JP2017112364A - その場洗浄能力を備えたスピンチャック - Google Patents
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Abstract
【課題】洗浄能力を内蔵したスピンチャックを含む装置を提供する。【解決手段】ウエハ形状物品を処理するための装置において、スピンチャック16が処理チャンバ13内に配置される。スピンチャックは、ウエハW形状物品を所定の処理位置に保持するよう構成されている。カバー14が、スピンチャックを覆っており、一緒に回転するように、スピンチャックに取り付けられるかまたはスピンチャックと一体化されている。カバーは、中央開口部を有する。放出端がカバーの中央開口部を貫通するように、固定されたノズルアセンブリが処理チャンバ内に伸びている。ノズルアセンブリは、リンス液をノズルアセンブリの半径方向外向きにカバーの下向きの面へ方向付けるよう構成されたリンスノズルを備える。【選択図】図1
Description
本発明は、概略、半導体ウエハなどのウエハ形状物品を処理するための装置および方法に関し、特に、洗浄能力を内蔵したスピンチャックを含む装置および方法に関する。
半導体ウエハは、エッチング、洗浄、研磨、および、材料蒸着などの様々な表面処理を受ける。かかる処理を行う際には、米国特許第4,903,717号および5,513,668号に例として記載されているように、単一のウエハが、回転可能なキャリアに関連するチャックによって1または複数の処理流体ノズルに対して支持される場合がある。
あるいは、例えば、国際公開第WO2007/101764号および米国特許第6,485,531号に記載されているように、ウエハを支持するよう適合されたリングロータの形状のチャックが、閉じた処理チャンバ内に配置され、アクティブ磁気ベアリングを通して物理的接触なしに駆動されてもよい。
様々な処理が、閉じたチャンバ内においてかかるスピンチャック上で高温で実行される。例えば、ウエハからフォトレジストを除去するための気相処理では、約400℃の温度が適用される。かかる条件下では、フォトレジスト除去処理の副生成物が、チャンバの内面(チャックおよびチャンバ壁など)上に堆積する。これらの副生成物は、主にポリマであり、脱イオン水で溶解してリンス除去できるが、かかるリンス工程がなければ、チャンバは徐々に汚染がひどくなり、ウエハ表面上に許容不能な粒子状不純物を生じうる。
本発明者は、スピンチャック自身が洗浄能力を有するよう設計されたウエハ形状物品の処理のための改良装置および方法を開発した。
したがって、一態様において、本発明は、処理チャンバと処理チャンバ内に配置されたスピンチャックとを備えるウエハ形状物品処理装置に関する。スピンチャックは、ウエハ形状物品を所定の処理位置に保持するよう構成されている。カバーが、スピンチャックを覆っており、一緒に回転するように、スピンチャックに取り付けられるかまたはスピンチャックと一体化されている。カバーは、中央開口部を有する。放出端がカバーの中央開口部を貫通するように、固定ノズルアセンブリが処理チャンバ内に伸びている。ノズルアセンブリは、リンス液をノズルアセンブリの半径方向外向きにカバーの下向きの面へ方向付けるよう構成されたリンスノズルを備える。
本発明に従った装置の好ましい実施形態において、リンスノズルは、カバーの下向きの面に向かって半径方向に方向付けられた単一のノズルであってよい。あるいは、リンスノズルは環状であってもよいし、半径方向に向けられた環状配列の複数のノズルがあってもよい。かかる環状のリンスノズルは、半径方向外向きにリンス液を方向付けるよう構成されたショルダを提供することによって形成されうる。カバーは、平坦な円板であってよく、または、好ましくはドーム形状を有する。
本発明に従った装置の好ましい実施形態において、ノズルアセンブリは、さらに、最初にカバーに接触することなしに、スピンチャックに向かって下向きに処理液を方向付けるよう構成された少なくとも1つの処理液ノズルを備える。
本発明に従った装置の好ましい実施形態において、ノズルアセンブリは、さらに、スピンチャックに処理ガスまたは処理液を供給するための中央ノズルを備える。
