JP2017108003A - 高周波モジュール - Google Patents
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Abstract
【課題】温度差に伴う破損を抑制し、かつ温度変化があっても高周波特性が変化することを抑制することができる高周波モジュールを提供する。
【解決手段】実施形態に係る高周波モジュールは、高周波部品と、前記高周波部品の実装面が接触するベースプレートと、前記ベースプレートに設けられ、前記ベースプレートが所定温度より高いときに前記高周波部品の側面から離間し、前記ベースプレートが前記所定温度以下のときに前記高周波部品の側面を挟持する固定部と、を備える。
【選択図】図3B
【解決手段】実施形態に係る高周波モジュールは、高周波部品と、前記高周波部品の実装面が接触するベースプレートと、前記ベースプレートに設けられ、前記ベースプレートが所定温度より高いときに前記高周波部品の側面から離間し、前記ベースプレートが前記所定温度以下のときに前記高周波部品の側面を挟持する固定部と、を備える。
【選択図】図3B
Description
本発明の実施形態は、高周波モジュールに関する。
近年、高周波半導体装置等の高周波部品を極低温の環境下において動作させる高周波モジュールが検討されている。極低温の環境下において動作する高周波部品は超伝導特性を有するため、極めて高性能な高周波モジュールを実現することができる。
このような高周波モジュールは、例えば銅モリブデン(CuMo)によって構成されるベースプレート上に、半田等の接合材を介して、アルミナ(酸化アルミニウム:Al2O3)基板を備えた高周波部品を実装することによって構成されている。
しかしながら、接合材を用いた実装時の温度は少なくとも150℃以上となる一方で、動作温度は例えば窒素の沸点以下である−195.8℃以下となり、両者の温度差が極めて大きいため、ベースプレートと高周波部品(のアルミナ基板)との熱膨張係数の違いによって、少なくとも両者のいずれか一方(例えばアルミナ基板)に応力がかかり破損する、という問題がある。
応力による破損を抑制するために、接合材を用いずに、固定金具を使ってベースプレートに高周波部品を実装する手段も考えられる。しかしながら、温度差によるベースプレートと高周波部品(のアルミナ基板)との収縮率が異なるため、温度が変化すると、ベースプレートに対して高周波部品がスライド移動し、ベースプレートに対する高周波部品の位置がずれる。しかも、その位置ずれ量は温度が変化する毎に異なる。この結果、温度が変化する毎に高周波モジュールの高周波特性が変化する、という問題がある。
実施形態は、温度差に伴う破損を抑制し、かつ温度変化があっても高周波特性が変化することを抑制することができる高周波モジュールを提供することを目的とする。
実施形態に係る高周波モジュールは、高周波部品と、前記高周波部品の実装面が接触するベースプレートと、前記ベースプレートに設けられ、前記ベースプレートが所定温度より高いときに前記高周波部品の側面から離間し、前記ベースプレートが前記所定温度以下のときに前記高周波部品の側面を挟持する固定部と、を備える。
以下に、実施形態に係る高周波モジュールについて、図面を参照して詳細に説明する。
<第1の実施形態>
図1は、第1の実施形態に係る高周波モジュールを模式的に示す斜視図である。また、図2Aは、第1の実施形態に係る高周波モジュールを模式的に示す上面図であり、図2Bは、図2Aの一点鎖線X−X´に沿った高周波モジュールの断面図である。
図1は、第1の実施形態に係る高周波モジュールを模式的に示す斜視図である。また、図2Aは、第1の実施形態に係る高周波モジュールを模式的に示す上面図であり、図2Bは、図2Aの一点鎖線X−X´に沿った高周波モジュールの断面図である。
図1、図2A、および図2Bに示されるように、第1の実施形態に係る高周波モジュール10は、冷却装置100上に配置され、極低温である所定温度の環境下において動作するモジュールである。なお、本願において、「所定温度」とは、例えば窒素の沸点(−195.8℃)である。
高周波モジュール10は、ベースプレート11および高周波部品12を具備しており、ベースプレート11に高周波部品12を実装することによって構成される。
高周波部品12は、高周波半導体装置、高周波回路装置、または高周波回路部品であって、実質的に平坦な実装面12m(図2B)を下面に有する。高周波部品12がベースプレート11に実装されたとき、高周波部品12の実装面12mは、ベースプレート11に接触している。
