JP2017059706A - 表面実装型半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
表面実装型半導体装置及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017059706A JP2017059706A JP2015183901A JP2015183901A JP2017059706A JP 2017059706 A JP2017059706 A JP 2017059706A JP 2015183901 A JP2015183901 A JP 2015183901A JP 2015183901 A JP2015183901 A JP 2015183901A JP 2017059706 A JP2017059706 A JP 2017059706A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal layer
- layer
- substrate
- semiconductor device
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
- H01L2924/1815—Shape
- H01L2924/1816—Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body
- H01L2924/18161—Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body of a flip chip
Landscapes
- Led Device Packages (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
【課題】 低製造コストの表面実装型半導体装置を提供する。【解決手段】 垂直型LED素子2は、キャビティ1a内の中央に露出した第1の金属層11上に搭載される。電極層2aと第1の金属層11との間にAuSn共晶接合層3が設けられ、電極層2aは放熱性能が優れたAuSn共晶接合層3を介して第1の金属層11に電気的に接続されている。垂直型LED素子2の電極パッド2bはボンディングワイヤ4を介して第2の金属層13aに電気的に接続されている。キャビティ1a内において、垂直型LED素子2上に、波長変換層10−1、透明樹脂プレート10−2、及び白色樹脂層10−3を設ける。基板1の第2の金属層13aを含む領域を実装面側に折り曲げさらに内側に折り返して第1の端子部8を形成する。基板1の上方に露出された第1の金属層11を含む領域は実装面側に折り曲げさらに内側に折り返されて第2の端子部9を形成する。【選択図】 図5
Description
本発明は半導体素子たとえば発光ダイオード(LED)素子を搭載した表面実装型半導体装置(パッケージ)及びその製造方法に関する。
第1の従来の表面実装型半導体装置は、放熱作用もする第1、第2のリードと、第1のリード上に搭載されたLED素子と、LED素子を囲みキャビティを形成する樹脂成形体と、第1、第2のリードを離間して電気的に絶縁保持する樹脂保持部材とによって構成されている。この場合、LED素子の第1、第2の電極は第1、第2のリードに電気的に接続されている(参照:特許文献1)。
第2の従来の表面実装型半導体装置は、LED素子を搭載しLED素子の第1の電極に電気的に接続される搭載部、LED素子の周囲からの光を反射する反射部及び熱を放散する放熱部を有する第1のリードフレームと、LED素子の第2の電極に電気的に接続された第2のリードフレームと、全体を覆うモールド樹脂層とによって構成されている。この場合、第1のリードフレームと第2のリードフレームとは離間しており、モールド樹脂層によって保持されている(参照:特許文献2)。