本発明に従った装置の好ましい実施形態において、環状リンスノズルは中央ノズルを囲んでいる。
本発明に従った装置の好ましい実施形態において、環状リンスノズルのショルダは、中央ノズルの外面と一体的に形成されている。
本発明に従った装置の好ましい実施形態において、カバーと処理チャンバの上側部分が、ガス分配チャンバを規定し、カバーは、その中央領域および周辺領域の各々に形成された複数の開口部を備え、それにより、ガス分配チャンバからスピンチャックによって保持されたウエハ形状物品の表面に処理ガスを供給する。
本発明に従った装置の好ましい実施形態において、複数の開口部の各々は、0.3〜2.0mm2、好ましくは0.5〜1.5mm2、さらに好ましくは0.7〜1.2mm2の範囲の断面積を有する。
本発明に従った装置の好ましい実施形態において、複数の開口部は、少なくとも20の開口部、より好ましくは少なくとも50の開口部、さらに好ましくは少なくとも80の開口部を含む。
本発明に従った装置の好ましい実施形態において、少なくとも1つのガス供給ノズルが、ノズルアセンブリの半径方向外側に配置されており、処理ガスをガス分配チャンバに供給する。
本発明に従った装置の好ましい実施形態において、カバーは、その下面全体にわたって連続的に湾曲している。
本発明に従った装置の好ましい実施形態において、リンスノズルの放出口およびノズルアセンブリの下面が、カバーの中央開口部の下端に隣接して位置する鋭角で交わっている。
本発明に従った装置の好ましい実施形態において、スピンチャックは磁気ロータを備え、装置は、さらに、処理チャンバの外側に取り付けられて磁気ロータを囲む磁気ステータを備える。
別の態様において、本発明は、ウエハ形状物品を処理するための方法であって:処理チャンバ内に配置されたスピンチャック上に取り付けられた回転するウエハ形状物品上に処理液を供給する工程であって、処理液は、固定ノズルアセンブリを通して供給され、固定ノズルアセンブリは、固定ノズルアセンブリの放出端が、スピンチャックを覆い一緒に回転するようにスピンチャックに取り付けられたカバーの中央開口部を貫通するように処理チャンバ内に伸びる工程と;ノズルアセンブリに組み込まれたリンスノズルにリンス液を供給することによってカバーの下向きの面をリンスする工程であって、リンスノズルは、リンス液をノズルアセンブリの半径方向外向きにカバーの下向きの面へ方向付けるよう構成されている工程とを備える方法に関する。
本発明に従った方法の好ましい実施形態において、処理液を供給する工程の後に、ウエハ形状物品の上向きの面が、ノズルアセンブリに組み込まれた中央ノズルにリンス液を供給することによってリンスされる。
本発明に従った方法の好ましい実施形態において、カバーの下向きの面をリンスする工程およびウエハ形状物品の上向きの面をリンスする工程は、同時に実行される。
本発明に従った方法の好ましい実施形態において、カバーの下向きの面をリンスする工程の後に、カバーの下向きの面を乾燥させるために、スピンチャックが回転される。
本発明に従った方法の好ましい実施形態において、カバーの下向きの面をリンスする工程およびウエハ形状物品の上向きの面をリンスする工程の後に、カバーの下向きの面およびウエハ形状物品の上向きの面を同時に乾燥させるために、スピンチャックが回転される。
添付の図面を参照しつつ、本発明の好ましい実施形態についての以下の詳細な説明を読めば、本発明の他の課題、特徴、および、利点が明らかになる。
ここで、図1を参照すると、本発明の第1実施形態に従ったウエハ形状物品の表面処理のための装置は、環状スピンチャック16を中に配置された閉処理チャンバ13を備える。スピンチャック16は、チャンバ外に配置された磁気ステータ17によって囲まれた磁気ロータであり、その結果、磁気ロータは、チャンバ壁に触れることなしにチャンバ13内で自由に回転および浮上する。チャンバ13は、チャンバ13にしっかりと固定された蓋14によって上端で閉じられる。
かかる磁気ロータチャックの構造的な詳細については、例えば、同一出願人による米国特許第8,646,767号に記載されている。