なお、上記「実質的に平坦な実装面12m」とは、高周波部品12の実装のために故意に形成した凹凸がない状態の実装面12mを意味する。
高周波部品12の一例である高周波半導体装置は、例えば銅(Cu)、または銅タングステン(CuW)等によって構成されるパッケージ基板を含むパッケージ内に、所望の高周波半導体チップを配置することによって構成されている。パッケージ内に配置される高周波半導体チップは、所定温度以下(例えば窒素の沸点以下)の極低温の環境下において超伝導特性を有する半導体チップである。
高周波部品12の他の一例である高周波回路装置は、例えばアルミナ(酸化アルミニウム:Al2O3)等によって構成される回路基板の上面上に所望の高周波回路を設けることによって構成されている。高周波回路装置は、所定温度以下(例えば窒素の沸点以下)の極低温の環境下において超伝導特性を有する高周波回路装置である。
高周波部品12のさらに他の一例である高周波回路部品は、例えばアルミナ(酸化アルミニウム:Al2O3)等によって構成されるチップ用基板の上面上にチップコンデンサ、チップ抵抗等を設けることによって構成されている。高周波回路部品は、所定温度以下(例えば窒素の沸点以下)の極低温の環境下において超伝導特性を有する高周波回路装置である。
このように、高周波部品12は、パッケージ基板、回路基板、チップ用基板、等の高周波部品用基板を備えており、所定温度以下(例えば窒素の沸点以下)の極低温の環境下において超伝導特性を有する部品である。
高周波部品12が実装されるベースプレート11は、高周波部品12において発せられる熱を冷却装置100に放熱し、高周波部品12を冷却する板体である。ベースプレート11は、高周波部品12の高周波部品用基板の熱膨張係数(以下、本願において高周波部品12の熱膨張係数と称する。)より大きい熱膨張係数を有する材料によって構成される、例えば四角形の板体であって、銅モリブデン(CuMo)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)等の熱伝導性に優れた金属材料によって構成される。
なお、ベースプレート11は、高周波部品12の熱膨張係数より5×10−6[/K]以上大きい熱膨張係数を有する材料によって構成されることが好ましいが、この理由については後述する。
図2Bに示すように、このベースプレート11の上面には、上面から下面方向に向かって延伸するように設けられた凹部13が設けられている。凹部13は、例えば直方体状のベースプレート材を切削加工する等して設けられている。この凹部13は、高周波部品12が実装される部分であって、側面13sと底面13bによって構成されている。側面13sは、高周波部品12を挟持して固定する固定部であり、底面13bは、側面13sによって囲まれかつ高周波部品12の実装面12mが接触する、実装面12mに対して相似形状のベースプレート11の一面である。
なお、本実施形態において、凹部13はベースプレート11の上面に設けられているとしたが下面、側面にあっても良い。本実施形態、および以下の実施形態において、ベースプレートの上面、下面、側面を総称して、ベースプレートの表面とする。
ベースプレート11に設けられた凹部13は、ベースプレート11の温度変化に伴う伸縮によって伸縮するが、本実施形態において、極低温である所定温度の環境下における凹部13の深さD1は、高周波部品12の高さHより浅くなっている(図2B)。
以下に、図3Aおよび図3Bを参照して、凹部13についてより詳細に説明する。図3Aは、ベースプレート11に高周波部品12を実装するときの温度(実装温度)での環境下における凹部13の様子を示すベースプレート11の上面図であり、図3Bは、極低温の環境下における凹部13の様子を示すベースプレート11の上面図である。なお、図3Aおよび図3Bに記載されている点線は、高周波部品12を示している。
図3Aに示すように、凹部13は、所定温度より高い温度(例えば室温等の実装温度)の環境下において、底面13bの面積が、高周波部品12の実装面12mの面積より大きくなるように設けられている。さらに、図3Bに示すように、凹部13は、所定温度以下の極低温(例えば窒素の沸点以下の温度)の環境下において、底面13bの面積が、高周波部品12の実装面12mの面積より小さくなるように設けられている。なお、このような底面13bの面積の変化は、温度変化に基づくベースプレート11の伸縮による。
再度図1、図2A、および図2Bを参照する。このような高周波モジュール10は、冷却装置100上に配置される。なお、冷却装置100については限定されないが、例えば、液体窒素等の寒材を充填可能な銅等の箱体によって構成されている。
