JP2017100403A - 積層体の製造方法、及び、その利用 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、一実施形態に係る積層体の製造方法について、より詳細に説明する。
図1の(a)及び(b)に示すように、加水分解工程では、ポリイミド樹脂により形成された基板1の平面部に存在するイミド結合の一部を加水分解することで、開裂させ、アミノ基とカルボキシル基とを形成する。これらアミノ基とカルボキシル基とは、開裂したポリイミド樹脂における分子鎖の末端に存在する。
図1の(a)に示すように、基板1は、予めフィルム状に形成されているポリイミド樹脂から形成されており、典型的にはフィルム基板及びフレキシブル基板等として用いられるものである。基板1は、積層体10に積層された状態において、様々な工程を行なうことにより、配線等を形成し、集積回路等の構造物が実装される。
処理液は、ポリイミド樹脂から形成されている基板1の表面に存在するイミド結合を加水分解によって開裂させ、アミノ基を形成する。処理液は、有機アルカリ化合物、及び、水を含んでおり、より好ましくは、水溶性有機溶剤をさらに含んでいる。
図1の(d)に示すように、接着層形成工程では、ポリアミック酸を含んでいる接着剤をサポートプレート2上に塗布し、当該サポートプレート2を加熱することにより接着層3を形成する。
サポートプレート(支持体)2は、基板1を支持する支持体である(図1の(c))。サポートプレート2は、接着層3を介して基板1に貼り付けられる。サポートプレート2は、基板1の搬送、及び、基板1に対する回路等の実装等のプロセス時に、基板1の破損又は変形を防ぐために必要な強度を有していればよく、ガラス、又はシリコンからなるサポートプレート等を用いることができる。
接着層3は、下記式(1)に示す構成単位を有しているポリアミック酸を含んでなる層である。
ポリアミック酸の合成原料となるテトラカルボン酸二無水物成分は、ジアミン成分と反応することによりポリアミック酸を形成可能なものであれば特に限定されない。テトラカルボン酸二無水物成分は、従来からポリアミック酸の合成原料として使用されているテトラカルボン酸二無水物から適宜選択することができる。テトラカルボン酸二無水物成分は、芳香族テトラカルボン酸二無水物であっても、脂肪族テトラカルボン酸二無水物であってもよい。形成される接着層3の耐熱性の点から、テトラカルボン酸二無水物成分は、芳香族テトラカルボン酸二無水物であることが好ましい。なお、テトラカルボン酸二無水物成分は、2種以上を組合せて用いてもよい。
ポリアミック酸の合成原料となるジアミン成分は、テトラカルボン酸二無水物成分と反応することによりポリアミック酸を形成可能なものであれば特に限定されない。ジアミン成分は、従来からポリアミック酸の合成原料として使用されているジアミンから適宜選択することができる。ジアミン成分は、芳香族ジアミンであっても、脂肪族ジアミンであってもよい。形成される接着層3の耐熱性の点から、ジアミン成分は、芳香族ジアミンであることがより好ましい。ジアミン成分は、2種以上を組合せて用いてもよい。
ポリアミック酸の合成では、テトラカルボン酸二無水物成分、ジアミン成分、及び、溶剤以外に、その他の成分として、重合促進剤、及び、ジカルボン酸二無水物を含んでいてもよい。
貼付工程では、イミド結合を加水分解させた平面部がサポートプレート2に対向するようにして、基板1とサポートプレート2とを接着層3を介して貼り付ける。
貼付工程において形成された積層体10には、その後の工程において、フォトリソグリフィーやプラズマ化学気相堆積法(プラズマCVD法)等によって、基板1上に回路等が形成される。このような、基板1上に回路等を形成する工程では、プラズマCVD法にて基板上に堆積したアモルファスシリコンの脱水素化、及び、脱水素化により形成されたシリコン層の多結晶化等も行なわれる。これらの工程において、積層体10は、減圧環境下、又は、窒素やアルゴン等の不活性ガス環境下において、200以上、400℃以下の範囲内の温度条件に供される。
積層体10は、ポリイミド樹脂によって予めフィルム状に形成されている基板1と、基板1を支持するサポートプレート2とを、上記式(1)に示すポリアミック酸を含んでなる接着層3を介して積層してなる積層体であって、上記基板における上記支持体に対向する平面部に存在するポリイミド樹脂由来のアミノ基と、ポリアミック酸が有するカルボキシル基とが縮合することで形成されるアミド結合を有している。つまり、本発明の一実施形態に係る積層体は、典型的には、本発明の一実施形態に係る積層体の製造方法によって製造された積層体10である。