しかしながら、上述の第1、第2の従来の表面実装型半導体装置においては、樹脂成形体及び樹脂保持体または全体を覆うモールド樹脂層を形成する熱可塑性樹脂層は金型を用いた樹脂成形によって形成されるので、製造コストが高いという課題がある。また、樹脂成形時の高温工程のために、LED素子と第1のリード又はリードフレームとの接合に熱圧着による融点が低い高放熱性能の共晶接合たとえばAuSn共晶接合を用いることができない。従って、LED素子と第1のリード又はリードフレームとの接合を融点が高い銀系ペースト等で行うことになり、放熱性能が低下するという課題もある。さらに、熱可塑性樹脂層、銀系ペースト等により車載エキステリア用途に求められる高温動作性、耐候性、耐硫化性等の信頼性が低いという課題もある。
上述の課題を解決するために、本発明に係る表面実装型半導体装置は、第1の金属層、第1の金属層上に部分的に形成された絶縁層、及び絶縁層上に部分的に形成された第2の金属層を有する基板と、基板上に搭載され、第1、第2の電極を有する半導体素子とを具備し、第1の電極は第1の金属層に電気的に接続され、第2の電極は第2の金属層に電気的に接続され、基板の第2の金属層を含む領域は第2の金属層が実装面側に配置されるように曲げ加工されて第1の端子部を形成するものである。
また、本発明に係る表面実装型半導体装置の製造方法は、第1の金属層、第1の金属層上に形成された絶縁層、及び絶縁層上に形成された第2の金属層を有する基板を準備する基板準備工程と、第2の金属層を部分的に除去する金属層除去工程と、金属層除去工程後に、絶縁層の露出した領域を部分的に除去する絶縁層除去工程と、絶縁層除去工程後に、基板上に半導体素子を搭載する半導体素子搭載工程と、半導体素子の第1の電極を第1の金属層の露出した領域に電気的に接続させる第1の電気的接続工程と、半導体素子の第2の電極を第2の金属層の露出した領域に電気的に接続させる第2の電気的接続工程と、第1、第2の電気的接続工程後に、基板の第2の金属層を含む領域を第2の金属層が実装面側に配置されるように曲げ加工して第1の端子部を形成する基板折曲工程とを具備するものである。
本発明によれば、金型を用いた樹脂成形が不要となるので、樹脂製リジット基板を用いた表面実装型半導体装置と同程度に製造コストを低減できる。また、樹脂成形による高温工程が存在しないので、半導体素子と第1の金属層との間の接合を熱圧着による融点が低い高放熱性能の共晶接合たとえばAuSn共晶接合を用いて行うことができ、従って、放熱性能を高めることができる。さらに、熱可塑性樹脂層、銀系ペースト等を用いなくてもよいので、車載エキステリア用途に求められる高温動作性、耐候性、耐硫化性等の信頼性を高くできる。
図1は本発明に係る表面実装型半導体装置に用いられる基板の加工前状態を示す断面図である。
図1において、基板1は、加熱または加圧により積層された第1の金属層11、絶縁層12及び第2の金属層13よりなる。絶縁層12は好ましくはポリイミド層である。つまり、ポリイミド層は高い絶縁耐圧を有するので、薄くできる。十分な絶縁耐圧が得られれば、絶縁層12の厚さは薄い程よく、たとえば3〜25μmである。このように薄い絶縁層12の熱抵抗は非常に小さく、従って、基板1全体の熱抵抗も小さくなり、放熱特性を向上できる。他方、第1の金属層11は銅または銅合金よりなり、その厚さは100μm〜1000μmたとえば150μmと小さく、また、第2の金属層13は銅または銅合金よりなり、その厚さは9μm〜200μmたとえば36μmと小さい。従って、第1の金属層11が基板1及びLED素子2を実質的に支持すると共に、基板1全体は良好な屈曲特性を有し、三次元加工が容易となる。尚、第1の金属層11はアルミニウムまたはアルミニウム合金等により形成してもよい。
尚、図1において、絶縁層12として、エポキシ樹脂層を用いると、ポリイミド層に比較してエポキシ樹脂層の絶縁耐圧は小さく、この結果、十分な絶縁耐圧を得るには、エポキシ樹脂層の厚さは少なくとも1mm程度必要となる。このように厚いエポキシ樹脂層の熱抵抗は大きく、従って、基板全体の熱抵抗も大きくなり、放熱特性は低下する。また、基板の屈曲特性も低く、三次元加工が困難となる。十分な絶縁耐圧を得るために、熱伝導率が大きいアルミナ等の無機フィラーを大量に添加すればよいが、この場合には、基板の屈曲特性はさらに低下し、三次元加工が困難となる。