高周波モジュール10が冷却装置100上に配置されることによってベースプレート11が極低温である所定温度以下となったとき、高周波部品12はベースプレート11に設けられた凹部13の側面13sである固定部に挟持されており、このようにして、高周波部品12がベースプレート11に実装されている。
次に、高周波部品12の実装方法について、図4および図5を参照して説明する。図4および図5はそれぞれ、高周波部品の実装方法を説明するための図であって、図2Bに相当する断面図である。
まず、所定温度より高い温度の環境下において、図4に示すように、ベースプレート11の凹部13に高周波部品12を配置する。高周波部品12は、凹部13の底面13bと高周波部品12の実装面12mとの間に接合材を介在させずに配置される。所定温度より高い温度の環境下において、凹部13の底面13bの面積は、高周波部品12の実装面12mの面積よりも大きくなっている(図3A)。したがって、高周波部品12は実装面12m以外の部分において、凹部13を含むベースプレート11から離間している。
次に、図5に示すように、冷却装置100上にベースプレート11を配置し、ベースプレート11を、所定温度まで冷却する。すると、凹部13の底面13bの面積が高周波部品12の実装面12mの面積よりも小さくなるように凹部13が収縮する(図3B)。この結果、凹部13の側面13sである固定部が高周波部品12の側面に接触して、固定部が高周波部品12を挟持する。このようにして高周波部品12は、ベースプレート11に実装される。なお、高周波部品12が凹部13に配置されていない場合、凹部13は、底面13bの面積が高周波部品12の実装面12mの面積よりも小さくなるように収縮するが、高周波部品12が凹部13に配置されている場合、凹部13の収縮は、高周波部品12に阻害され、凹部13は、底面13bの面積が高周波部品12の実装面12mの面積に実質的に一致するまで収縮する。
なお、ベースプレート11を所定温度よりさらに低い温度まで冷却してもよい。この場合であっても、高周波部品12は凹部13の側面13sである固定部に挟持されるため、高周波部品12をベースプレート11に実装することができる。
以上に説明したように、ベースプレート11の凹部13を、所定温度より高い温度(例えば室温)の環境下においては底面13bが高周波部品12の実装面12mより大きくなるように設けておき、ベースプレート11を所定温度以下の極低温の環境下に配置することによる凹部13の収縮によって、高周波部品12は、ベースプレート11に実装される。したがって、上述したように、ベースプレート11は、高周波部品12の熱膨張係数より大きい熱膨張係数を有する材料によって構成される必要がある。ベースプレート11の熱膨張係数と高周波部品12の熱膨張係数との差が5×10−6[/K]以上である場合、高周波部品12に対するベースプレート11の収縮率を十分に大きくできるため、より確実に高周波部品12をベースプレート11に実装することができる。したがって、ベースプレート11は、高周波部品12の熱膨張係数より5×10−6[/K]以上大きい熱膨張係数を有する材料によって構成されることが好ましい。反対に、ベースプレート11の熱膨張係数と高周波部品12の熱膨張係数との差が5×10−6[/K]より小さい場合、高周波部品12に対するベースプレート11の収縮率を十分に大きくできなくなり、ベースプレート11に対する高周波部品12の実装の信頼性が低下する。
以上に説明した第1の実施形態によれば、ベースプレート11に対して接合材を介さずに高周波部品12が固定されるため、高周波モジュール10の温度変化による破損を抑制することができる。
さらに、第1の実施形態によれば、高周波部品12に対する凹部13の収縮によって、高周波部品12がベースプレート11に固定される。ここで、凹部13は、自身の大きさ(凹部13の底面13bの面積および凹部13の深さD1)がベースプレート11の温度変化によって伸縮するのみであり、ベースプレート11に対する凹部13の位置は、温度毎に一意に決まっている。したがって、ベースプレート11に対して一定の位置に高周波部品12を実装することができ、高周波モジュール10の高周波特性の変化を抑制することができる。
<第1の実施形態の変形例>
図6は、第1の実施形態の変形例に係る高周波モジュール10´を示す図であって、図2Bに対応する断面図である。図6に示すように、底面13bおよび側面13s´によって構成される凹部13´を備える高周波モジュール10´において、所定温度の環境下における凹部13´の深さD1´は、高周波部品12の高さH以上の深さであってもよい。このような高周波モジュール10´であっても、第1の実施形態に係る高周波モジュール10と同様の効果を得ることができる。