環状スピンチャック16は、処理中にウエハWを解放可能に保持する円形列の下向きのグリップピン19を有する。下側供給ユニット22が、チャンバ13内で下に向いたウエハWの面に液体および/または気体を供給するために設けられている。ヒータ31が、実行中の処理に応じて所望の温度にウエハWを加熱するために、チャンバ13内に配置されている。ヒータ31は、複数の青色LEDランプを備えることが好ましく、それらの放射出力は、チャンバ13の構成要素よりもシリコンウエハによって選択的に吸収される傾向がある。
上側供給ユニットが、外側のガス導管27と、外側のガス導管27内に同軸的に配列された内側の液体導管25とを備える。導管25、27は両方とも、蓋14を横切り、チャンバ13内で上に向いたウエハWの面に液体および気体が供給されることを可能にする。上側供給ユニットは、以下で詳述するように、少なくとも1つのサイドノズルが形成された環状ノズル24にガスを供給する導管23も備える。
上側供給ユニットは、以下でも詳述するように、その場洗浄のためのリンス液を供給する導管36も備える。
ガスシャワーヘッドは、図2の平面図にも示されている流出口カバー28によって、その下側が規定されている。この実施形態における流出口カバー28は、ドーム形状を有しており、複数の放出オリフィス29を備え、これらのオリフィスは、ガスシャワーヘッドを出てガス分配チャンバ37からウエハWの上面に隣接する領域へ処理ガスを通すことができる。この実施形態における放出オリフィス29は各々、0.3〜2.0mm、好ましくは0.5〜1.5mm、より好ましくは0.7〜1.2mmの範囲の断面積を有する。少なくとも20のオリフィス29があることが好ましく、より好ましくは少なくとも50、さらに好ましくは少なくとも80、さらにまた好ましくは300である。
流出口ドーム28は、スピンチャック16にしっかりと固定されるか、または、一体的に形成されているため、スピンチャック16と共に回転する。一方、導管25、27は、チャンバ13の蓋14に固定的に取り付けられており、ドーム28に形成された中央開口部を通して若干のクリアランスをもって貫通する。
図2に示すように、ドーム28の中央領域および周辺領域の各々に複数のこれらのオリフィス29があり、中央領域は、ドーム28の半径の半分30の内側の領域として定義され、周辺領域は、半径の半分30の外側の領域として定義される。
図1に戻ると、ガス分配チャンバ37は、好ましい実施形態ではオゾンを含むガスである処理ガスのガス源(図示せず)と連通する処理ガス供給導管34を通して処理ガスを供給されることがわかる。
さらなるガス導管40が、チャンバ13の外周付近に提供されており、スピンチャック16の外周とチャンバ13の周囲の円筒壁との間に規定されたギャップにN2などのパージガスを方向付ける。また、ノズル40からのガスは、ノズル34から供給された処理ガスが分配チャンバ37内に閉じこめられるように境界を形成する。
図3に示すように、この実施形態のドーム28は、スピンチャック16と一体的に形成されている。ノズルアセンブリ21の下端が、ドーム28の中央開口部を通っており、環状ギャップ26が、これら2つの構成要素間に規定される。
スピンチャック16は、例えば、同一出願人による米国特許第8,646,767号および米国特許出願公開第2015/0008632号に記載されているように、上述のグリップピン19と、ピン19の上端のギアホイールが共通リングギア15の歯の部分と連続的にかみ合ったままになるように下向きにピン19を付勢するニードルベアリング18とを備える。
クリアランスすなわち環状ギャップ26は、一体的なドーム28を備えたスピンチャック16が、装置の蓋14に取り付けられた固定ノズルヘッド21に対して回転することを可能にするために必要である。
ノズルアセンブリ21は、さらに、導管23からガスを供給されるノズルブロック24を備えており、ノズルブロック24内には、図4に示すように、この環状ギャップ26に隣接してガスを方向付ける少なくとも1つのサイドノズル32が形成されている。サイドノズル32は、ギャップ33および26を通る望ましくない処理ガス流を抑制または防ぐために、N2 などの不活性ガスを供給されることが好ましい。