図2、図3、図4、図5は本発明に係る表面実装型半導体装置の第1の実施の形態を示し、より詳しくは、図2は図1の基板1のLED素子搭載前の加工状態を示し、(A)は上面図、(B)は(A)の正面図、(C)は(B)の溝の配置を示す図、図3は表面実装型半導体装置の完成状態の斜視図、図4の(A)は図3の上面図、図4の(B)は(A)の左側面図、図4の(C)は(A)の右側面図、図4の(D)は(A)の底面図、図4の(E)は(A)の正面図、図5は図4の(A)のV−V線拡大断面図である。
図2において、図1の基板1を加工する。すなわち、図1の第2の金属層13は部分的に除去されて図2の(A)において絶縁層12a及び第1の金属層11が露出し、第2の金属層13aが残存し、図1の絶縁層12は部分的に除去されて図2の(A)において第1の金属層11が露出し、絶縁層12aが残存している。つまり、絶縁層12aは第1の金属層11上に部分的に形成されており、第2の金属層13aは絶縁層12a上に部分的に形成されている。また、図1の基板1の中央部を上拡がり(すり鉢)形状に三次元に加工してある。この上拡がり形状はその内部にキャビティ1aを形成する。第1の金属層11の露出領域はキャビティ1aの中央まで延在しており、これにより、後述のごとく、垂直型LED素子2をキャビティ1aの中央の露出した第1の金属層11上に搭載できるようにする。また、基板1の裏面には折り曲げる際に用いられる溝1b−1、1b−2、1b−3、1b−4が設けられている。尚、図2の(A)、(B)の基板1は1つの表面実装型半導体装置分を図示してあるが、実際には、基板1は、図1の(C)に示すごとく、複数の表面実装型半導体装置を製造できる構成となっており、溝1b−1、1b−2、1b−3、1b−4は個別の各表面実装型半導体装置に跨って設けられる。この場合、溝1b−1、1b−2、1b−3、1b−4は連続的でも、不連続的でもよい。
また、図2においては、図5に示すように、第1の金属層11、13aの露出された斜線領域及びキャビティ1aの底部の第1の金属層11の裏面の領域に、後述のAuSn共晶接合層3の接着のために、第1の金属層11及び第2の金属層13上に、順次、Cuめっき、Niめっき及びAuめっきを施したCu/Ni/Auめっき層3aが形成されている。
図3、図4、図5において、垂直型LED素子2は、導電性支持基板21、導電性支持基板21上に成長したn型半導体層22、発光層23及びp型半導体層24、並びに導電性支持基板21の下層及びp型半導体層24の上層に設けられた垂直方向に位置する1対の電極を構成する電極層2a及び電極パッド2bによって構成され、キャビティ1a内の中央に露出した第1の金属層11上に搭載される。このとき、電極層2aと第1の金属層11との間にAuSn共晶接合層3が設けられており、従って、電極層2aは放熱性能が優れたAuSn共晶接合層3を介して第1の金属層11に電気的に接続されている。他方、垂直型LED素子2の電極パッド2bはボンディングワイヤ4を介して第2の金属層13aに電気的に接続されている。
また、垂直型LED素子2への逆方向電圧印加を防止するためのツェナダイオード素子5はその下層の電極層を下にしてキャビティ1a内の第2の金属層13a上にAuSn共晶接合層(図示せず)を介して搭載される。他方、ツェナダイオード素子5の上層の電極パッドはボンディングワイヤ7を介して第1の金属層11に電気的に接続されている。尚、ツェナダイオード素子5の放熱要求は小さいので、ツェナダイオード素子5の下層の電極層と第2の金属層13aとの間のAuSn共晶接合層は銀系ペースト等でもよい。
図5に示すように、垂直型LED素子2が搭載されたキャビティ1a内において、垂直型LED素子2上に波長変換層10−1を設け、さらに、波長変換層10−1上に透明樹脂プレート(またはガラス)10−2を設ける。これにより、波長変換層10−1の上面が平坦とされる。たとえば、垂直型LED素子2が青色LEDであれば、波長変換層10−1は垂直型LED素子2の青色光の一部を黄色光に変換するYAG蛍光体を含み、垂直型LED素子2の青色光と波長変換層10−1の黄色光とを混色して均一な白色光を透明樹脂プレート10−2より出射するようにする。さらに、垂直型LED素子2、波長変換層10−1及び透明樹脂プレート10−2の周囲にこれらから漏れる光を反射するための二酸化チタン、酸化亜鉛等の反射フィラを含むシリコーン樹脂よりなる白色樹脂層10−3を設ける。