図6は、第1の実施形態の変形例に係る高周波モジュール10´を示す図であって、図2Bに対応する断面図である。図6に示すように、底面13bおよび側面13s´によって構成される凹部13´を備える高周波モジュール10´において、所定温度の環境下における凹部13´の深さD1´は、高周波部品12の高さH以上の深さであってもよい。このような高周波モジュール10´であっても、第1の実施形態に係る高周波モジュール10と同様の効果を得ることができる。
<第2の実施形態>
図7Aは、第2の実施形態に係る高周波モジュールを模式的に示す上面図であり、図7Bは、図7Aの一点鎖線X−X´に沿った高周波モジュールの断面図である。以下に、図7Aおよび図7Bを参照して、第2の実施形態に係る高周波モジュールについて説明する。なお、以下の第2の実施形態に係る高周波モジュール20の説明において、第1の実施形態に係る高周波モジュール10と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。
図7Aは、第2の実施形態に係る高周波モジュールを模式的に示す上面図であり、図7Bは、図7Aの一点鎖線X−X´に沿った高周波モジュールの断面図である。以下に、図7Aおよび図7Bを参照して、第2の実施形態に係る高周波モジュールについて説明する。なお、以下の第2の実施形態に係る高周波モジュール20の説明において、第1の実施形態に係る高周波モジュール10と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。
第2の実施形態に係る高周波モジュール20において、高周波部品12が実装されるベースプレート21は、第1の実施形態に係る高周波モジュール10のベースプレート11と同一材料によって構成されている。
このベースプレート21の上面上には、凸部22がリング状に設けられている。凸部22は、例えば直方体状のベースプレート材を切削加工する等して設けられており、ベースプレート21と同一材料によって構成されている。しかし、凸部22の形成方法および凸部22の構成材料についてはこれに限定されない。
凸部22および凸部22で囲まれたベースプレート21の上面21uは、高周波部品12が実装される部分である。凸部22の側面22sは、高周波部品12を挟持して固定する固定部である。また、凸部22で囲まれたベースプレート21の上面21uは、高周波部品12の実装面12mが接触する部分である。したがって、凸部22は、凸部22で囲まれたベースプレート21の上面21uが高周波部品12の実装面12mに対して相似形状となるようにリング状に設けられている。
ベースプレート21に設けられた凸部22は、ベースプレート21の温度変化に伴う伸縮によって伸縮するが、本実施形態において、極低温である所定温度の環境下における凸部22の高さH1は、高周波部品12の高さHより低くなっている(図7B)。
以下に、図8Aおよび図8Bを参照して、凸部22についてより詳細に説明する。図8Aは、ベースプレート21に高周波部品12を実装するときの温度(実装温度)での環境下における凸部22の様子を示すベースプレート21の上面図であり、図8Bは、極低温の環境下における凸部22の様子を示すベースプレート21の上面図である。なお、図8Aおよび図8Bに記載されている点線は、高周波部品12を示している。
図8Aに示すように、凸部22は、所定温度より高い温度(例えば室温等の実装温度)の環境下において、凸部22で囲まれるベースプレート21の上面21uの面積が、高周波部品12の実装面12mの面積より大きくなるように設けられている。さらに、図8Bに示すように、凸部22は、所定温度以下の環境下において、凸部22で囲まれるベースプレート21の上面21uの面積が、高周波部品12の実装面12mの面積より小さくなるように設けられている。なお、このような凸部22で囲まれるベースプレート21の上面21uの面積の変化は、温度変化に基づくベースプレート21の伸縮による。
再度図7Aおよび図7Bを参照する。このような高周波モジュール20は、冷却装置100上に配置される。高周波モジュール20が冷却装置100上に配置されているとき、ベースプレート21は極低温である所定温度となる。このとき、高周波部品12はベースプレート21に設けられた凸部22の側面22sである固定部に挟持されており、このようにして、高周波部品12がベースプレート21に実装されている。
