けられ前記受光部を収容する第２筐体部とを備え、
   前記第１および第２筐体部は、それぞれ前記発光部と前記受光部との対向方向に設けられた第１および第２スリットを有し、
   前記第１筐体部は、前記第１スリットの形成面以外の第３面に、前記第１筐体部の内部に連通する第１貫通孔を有し、
   前記第２筐体部は、前記第２スリットの形成面以外の第４面に、前記第２筐体部の内部に連通する第２貫通孔を有する、荷電粒子ビーム描画装置。

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