基板1の第2の金属層13aを含む領域を溝1b−1(図2の(B)参照)を利用して下方側つまり実装面側に折り曲げさらに溝1b−2(図2の(B)参照)を利用して内側に折り返して実装面を構成する第1の端子部8を形成する。尚、基板1を溝1b−1を利用して下方側に折り曲げる方向は、垂直であっても傾斜であってもよい。つまり、第2の金属層13aを含む領域は、下方側に折り曲げられ、さらに内側に折り返されて、略コの字状の第1の端子部8を形成する。第2の金属層13aが第1の金属層11より実装面側に配置されるように曲げ加工されており、第2の金属層13a又はその上に形成されたCu/Ni/Auめっき層3aの表面が実装面を形成する。
他方、基板1の上方に露出された第1の金属層11を含む領域は溝1b−3(図2の(B)参照)を利用して下方側つまり実装面側に折り曲げさらに溝1b−4(図2の(B)参照)を利用して内側に折り返されて実装面に面した第2の端子部9を形成する。尚、この場合も、第1の金属層11の溝1b−3を利用して折り曲げる方向は、垂直であっても傾斜であってもよい。また、図6の(A)に示すごとく、溝1b−3を利用して下方側に折り曲げた後にさらに溝1b−4を利用して外側に折り返しても第2の端子部9を形成できる。また、図6の(B)に示すごとく、溝1b−3を利用して下方側に折り曲げるだけでも第2の端子部9を形成できる。さらに、キャビティ1aの底部の第1の金属層11を第2の端子部9として作用させるには、基板1の上方に露出された第1の金属層11を含む領域は端子部形成のために折り曲げる必要がない。
図7は図2、図3、図4、図5の表面実装型半導体装置の製造方法を説明するためのフローチャートである。
始めに、基板準備工程701にて、図1に示す第1の金属層11、絶縁層12及び第2の金属層13が加熱または加圧により積層された基板1を準備する。
次に、キャビティ/溝形成工程702にて、プレス加工等によって基板1に上拡がり(すり鉢)形状のキャビティ1aを形成すると共に、折り曲げ加工用の溝1b−1、1b−2、1b−3、1b−4を形成する。尚、キャビティ/溝形成工程702は、絶縁層除去工程704の後又はAuSn共晶接合層形成工程705の後に行ってもよい。
次に、金属層除去工程703にて、フォトリソグラフィ/エッチング法を用いて基板1の第2の金属層13を部分的に除去して第2の金属層13aを残存させる。
次に絶縁層除去工程704にて、レーザ加工法を用いて第2の金属層13が除去された絶縁層12の露出した領域を部分的に除去して絶縁層12aを残存させる。尚、この段階で、Cu/Ni/Auめっき層3aを必要な領域に形成する。
次に、AuSn共晶接合層形成工程705にて、キャビティ1a内の第1の金属層11の露出した領域にAuSn共晶接合層3を形成する。尚、AuSn共晶接合層3は垂直型LED素子2の電極層2a上に形成してもよい。
次に、LED素子搭載工程706にて、垂直型LED素子2の電極層2aを下にしてAuSn共晶接合層3を約300℃の窒素雰囲気下で接合圧力たとえば1MPaで熱圧着することにより搭載する。尚、この熱圧着においては、無加圧としてもよい。この結果、垂直型LED素子2の電極層2aは第1の金属層11にAuSn共晶接合層3を介して電気的に接続される。尚、ツェナダイオード素子5を同時に搭載してもよく、また、別工程で銀ペースト層を用いて搭載してもよい。
次に、ワイヤボンディング工程707にて、垂直型LED素子2の電極パッド2bと第2の金属層13aとの間をボンディングワイヤ4によって接続する。これにより、垂直型LED素子2の電極パッド2bと第2の金属層13aとはボンディングワイヤ4を介して電気的に接続される。また、同時に、ツェナダイオード素子5の上層の電極パッドと第1の金属層11との間をボンディングワイヤ7によって接続する。
次に、波長変換層/透明樹脂プレート形成工程708にて、波長変換層10−1を垂直型LED素子2及び透明樹脂プレート10−2の一方または両方に塗布する。この場合、波長変換層10−1はYAG等の蛍光体粒子及びガラス等のスペーサをシリコーン樹脂、エポキシ樹脂等で予め混練した未硬化ペーストである。次いで、透明樹脂プレート10−2を垂直型LED素子2上に搭載して波長変換層10−1を硬化させる。