次に、高周波部品12の実装方法について、図9および図10を参照して説明する。図9および図10はそれぞれ、高周波部品の実装方法を説明するための図であって、図7Bに相当する断面図である。
まず、所定温度より高い温度の環境下において、図9に示すように、凸部22で囲まれたベースプレート21の上面21u上に高周波部品12を配置する。高周波部品12は、凸部22で囲まれるベースプレート21の上面21uと高周波部品12の実装面12mとの間に接合材を介在させずに配置される。所定温度より高い温度の環境下において、凸部22で囲まれるベースプレート21の上面21uの面積は、高周波部品12の実装面12mの面積よりも大きくなっている(図8A)。したがって、高周波部品12は実装面12m以外の部分において、ベースプレート21および凸部22から離間している。
次に、図10に示すように、冷却装置100上にベースプレート21を配置し、ベースプレート21を、所定温度まで冷却する。すると、凸部22で囲まれるベースプレート21の上面21uの面積が高周波部品12の実装面12mの面積よりも小さくなるようにベースプレート21が縮小する(図8B)。この結果、凸部22の側面22sである固定部が高周波部品12の側面に接触して、固定部が高周波部品12を挟持する。このようにして高周波部品12は、ベースプレート21に実装される。
なお、ベースプレート21を所定温度よりさらに低い温度まで冷却してもよい。この場合であっても、高周波部品12は凸部22の側面22sである固定部に挟持されるため、高周波部品12をベースプレート21に実装することができる。
以上に説明した第2の実施形態においても、第1の実施形態と同様の理由により、温度変化による破損の抑制が可能であり、さらに、ベースプレート21に対して一定の位置に高周波部品12を実装することができ高周波特性の変化の抑制が可能な高周波モジュール20を提供することができる。
<第2の実施形態の変形例>
図11は、第2の実施形態の変形例に係る高周波モジュールを示す図であって、図7Bに対応する断面図である。図11に示すように、側面22s´を有する凸部22´を備える高周波モジュール20´において、所定温度の環境下における凸部22´の高さH1´は、高周波部品12の高さH以上であってもよい。このような高周波モジュール20´であっても、第2の実施形態に係る高周波モジュール20と同様の効果を得ることができる。
図11は、第2の実施形態の変形例に係る高周波モジュールを示す図であって、図7Bに対応する断面図である。図11に示すように、側面22s´を有する凸部22´を備える高周波モジュール20´において、所定温度の環境下における凸部22´の高さH1´は、高周波部品12の高さH以上であってもよい。このような高周波モジュール20´であっても、第2の実施形態に係る高周波モジュール20と同様の効果を得ることができる。
<第3の実施形態>
図12Aは、第3の実施形態に係る高周波モジュールを模式的に示す上面図であり、図12Bは、図12Aの一点鎖線X−X´に沿った高周波モジュールの断面図である。以下に、図12Aおよび図12Bを参照して、第3の実施形態に係る高周波モジュール30について説明する。なお、以下の第3の実施形態に係る高周波モジュール30の説明において、第2の実施形態に係る高周波モジュール20と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。
図12Aは、第3の実施形態に係る高周波モジュールを模式的に示す上面図であり、図12Bは、図12Aの一点鎖線X−X´に沿った高周波モジュールの断面図である。以下に、図12Aおよび図12Bを参照して、第3の実施形態に係る高周波モジュール30について説明する。なお、以下の第3の実施形態に係る高周波モジュール30の説明において、第2の実施形態に係る高周波モジュール20と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。
第3の実施形態に係る高周波モジュール30において、高周波部品12が実装されるベースプレート21の上面上には、複数の凸部31がリング状に配列されて設けられている。すなわち、複数の凸部31は、第2の実施形態に係る高周波モジュール20の凸部22を複数に分割した構成となっている。
