JP2017058435A5 - 評価方法 - Google Patents

Claims (13)

1. 光学系の光学特性の評価方法であって、
   前記光学特性を評価するための複数のパターンに関連する情報を使用して、前記光学系の状態が変化したときの光学特性の変動量を、前記複数のパターンごとに求めることと、
   前記複数のパターンごとに求められた前記変動量を用いて、前記複数のパターンから前記光学系又は他の光学系の前記光学特性を評価するために使用する１以上の前記パターンを評価用パターンとして選択することと、
   を含む評価方法。
2. 前記選択することは、前記複数のパターンごとに求められた前記変動量を複数のグループに分類することを含む請求項１に記載の評価方法。
3. 前記複数のグループに分類することは、前記複数のパターンごとに求められた前記変動量の類似度を用いて分類する請求項２に記載の評価方法。
4. 前記選択することは、前記分類されたグループに属する前記パターンから少なくとも１つのパターンを前記評価用パターンとして選択する請求項２又は３に記載の評価方法。
5. 前記変動量の類似度の閾値を設定することをさらに含み、
   前記複数のパターンから前記複数の評価用パターンを選択することは、
   前記複数のパターンのそれぞれに関連する前記変動量のうち、前記類似度が前記閾値内となるように、前記複数のパターンを複数のグループに分けることと、を含む請求項３に記載の評価方法。
6. 前記複数のパターンから前記複数の評価用パターンを選択することは、
   前記変動量の類似度に応じて、前記複数のパターンを複数のグループに分けることと、
   前記複数のグループからそれぞれ一つの前記評価用パターンを選択することと、を含む請求項３又は５に記載の評価方法。
7. 複数の評価用パターンを選択することは、複数の前記変動量の差分を用いて算出される前記類似度に応じて、前記複数のパターンを複数のグループに分けることを含む請求項３又は５に記載の評価方法。
8. 前記変動量の類似度は、前記変動量の差分の絶対値を含む請求項３及び５乃至７のいずれか一項に記載の評価方法。
9. 前記光学系は少なくとも１つの光学部材を備え、
   前記変動量を前記複数のパターンごとに求めることは、
   前記少なくとも１つの光学部材の状態が第１の状態から第２の状態に変化したときの、前記複数のパターンのうちの第１パターンについての前記光学系の光学特性の第１変動量を求めることと、
   前記少なくとも１つの光学部材の状態が第１の状態から第２の状態に変化したときの、前記複数のパターンのうちの第２パターンについての前記光学特性の第２変動量を求めることとを含む請求項１乃至８のいずれか一項に記載の評価方法。
10. 前記複数の評価用パターンに関連する情報を用いて他の光学系の前記光学特性を評価することを含む請求項１乃至９のいずれか一項に記載の評価方法。
11. 前記光学特性は、前記光学系によって形成される前記評価用パターンの像に関連する特性である請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の評価方法。
12. 前記像に関連する特性は、前記像の強度分布である請求項１１に記載の評価方法。
13. 前記光学系は、露光による基板上のレジストのパターンニング工程で用いられ、
    前記像に関連する特性は、前記パターンニング工程及び現像工程を経て得られるレジストパターンのプロファイル又は該レジストパターンの線幅である請求項１１に記載の評価方法。