次に、白色樹脂層形成工程709にて、垂直型LED素子2、波長変換層10−1及び透明樹脂プレート10−2の周囲に二酸化チタン、酸化亜鉛等の反射性フィラを分散させたシリコーン樹脂を充填して白色樹脂層10−3を形成する。
次に、基板切断工程710にて、基板1をカッタを用いて切断して個別の表面実装型半導体装置を完成する。
最後に、基板折曲工程710にて、溝1b−1、1b−2、1b−3、1b−4を利用してプレス加工によって基板1を折り曲げる。具体的には、基板1の上方の第2の金属層13aを含む領域を溝1b−1を利用して下方側つまり実装面側に折り曲げさらに溝1b−2を利用して内側に折り返して実装面に面した第1の端子部8を形成する。他方、基板1の上方に露出された第1の金属層11を含む領域を溝1b−3を利用して下方側つまり実装面側に折り曲げさらに溝1b−4を利用して内側に折り返して実装面に面した第2の端子部9を形成する。このように、基板1の三次元加工し易さを利用して基板1は容易に折り曲げられかつ折り返される。
図2、図3、図4、図5、図6、図7の第1の実施の形態によれば、垂直型LED素子2はキャビティ1a内に露出した第1の金属層11上に搭載される。また、熱可塑性樹脂層を含まないので、金型を用いた樹脂成形工程及び成形時の高温工程がなく、従って、製造コストを低減できると共に、AuSn共晶接合層3により放熱性能を高めることができる。さらに、車載エキステリア用途に求められる高温動作性、耐候性、耐硫化性等の信頼性を向上できる。
図8、図9、図10は表面実装型半導体装置の第1の実施の形態の変更例を示し、図8は基板の加工状態の上面図、図9は完成状態の上面図、図10は図9のX−X線拡大断面図であって、それぞれ、図2の(A)、図4の(A)及び図5に対応する。図8に示すように、第2の金属層13aの領域がキャビティ1aの中央に延在し、図9、図10に示すように、垂直型LED素子2はキャビティ1aの中央の第2の金属層13a上に搭載してある。電極層2aはAuSn共晶接合層3を介して第2の金属層13aに電気的に接続され、他方、電極パッド2bはボンディングワイヤ4’によって第1の金属層11に電気的に接続される。
図8、図9、図10の表面実装型半導体装置の製造方法は図7のフローチャートに示す製造方法とほぼ同一である。すなわち、AuSn共晶接合層形成工程705にて、AuSn共晶接合層3をキャビティ1a内の第2の金属層13a上に形成し、ワイヤボンディング工程707にて、垂直型LED素子2の電極パッド2bと第1の金属層11との間をボンディングワイヤ4’によって接続する点が異なる。
図8、図9、図10の第1の実施の形態の変更例によれば、垂直型LED素子2はキャビティ1a内の第2の金属層13a上に搭載される。
図11、図12、図13は図2の表面実装型半導体装置の第2の実施の形態を示し、図11は基板のLED素子搭載前の加工状態の上面図、図12は完成状態の上面図、図13は図12のXIII−XIII線拡大断面図であって、それぞれ、図2の(A)、図4の(A)及び図5に対応する。図11に示すように、絶縁層12aの領域がキャビティ1aの中央に露出している。従って、図12、図13に示すように、水平型LED素子2’は、非導電性支持基板21’、n型半導体層22、発光層23、p型半導体層24、及び電極パッド2b、2b’よりなる。電極パッド2bはp型半導体層24上に形成され、電極パッド2b’はp型半導体層24及び発光層23の一部が除去されて露出されたn型半導体層22上に形成されている。従って、1対の電極パッド2b、2b’はいずれも上面に露出して略水平に位置する。水平型LED素子2’はキャビティ1aの中央の露出した絶縁層12a上に搭載してある。電極パッド2bはボンディングワイヤ4によって第2の金属層13aに電気的に接続され、他方、電極パッド2b’はボンディングワイヤ4’によって露出した第1の金属層11に電気的に接続される。水平型LED素子2’の下面の支持基板21’は導電性を有していないので、支持基板21’は図5のAuSn共晶接合層3の代りに、Agペースト層3’を介して絶縁層12aに接続することができる。AuSn共晶接合層3を介して第1の金属層11上に接続することもでき、このとき、LED素子2上に絶縁層12aはなく、放熱性能を向上できる。