複数の凸部31および複数の凸部31で囲まれたベースプレート21の上面21uは、高周波部品12が実装される部分である。複数の凸部31の複数の側面31sは、高周波部品12を挟持して固定する固定部である。また、複数の凸部31で囲まれたベースプレート21の上面21uは、高周波部品12の実装面12mが接触する部分である。したがって、複数の凸部31は、複数の凸部31で囲まれたベースプレート21の上面21uが高周波部品12の実装面12mに対して相似形状となるようにリング状に設けられている。
ベースプレート21に設けられた複数の凸部31は、ベースプレート21の温度変化に伴う伸縮によって伸縮するが、本実施形態において、極低温である所定温度の環境下における複数の凸部31の各々の高さH2は、高周波部品12の高さHより低くなっている(図12B)。
以下に、図13Aおよび図13Bを参照して、複数の凸部31についてより詳細に説明する。図13Aは、ベースプレート21に高周波部品12を実装するときの温度(実装温度)での環境下における複数の凸部31の様子を示すベースプレート21の上面図であり、図13Bは、極低温の環境下における複数の凸部31の様子を示すベースプレート21の上面図である。なお、図13Aおよび図13Bに記載されている点線は、高周波部品12を示している。
図13Aに示すように、複数の凸部31は、所定温度より高い温度(例えば室温等の実装温度)の環境下において、複数の凸部31で囲まれるベースプレート21の上面21uの面積(図中の一点鎖線で囲われる部分の面積)が、高周波部品12の実装面12mの面積より大きくなるように設けられている。さらに、図13Bに示すように、複数の凸部31は、所定温度以下の環境下において、複数の凸部31で囲まれるベースプレート21の上面21uの面積(図中の一点鎖線で囲われる部分の面積)が、高周波部品12の実装面12mの面積より小さくなるように設けられている。なお、このような複数の凸部31で囲まれるベースプレート21の上面21uの面積の変化は、温度変化に基づくベースプレート21の伸縮による。
再度図12Aおよび図12Bを参照する。このような高周波モジュール30は、冷却装置100上に配置される。高周波モジュール30が冷却装置100上に配置されているとき、ベースプレート21は所定温度となる。このとき、高周波部品12はベースプレート21に設けられた複数の凸部31の複数の側面31sである固定部に挟持されており、このようにして、高周波部品12がベースプレート21に実装されている。
なお、ベースプレート21を所定温度よりさらに低い温度まで冷却してもよい。この場合であっても、高周波部品12は複数の凸部31の複数の側面31sである固定部に挟持されるため、高周波部品12をベースプレート21に実装することができる。
以上に説明した複数の凸部31を有するベースプレート21に高周波部品12を実装する方法は、リング状の凸部22を有するベースプレート21に高周波部品12を実装する方法と同様である。
以上に説明した第3の実施形態においても、第2の実施形態と同様の理由により、温度変化による破損の抑制が可能であり、さらに、ベースプレート21に対して一定の位置に高周波部品12を実装することができ高周波特性の変化の抑制が可能な高周波モジュール30を提供することができる。
さらに、第3の実施形態によれば、複数の凸部31が互いに離間しているため、複数の凸部31の形成位置を変えることなく、様々な形状の高周波部品を固定することができる。したがって、第2の実施形態に係る高周波モジュール20と比較して、汎用性を向上させることができる。
<第3の実施形態の変形例>
図14は、第3の実施形態の変形例に係る高周波モジュールを示す図であって、図12Bに対応する断面図である。図14に示すように、側面31s´を有する凸部31´を備える高周波モジュール30´において、所定温度の環境下における複数の凸部31´の高さH2´は、高周波部品12の高さH以上の高さであってもよい。このような高周波モジュール30´であっても、第3の実施形態に係る高周波モジュール30と同様の効果を得ることができる。
図14は、第3の実施形態の変形例に係る高周波モジュールを示す図であって、図12Bに対応する断面図である。図14に示すように、側面31s´を有する凸部31´を備える高周波モジュール30´において、所定温度の環境下における複数の凸部31´の高さH2´は、高周波部品12の高さH以上の高さであってもよい。このような高周波モジュール30´であっても、第3の実施形態に係る高周波モジュール30と同様の効果を得ることができる。
以上に、本発明の実施形態を説明したが、この実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の趣旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