ノズル32の内径は、ノズル32の流入口および流出口での流路の面積よりも大幅に狭いことに注意されたい。また、ノズル32は、ギャップ26のさらに半径方向外側に隣接して配置される。したがって、不活性ガスは、ノズル32を通ってそこから放出される時に、ノズル32内で加速され、その結果、ベンチュリ効果で、環状ギャップ26の上端で減圧を生み出す。この減圧は、上記の構成でなければ発生しうるギャップ26へのあらゆる望ましくない処理ガス流を妨げるまたは防止する。
導管36は、リンス液体供給部(図示せず)から脱イオン水などのリンス液を供給される。導管36は、同軸のノズル25、27を囲むノズルアセンブリ21に形成された環状凹部38にリンス液を放出する。次いで、リンス液は、図4の下向き破線矢印で示すように、ノズル27の外側の垂直面に沿って下方に流れる。
この実施形態のノズルペア25、27は、半径方向外向きに突出したショルダを有するよう形成されており、ショルダは、リンス液がノズルアセンブリのハウジング21を出る時に衝突する実質的に水平な環状面39を提供する。リンス液は、ショルダ面39に衝突すると、図4の破線矢印で示すように、半径方向外向きに方向転換される。
特に、偏向ショルダ面39の位置および傾斜角度は、チャンバ13内でのウエハ処理中にドーム28の下向きの面に蓄積したポリマ系の残留物を溶解してリンス除去するために、リンス液がドーム28の下向きの面に噴霧されるように選択される。
凹部38および流出面39は環状である必要はなく、その代わり、ノズルペア25、27の周囲の限られた部分のみに各々が形成されてもよいことがわかる。なぜなら、その場合でも、チャック16が一体的なドーム28と共に回転する時に、リンス液がドーム28の下向きの面全体に広がるからである。
この実施形態の同軸周囲ノズル27は、脱イオン水などのリンス液の供給部(図示せず)にも接続され、中央ノズル25は、ウエハの乾燥のための処理ガスまたは不活性ガスであってよいガスを供給される。
導管36およびノズル27は、リンス液が、これらの要素の一方または両方を通して自在に供給されうるように、互いに独立してリンス液を供給されることが好ましい。
図4からわかるように、偏向面39は、ノズルペア25、27の隣接する傾斜面と鋭角を成すことが好ましく、これは、ギャップ26にリンス液が入り込むのを防ぐのに役立つ。さらに、チャンバ13内へ下に向いたノズルアセンブリ面およびドーム28の下向きの面は、それらの面のリンスおよび乾燥に役立つように、親水性の材料で形成されるか、または、親水性のコーティングまたは表面処理を提供されることが好ましい。
上述したリンス能力の利点は、装置を停止することなしに、アクセスし難いドーム28の下向きの面を洗浄できることである。実際、導管36、凹部38、および、偏向ショルダ39を用いたドーム28の下面のリンス動作は、ウエハWがスピンチャック16上に配置されていても、必要に応じて、ノズル27を用いてウエハをリンスするのと同時に、実行されてもよい。ウエハWおよび/またはドーム28の下面がこのようにリンスされた後、リンスされた面を乾燥させるために、スピンチャックの回転数が上げられ、その間、リンス液は少なくとも導管36には供給されず(ドーム面のみを乾燥させる場合)、ガスが導管25を通して任意選択的に供給される。
本発明は様々な好ましい実施形態に関連して説明されているが、それらの実施形態は、本発明の例示のために提供されているに過ぎないこと、そして、本発明はそれらの実施形態に限定されず、添付の特許請求の範囲の真の範囲および精神によって網羅されるものを含む。
Claims (20)
- ウエハ形状物品を処理するための装置であって、
処理チャンバと、
前記処理チャンバ内に配置され、ウエハ形状物品を所定の処理位置に保持するよう構成されたスピンチャックと、
前記スピンチャックを覆うカバーであって、前記スピンチャックと共に回転するように前記スピンチャックに固定されるかまたは一体的に形成され、中央開口部を有するカバーと、
放出端が前記カバーの前記中央開口部を貫通するように前記処理チャンバ内に伸びる固定されたノズルアセンブリと
を備え、
前記ノズルアセンブリは、リンス液を前記ノズルアセンブリの半径方向外向きに前記カバーの下向きの面へ方向付けるよう構成されたリンスノズルを備える装置。 - 請求項1に記載の装置であって、前記リンスノズルは、環状の放出口を備える装置。