図11、図12、図13の表面実装型半導体装置の製造方法は図14のフローチャートに示すごとくである。すなわち、図7のAuSn共晶接合層形成工程705の代りに、Agペースト層形成工程1405にて、水平型LED素子2’の支持基板21’と絶縁層12aとの一方にAgペースト層3’を形成する。また、図7のLED素子搭載工程706の代りに、LED素子搭載工程1406にて水平型LED素子2’を絶縁層12a上に搭載し、さらに、図7のワイヤボンディング工程707の代りに、ワイヤボンディング工程1407にて、水平型LED素子2’の電極パッド2bと第2の金属層13aとの間をボンディングワイヤ4によって接続し、これにより、水平型LED素子2’の電極パッド2bと第2の金属層13aとは電気的に接続され、また、水平型LED素子2’の電極パッド2b’と第1の金属層11との間をボンディングワイヤ4’によって接続し、これにより、水平型LED素子2’の電極2b’と第1の金属層11とは電気的に接続される。尚、キャビティ/溝形成工程702は、絶縁層除去工程704の後に行ってもよい。
図11、図12、図13、図14の第2の実施の形態によれば、水平型LED素子2’はキャビティ1aの露出した絶縁層12a上に搭載される。
このように、垂直型LED素子2は基板1の第1の金属層11、第2の金属層13aのいずれかに搭載され、他方、水平型LED素子2’は絶縁層12aに搭載される。
図15、図16、図17は本発明に係る表面実装型半導体装置の第3の実施の形態を示し、図15は基板の上面図、図16は完成状態の上面図、図17はXVII−XVII線拡大断面図であって、それぞれ、図2の(A)、図4の(A)及び図5に対応する。
図15に示すように、第2の金属層13a及び露出した第1の金属層11の両方がキャビティ1aの中央に延在しているが、離隔しており電気的には絶縁されている。
図16、図17に示すように、フリップチップ型LED素子2”は、透光性支持基板21”、n型半導体層22、発光層23、p型半導体層24よりなる。この場合、p型半導体層24及び発光層23の一部が除去されてn型半導体層22の一部が露出している。この露出したn型半導体層22とキャビティ1aの中央の第2の金属層13aとの間に金属バンプ6aが設けられ、p型半導体層24とキャビティ1aの中央の露出した第1の金属層11との間に金属バンプ6bが設けられている。従って、n型半導体層22は放熱性能が優れた金属バンプ6aによって第2の金属層13aに電気的に接続され、また、p型半導体層24も放熱性能が優れた金属バンプ6bによって第1の金属層11に電気的に接続される。金属バンプ6aは、Auバンプ、AuSn共晶バンプ等から構成できる。
図15、図16、図17の表面実装型半導体装置の製造方法は図18のフローチャートに示すごとくである。すなわち、図7のAuSn共晶接合層形成工程705の代りに、金属バンプ形成工程1805にて、金属バンプ6a、6bをn型半導体層22及びp型半導体層24側または第2の金属層13a及び第1の金属層11側に形成する。また、図7のワイヤボンディング工程707は存在しない。
図15、図16、図17、図18によれば、フリップチップ型LED素子2”は第2の金属層13a及び露出した第1の金属層11上に跨って搭載される。
尚、上述の実施の形態における絶縁層12、12aは高い絶縁耐圧を有する他の絶縁層にすることもできる。
また、本発明は上述の実施の形態の自明の範囲のいかなる変更にも適用できる。
本発明はLED素子以外の半導体発光素子たとえばレーザダイオード(LD)素子にも利用できる。また、半導体発光素子以外の半導体受光素子にも利用できる。この場合、キャビティ、波長変換層等は不要となる。さらに、発光/受光素子でない半導体素子にも利用できる。
1:基板
11:第1の金属層
12、12a:絶縁層
13、13a:第2の金属層
1a:キャビティ
1b−1、1b−2、1b−3、1b−4:溝
2:垂直型LED素子
2’:水平型LED素子
2”:フリップチップ型LED素子
21:導電性支持基板
21’:非導電性支持基板
21”:透光性支持基板