本発明の一実施形態に係る積層体の形成キットは、本発明の一実施形態に係る積層体の製造方法が包含している加水分解工程において用いられる処理液と、接着層形成工程において用いられる接着剤とを備えている。
以下に、本発明の一実施形態に係る基板の処理方法についてより詳細に説明する。
積層体10から基板1を剥離するための方法は、基板1の種類、及び、基板1に形成される回路等の種類に応じて、適宜選択すればよい。例えば、図1の(f)に示すように、剥離工程では、積層体10におけるサポートプレート2を、例えば、載置台に吸着固定し、基板1の一辺を固定した状態において、当該基板1の一辺を持ち上げることにより、徐々に剥離する。積層体10における基板の一辺を固定する方法としては、ピンセット等にて挟持する方法、粘着テープを貼着する方法、及び、吸着部によって吸着固定する方法等を挙げることができる。なお、積層体10を、基板1の周縁部分の一部がサポートプレート2からはみ出すようにして積層しておき、当該一部を挟持して基板1を持ち上げることで基板1を剥離してもよい。
本発明の一実施形態に係る積層体の製造方法は、上記の実施形態に限定されない。例えば、別の実施形態に係る積層体の製造方法では、加水分解工程において、基板1における2つの平面部のうち、接着層3に対向する側の一方の面にのみ加水分解工程を行なう。
本発明に係る積層体は、基板を形成するポリイミド樹脂由来のアミノ基は、加水分解によってイミド結合を開裂することにより得られるものに限定されない。つまり、ポリイミド樹脂を合成するときに用いられるジアミン成分に由来するアミノ基であれば、基板が有しているアミノ基の由来は限定されない。当該構成においても、基板の平面部に存在するアミノ基と、接着層が含んでいるポリアミック酸が有しているカルボキシル基とを縮合させる、アミド結合を形成することができるからである。
実施例1の積層体、及び、比較例1〜2の積層体を作製し、各積層体について耐熱性の評価、及び、剥離性の評価を行なった。
まず、実施例1について、ポリアミック酸を含む接着剤として、Pyre−ML(登録商標)RC−5019(ポリ(ピロメリット酸二無水物−co−4,4’−オキシジアニリン)アミド酸溶液;NMP溶液、濃度15.0〜16.0重量%、シグマ−アルドリッチ社製)をNMPで、樹脂の濃度が2重量%になるように希釈したものを調製した。次に、このポリアミック酸を含む接着剤をスピンコートにより10cm角のガラス支持体に塗布し、170℃、3分間の条件にて加熱することで、ガラス支持体上に、厚さ200nmの接着層を形成した(接着層形成工程)。
次いで、比較例1の積層体として、ポリ(アクリル酸)溶液(平均分子量〜100,000、水溶液、濃度35重量%、シグマ−アルドリッチ社製)を、ポリアクリル酸の濃度が4重量%になるように水で希釈し、実施例1に用いたものと同じガラス支持体にスピンコートにて塗布した。続いて、100℃、3分間の条件にて、ガラス支持体を加熱し、厚さ200nmの接着層を形成した。また、実施例1と同じ条件にて、PIフィルム基板を加水分解処理し、加熱により乾燥させた。その後、実施例1と同じ条件にて、PIフィルム基板とガラス支持体とを貼り付けた。これにより、比較例1の積層体を作製した。
次いで、比較例2の積層体として、3−アミノプロピルトリエトキシシラン(APTES、カップリング剤、信越化学社製)を、実施例1に用いたものと同じガラス支持体にスピンコートにて塗布した。続いて、170℃、3分間の条件にて、ガラス支持体を加熱した。また、実施例1と同じ条件にて、PIフィルム基板を加水分解処理し、加熱により乾燥させた。その後、実施例1と同じ条件にて、PIフィルム基板とガラス支持体とを、貼り付けた。これにより、比較例2の積層体を作製した。
次いで、実施例1の積層体、及び、比較例1〜2の積層体について、剥離性の評価を行なった。耐熱性及び剥離性の評価条件は、以下に示す通りである。
耐熱性の評価は、上述の作製時において各積層体を、縦型ベーク炉TS8000MB(東京応化工業株式会社製)に入れ、窒素環境下、350℃、1時間の条件にて加熱することにより行った。加熱後の状態において、目視にて、PIフィルム基板とガラス支持体との間にボイドが発生しているか否かを評価し、ボイドが発生していない積層体を「○」として評価し、ボイドが発生している積層体を「×」として評価した。耐熱性の評価結果を以下の表1に示す。