- 請求項2に記載の装置であって、前記リンスノズルは、前記ノズルアセンブリの半径方向外向きにリンス液を偏向する環状ショルダを備える装置。
- 請求項1に記載の装置であって、前記カバーはドーム形状である装置。
- 請求項1に記載の装置であって、前記ノズルアセンブリは、さらに、最初に前記カバーに接触することなしに、前記スピンチャックに向かって下向きに処理液を方向付けるよう構成された少なくとも1つの処理液ノズルを備える装置。
- 請求項1に記載の装置であって、前記ノズルアセンブリは、さらに、前記スピンチャックに処理ガスまたは処理液を供給するための中央ノズルを備える装置。
- 請求項6に記載の装置であって、前記リンスノズルは前記中央ノズルを環状に囲んでいる装置。
- 請求項7に記載の装置であって、前記環状のリンスノズルの前記ショルダは、前記中央ノズルの外面と一体的に形成されている装置。
- 請求項1に記載の装置であって、前記カバーと前記処理チャンバの上側部分が、ガス分配チャンバを規定し、前記カバーは、その中央領域および周辺領域の各々に形成された複数の開口部を備え、それにより、前記ガス分配チャンバから前記スピンチャックによって保持されたウエハ形状物品の表面に処理ガスを供給する装置。
- 請求項9に記載の装置であって、前記複数の開口部の各々は、0.3〜2.0mm2の範囲の断面積を有する装置。
- 請求項9に記載の装置であって、前記複数の開口部は、少なくとも20の前記開口部を含む装置。
- 請求項9に記載の装置であって、さらに、前記ノズルアセンブリの半径方向外側に配置された少なくとも1つのガス供給ノズルを備え、前記少なくとも1つのガス供給ノズルは、処理ガスを前記ガス分配チャンバに供給する装置。
- 請求項1に記載の装置であって、前記カバーは、その下面全体にわたって連続的に湾曲している装置。
- 請求項1に記載の装置であって、前記リンスノズルの放出口および前記ノズルアセンブリの下面が、前記カバーの前記中央開口部の下端に隣接して位置する鋭角で交わっている装置。
- 請求項1に記載の装置であって、前記スピンチャックは磁気ロータを備え、前記装置は、さらに、前記処理チャンバの外側に取り付けられて前記磁気ロータを囲む磁気ステータを備える装置。
- ウエハ形状物品を処理するための方法であって、
処理チャンバ内に配置されたスピンチャック上に取り付けられた回転するウエハ形状物品上に処理液を供給する工程であって、
前記処理液は、固定されたノズルアセンブリを通して供給され、前記固定されたノズルアセンブリは、前記固定されたノズルアセンブリの放出端が、前記スピンチャックを覆って一緒に回転するように前記スピンチャックに取り付けられたカバーの中央開口部を貫通するように前記処理チャンバ内に伸びる工程と、
前記ノズルアセンブリに組み込まれたリンスノズルにリンス液を供給することによって前記カバーの下向きの面をリンスする工程であって、前記リンスノズルは、前記ノズルアセンブリの半径方向外向きに前記カバーの前記下向きの面へリンス液を方向付けるよう構成されている工程と
を備える方法。 - 請求項16に記載の方法であって、さらに、前記処理液を供給する工程の後に、前記ノズルアセンブリに組み込まれた中央ノズルにリンス液を供給することによって前記ウエハ形状物品の上向きの面をリンスする工程を備える方法。
- 請求項17に記載の方法であって、前記カバーの前記下向きの面をリンスする工程および前記ウエハ形状物品の前記上向きの面をリンスする工程は、同時に実行される方法。
- 請求項16に記載の方法であって、さらに、前記カバーの前記下向きの面をリンスする工程の後に、前記カバーの前記下向きの面を乾燥させるために、前記スピンチャックを回転させる工程を備える方法。
- 請求項15に記載の方法であって、さらに、前記カバーの前記下向きの面をリンスする工程および前記ウエハ形状物品の前記上向きの面をリンスする工程の後に、前記カバーの前記下向きの面および前記ウエハ形状物品の前記上向きの面を同時に乾燥させるために、前記スピンチャックを回転させる工程を備える方法。
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