22:n型半導体層
23:発光層
24:p型半導体層
2a:電極層
2b、2b’:電極パッド
3:AuSn共晶接合層
3’:Agペースト層
3a:Cu/Ni/Auめっき層
4、4’:ボンディングワイヤ
5:ツェナダイオード素子
6a、6b:金属バンプ
7:ボンディングワイヤ
8:第1の端子部
9:第2の端子部
10−1:波長変換層
10−2:透明樹脂プレート
10−3:白色樹脂層
11:第1の金属層
12、12a:絶縁層
13、13a:第2の金属層
1a:キャビティ
1b−1、1b−2、1b−3、1b−4:溝
2:垂直型LED素子
2’:水平型LED素子
2”:フリップチップ型LED素子
21:導電性支持基板
21’:非導電性支持基板
21”:透光性支持基板
22:n型半導体層
23:発光層
24:p型半導体層
2a:電極層
2b、2b’:電極パッド
3:AuSn共晶接合層
3’:Agペースト層
3a:Cu/Ni/Auめっき層
4、4’:ボンディングワイヤ
5:ツェナダイオード素子
6a、6b:金属バンプ
7:ボンディングワイヤ
8:第1の端子部
9:第2の端子部
10−1:波長変換層
10−2:透明樹脂プレート
10−3:白色樹脂層
Claims (7)
- 第1の金属層、前記第1の金属層上に部分的に形成された絶縁層、及び前記絶縁層上に部分的に形成された第2の金属層を有する基板と、
前記基板上に搭載され、第1、第2の電極を有する半導体素子と
を具備し、
前記第1の電極は前記第1の金属層に電気的に接続され、
前記第2の電極は前記第2の金属層に電気的に接続され、
前記基板の前記第2の金属層を含む領域は前記第2の金属層が実装面側に配置されるように曲げ加工されて第1の端子部を形成する表面実装型半導体装置。 - 前記基板の上側に露出された前記第1の金属層を含む領域は下側に折り曲げられて第2の端子部を形成する請求項1に記載の表面実装型半導体装置。
- 前記絶縁層はポリイミドよりなり、
前記第1の金属層は銅あるいはアルミニウム、またはこれらの合金よりなり、
前記第2の金属層は銅または銅合金よりなる請求項1または請求項2に記載の表面実装型半導体装置。 - 前記第1の電極と前記第1の金属層との間の電気的接続は共晶接合層を介して行われ、
前記半導体素子は前記第1の金属層上に搭載された請求項1から請求項3のいずれかに記載の表面実装型半導体装置。 - 第1の金属層、前記第1の金属層上に形成された絶縁層、及び前記絶縁層上に形成された第2の金属層を有する基板を準備する基板準備工程と、
前記第2の金属層を部分的に除去する金属層除去工程と、
前記金属層除去工程後に、前記絶縁層の露出した領域を部分的に除去する絶縁層除去工程と、
前記絶縁層除去工程後に、前記基板上に半導体素子を搭載する半導体素子搭載工程と、
前記半導体素子の第1の電極を前記第1の金属層の露出した領域に電気的に接続させる第1の電気的接続工程と、
前記半導体素子の第2の電極を前記第2の金属層の露出した領域に電気的に接続させる第2の電気的接続工程と、
前記第1、第2の電気的接続工程後に、前記基板の前記第2の金属層を含む領域を下方側に折り曲げさらに内側に折り返して第1の端子部を形成する基板折曲工程と
を具備する表面実装型半導体装置の製造方法。 - 前記基板折曲工程は、さらに、前記基板の上側に露出した前記第1の金属層を含む領域を下側に折り曲げて第2の端子部を形成する請求項5に記載の表面実装型半導体装置の製造方法。
- さらに、前記半導体素子の第1の電極及び前記第1の金属層の少なくとも一方に共晶接合層を形成する共晶接合層形成工程を具備し、
前記半導体素子搭載工程は前記半導体素子を前記第1の金属層上に搭載し、
前記第1の電気的接続工程は前記半導体素子の第1の電極と前記第1の金属層とを前記共晶接合層を介して接続する請求項5に記載の表面実装型半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015183901A JP2017059706A (ja) | 2015-09-17 | 2015-09-17 | 表面実装型半導体装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015183901A JP2017059706A (ja) | 2015-09-17 | 2015-09-17 | 表面実装型半導体装置及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017059706A true JP2017059706A (ja) | 2017-03-23 |