剥離性の評価は、耐熱性評価後の各積層体について、ガラス支持体に積層したPIフィルム基板に1cm×9cmのサイズに切り込みを入れ、積層体を水平に固定した状態で、PIフィルム基板の切り込みを入れた部分における長さ方向の一端を把持し、垂直方向に向かって上側に0.75cm/秒の速度にて持ち上げたときの剥離強度を評価した。なお、剥離強度の測定には、引張圧縮試験機SV−55C−2H(今田製作所製)を用いた。剥離性の評価結果を以下の表1に示す。
実施例1の積層体では、350℃、1時間の加熱条件においても、ボイドの発生が認められなかった。また、実施例1の積層体は、PIフィルム基板の剥離強度が45〜47g/cmであり、PIフィルム基板を破損することなく首尾よく剥離することができた。また、接着層は、PIフィルム基板に一体化して、ガラス支持体から剥離されていた。
2 サポートプレート(支持体)
3 接着層
10 積層体
Claims (10)
- ポリイミド樹脂からなる基板と、上記基板を支持する支持体とを接着層を介して積層してなる積層体の製造方法であって、
上記基板の二つの平面部のうちの一方の平面部に存在するイミド結合の一部を加水分解させる加水分解工程と、
下記式(1)に示す構成単位
R2は2価の有機基であり、炭素原子及び水素原子のほかに、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及び、ハロゲンからなる群から選択される原子を含んでいてもよい、炭素原子数が2以上、50以下の芳香族基、脂肪族基、又は、脂環基であり、
nは1以上である)
を有するポリアミック酸を含んでなる接着層を上記支持体上に形成する接着層形成工程と、
上記イミド結合を加水分解させた平面部が上記支持体に対向するようにして、上記基板と上記支持体とを上記接着層を介して貼り付ける貼付工程と、を包含していることを特徴とする積層体の製造方法。 - 上記式(1)に示す構成単位におけるR1は、4価の芳香族基であり、R2はフェニレン基、2価のジフェニルエーテル基、及び、2価のベンゾフェノン基からなる群から選択される少なくとも1つの基であることを特徴とする請求項1に記載の積層体の製造方法。
- 上記加水分解工程では、有機アルカリ化合物、及び水を含んでいる処理液によって上記イミド結合を加水分解させることを特徴とする請求項1又は2に記載の積層体の製造方法。
- 上記有機アルカリ化合物は、4級アンモニウム水酸化物であることを特徴とする請求項3に記載の積層体の製造方法。
- 上記処理液は、さらに、水溶性有機溶剤を含んでいることを特徴とする請求項3又は4に記載の積層体の製造方法。
- 請求項1〜5の何れか1項に記載の積層体の製造方法によって積層体を製造する積層体形成工程と、
上記積層体形成工程後、上記積層体から上記基板を剥離する剥離工程と、を包含していることを特徴とする基板の処理方法。 - ポリイミド樹脂からなる基板と、上記基板を支持する支持体とを接着層を介して積層してなる積層体であって、
上記基板における上記支持体に対向する平面部に存在するポリイミド樹脂が有するアミノ基と、
下記式(1)に示す構成単位
R2は2価の有機基であり、炭素原子及び水素原子のほかに、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、及び、ハロゲンからなる群から選択される原子を含んでいてもよい、炭素原子数が2以上、50以下の芳香族基、脂肪族基、又は、脂環基であり、
nは1以上である)
を有するポリアミック酸が有するカルボキシル基と、に由来するアミド結合を有していることを特徴とする積層体。 - 上記式(1)に示す構成単位におけるR1は、4価の芳香族基であり、R2はフェニレン基、2価のフェニルエーテル基、及び2価のベンゾフェノン基からなる群から選択される少なくとも1つの基であることを特徴とする請求項7に記載の積層体。
- 請求項3又は4に記載の積層体の製造方法に用いられる積層体の形成キットであって、
有機アルカリ化合物、及び水を含んでなる上記処理液と、
上記式(1)に示す構成単位を備えるポリアミック酸、及び、有機溶剤を含んでなる接着剤と、を備えていることを特徴とする積層体の形成キット。 - 上記処理液は、さらに水溶性有機溶剤を含んでいることを特徴とする請求項9に記載の積層体の形成キット。
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