例えば冷却装置をベースプレートに組み込んでもよい。例えば図15Aおよび図15Bに示すように、ベースプレート11の内部に、液体窒素等の寒材を流すことができる流路101を設けてもよい。この場合、流路101内に寒材を流すことによってベースプレート11を冷却できるため、冷却装置100は不要となり、冷却装置を含めた高周波モジュールの小型化が可能となる。なお、流路101は、ベースプレート21に設けてもよい。
10、10´、20、20´、30、30´・・・高周波モジュール
11・・・ベースプレート
12・・・高周波部品
12m・・・実装面
13、13´・・・凹部
13b・・・底面
13s、13s´・・・側面
21・・・ベースプレート
21u・・・ベースプレートの上面
22、22´、31、31´・・・凸部
22s、22s´、31s、31s´・・・側面
100・・・冷却装置
101・・・流路
11・・・ベースプレート
12・・・高周波部品
12m・・・実装面
13、13´・・・凹部
13b・・・底面
13s、13s´・・・側面
21・・・ベースプレート
21u・・・ベースプレートの上面
22、22´、31、31´・・・凸部
22s、22s´、31s、31s´・・・側面
100・・・冷却装置
101・・・流路
Claims (11)
- 高周波部品と、
前記高周波部品の実装面が接触するベースプレートと、
前記ベースプレートに設けられ、前記ベースプレートが所定温度より高いときに前記高周波部品の側面から離間し、前記ベースプレートが前記所定温度以下のときに前記高周波部品の側面を挟持する固定部と、
を備える高周波モジュール。 - 前記固定部は、前記ベースプレートが前記所定温度以下のときに、前記固定部で囲まれる前記ベースプレートの面積が前記高周波部品の実装面の面積より狭くなるように設けられる、請求項1に記載の高周波モジュール。
- 前記固定部は、前記ベースプレートの表面に設けられた凹部の側面である、請求項1または2に記載の高周波モジュール。
- 前記固定部は、前記ベースプレートの表面に設けられた凸部の側面である、請求項1または2に記載の高周波モジュール。
- 前記凸部は、前記ベースプレートの表面にリング状に設けられる、請求項4に記載の高周波モジュール。
- 前記リング状の前記凸部は、複数に分割されている、請求項5に記載の高周波モジュール。
- 前記ベースプレートの熱膨張係数は、前記高周波部品の熱膨張係数より大きい、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の高周波モジュール。
- 前記ベースプレートの熱膨張係数と前記高周波部品の熱膨張係数との差は、5×10−6[/K]以上である、請求項7に記載の高周波モジュール。
- 前記所定温度は窒素の沸点であり、
前記高周波部品は、超伝導特性を有する部品である、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の高周波モジュール。 - 前記高周波部品は、高周波回路装置、または高周波回路部品である、請求項9に記載の高周波モジュール。
- 前記高周波部品は、高周波半導体装置である、請求項9に記載の高周波モジュール。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2015241024A JP2017108003A (ja) | 2015-12-10 | 2015-12-10 | 高周波モジュール |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2018221134A1 (ja) | 2017-05-31 | 2018-12-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版原版作製用樹脂組成物、及び、平版印刷版の作製方法 |
-
2015
- 2015-12-10 JP JP2015241024A patent/JP2017108003A/ja active Pending
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WO2018221134A1 (ja) | 2017-05-31 | 2018-12-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版原版作製用樹脂組成物、及び、平版印刷版の作製方法 |
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