Family
ID=58390235
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015183901A Pending JP2017059706A (ja) | 2015-09-17 | 2015-09-17 | 表面実装型半導体装置及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017059706A (ja) |
-
2015
- 2015-09-17 JP JP2015183901A patent/JP2017059706A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5038623B2 (ja) | 光半導体装置およびその製造方法 | |
JP4915058B2 (ja) | Led部品およびその製造方法 | |
JP5528900B2 (ja) | 発光素子モジュール | |
JP4910220B1 (ja) | Ledモジュール装置及びその製造方法 | |
WO2008047933A1 (en) | Package assembly for upper/lower electrode light-emitting diodes and light-emitting device manufacturing method using same | |
CN103107272A (zh) | 基板、发光装置、以及基板的制造方法 | |
JP2016018866A (ja) | パワーモジュール | |
JP2008235867A (ja) | 表面実装型発光ダイオードおよびその製造方法 | |
US20130099275A1 (en) | Led package and method of making the same | |
JP2019129170A (ja) | Ledパッケージ | |
JP2009070870A (ja) | 発光ダイオード用パッケージ、発光装置、および発光装置の作製方法 | |
JP2012165016A (ja) | 発光装置 | |
JP6205894B2 (ja) | 発光装置用パッケージ成形体およびそれを用いた発光装置 | |
JP6651699B2 (ja) | 側面発光型発光装置の製造方法 | |
JP2017059706A (ja) | 表面実装型半導体装置及びその製造方法 | |
JP2014033233A (ja) | 発光装置 | |
JP2008205395A (ja) | 表面実装型発光ダイオードおよびその製造方法 | |
JP2014003258A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP5849691B2 (ja) | 発光素子の実装方法 | |
JP2018116960A (ja) | 電力用半導体装置 | |
JP5995579B2 (ja) | 半導体発光装置及びその製造方法 | |
JP2015038902A (ja) | Ledモジュール装置及びその製造方法 | |
JP5861356B2 (ja) | 光半導体装置用反射部材付リードフレーム、光半導体装置用リードフレーム、光半導体装置用リードフレーム基板、光半導体装置、および、光半導体装置用反射部材付リードフレームの製造方法、並びに、光半導体装置の製造方法 | |
JP5915835B2 (ja) | 光半導体装置用反射部材付リードフレーム、光半導体装置用リードフレーム、光半導体装置用リードフレーム基板、光半導体装置、および、光半導体装置用反射部材付リードフレームの製造方法、並びに、光半導体装置の製造方法 | |
JP7022510B2 (ja) | 半導体発光装置および半導体発光装置の製造方法 |