JP2017045311A - メモリシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】一実施形態のメモリシステムは、アサートされた第1または第2チップセレクト信号/CS1,/CS2が受信された直後に受信された第2信号SIをコマンドとして認識するインターフェース回路210,220と、第1、第2メモリセルアレイ100-1,100-2とを備える。インターフェース回路210,220、並びに第1及び第2メモリセルアレイ100-1,100-2は同一パッケージ内にパッケージングされる。インターフェース回路210,220は、第1チップセレクト信号/CS1がアサートされた際には第1メモリセルアレイ100-1にアクセスし、第2チップセレクト信号/CS2がアサートされた際には第2メモリセルアレイ100-2にアクセスする。
【選択図】図4
Description
第1実施形態に係るメモリシステムについて説明する。
1.1.1 メモリシステムの全体構成について
まず、本実施形態に係るメモリシステムの大まかな全体構成について、図1及び図2を用いて説明する。図1は、本実施形態に係るメモリシステムの外観図であり、特に上面から見た様子を示し、図2は図1における2−2線に沿った断面図である。
次に、コントローラ200の構成の詳細につき、引き続き図4を用いて説明する。図示するようにコントローラ200は、ホスト入出力回路210、ホストインターフェース回路220、NANDインターフェース回路230、NAND入出力回路240、シーケンサ(ステートマシン)250、データバッファ260、270、ステータスレジスタ280、アドレスレジスタ290、及び周辺回路600を備えている。
次に、NAND型フラッシュメモリ100の構成について、図5を用いて説明する。図5は、NAND型フラッシュメモリ100のブロック図である。
次に、本実施形態に係るメモリシステム1の動作について説明する。まず、NAND型フラッシュメモリ100−1及びコントローラ200−1と、NAND型フラッシュメモリ100−2及びコントローラ200−2の選択につき、図6を用いて説明する。図6は、メモリシステム1の動作を示すフローチャートである。
まず、読み出し動作について説明する。読み出し動作は、大まかには以下の3ステップを含む。すなわち、
(1)NAND型フラッシュメモリ100からのデータ読み出し:本動作により、NAND型フラッシュメモリ100からコントローラ200にデータが読み出される。
(2)特徴テーブル読み出し(Get featureと呼ぶことがある):特徴テーブルとは、例えばシーケンサ250によって生成されてステータスレジスタ280に保持されるテーブルであり、種々のステータス情報を保持する(プログラムフェイル、消去フェイル、ECC処理結果等)。本動作により、メモリシステム1がビジー状態であるかレディ状態であるか、すなわち上記(1)の動作が完了したか否かが判定される。
(3)コントローラ200からのデータ読み出し:本動作により、(1)でコントローラ200に読み出されたデータがホスト機器500に読み出される。
次に書き込み動作について説明する。書き込み動作は、大まかには以下の3ステップを含む。すなわち、
(1)ホスト機器500からコントローラ200へのデータ転送。
(2)転送したデータのNAND型フラッシュメモリ100への書き込み。
(3)特徴テーブル読み出し(Get feature):本動作により、NAND型フラッシュメモリ100への書き込みがパスしたかフェイルしたかが判定される。
次に消去動作について説明する。消去動作は、大まかには以下の2ステップを含む。すなわち、
(1)ホスト機器500からコントローラ200への消去命令。
(2)特徴テーブル読み出し(Get feature):本動作により、NAND型フラッシュメモリ100への消去動作がパスしたかフェイルしたかが判定される。
本実施形態によれば、メモリシステムのメモリ容量を容易に増大出来る。すなわち、本実施形態であると、複数のチップセレクト信号/CSが用意される。従って、パッケージ内にメモリチップ100とコントローラチップ200の組を追加するだけで、メモリシステム1のメモリ容量を容易に増やすことが出来る。そして、対応するチップセレクト信号/CSをアサートすることによって、任意のメモリチップ100にアクセス出来る。
次に、第2実施形態に係るメモリシステムについて説明する。本実施形態は、上記第1実施形態において、1つのコントローラ200によって複数のNAND型フラッシュメモリ100を制御するものである。以下では、第1実施形態と異なる点についてのみ説明する。
図18は、本実施形態に係るメモリシステム1のブロック図である。図示するようにメモリシステム1は、1つのコントローラチップ200と、これによって制御される複数のメモリチップ100−1及び100−2を備えている。
本実施形態に係るコントローラ200の動作は、上記第1実施形態で説明した図6において、コントローラ200−1及び200−1の行っていた処理を、1つのコントローラ200が行うものである。
本実施形態のように、1つのコントローラチップ200が複数のメモリチップ100を制御する構成であっても良い。また本例によれば、パッケージ内のコントローラチップ200の数を削減出来る。よって、パッケージ内におけるワイヤボンディングを簡素化出来る。
以上のように、上記実施形態に係るメモリシステムは、ホスト機器から第1チップセレクト信号(/CS1 in 図1,3)を受信可能な第1ピン(Pin No7 in 図1,3)と、ホスト機器から第2チップセレクト信号(/CS2 in 図1,3)を受信可能な第2ピン(Pin No11 in 図1,3)と、ホスト機器へ第1信号(SO in 図1,3)を出力可能な第3ピン(Pin No8 in 図1,3)と、ホスト機器から第2信号(SI in 図1,3)を受信可能な第4ピン(Pin No15 in 図1,3)と、ホスト機器からクロック(SCK in 図1,3)を受信可能な第5ピン(Pin No16 in 図1,3)と、アサートされた第1または第2チップセレクト信号(/CS1 or /CS2)が受信された直後に第4ピンで受信された第2信号(SI)をコマンドとして認識するインターフェース回路(210,220 in 図4)と、データを保持可能なメモリセルを含む第1、第2メモリセルアレイ(110 of 100-1,100-2 in 図4)とを備える。そして、インターフェース回路(210,220)、並びに第1及び第2メモリセルアレイ(110 of 100-1,100-2)は同一パッケージ内にパッケージングされる(図1-2)。更にインターフェース回路(210,220)は、第1チップセレクト信号(/CS1)がアサートされた際には第1メモリセルアレイ(110 of 100-1)にアクセスし、第2チップセレクト信号(/CS2)がアサートされた際には第2メモリセルアレイ(110 of 100-2)にアクセスする(図6)。
Claims (14)
- ホスト機器から第1チップセレクト信号を受信可能な第1ピンと、
前記ホスト機器から第2チップセレクト信号を受信可能な第2ピンと、
前記ホスト機器へ第1信号を出力可能な第3ピンと、
前記ホスト機器から第2信号を受信可能な第4ピンと、
前記ホスト機器からクロックを受信可能な第5ピンと、
アサートされた前記第1または第2チップセレクト信号が受信された直後に前記第4ピンで受信された前記第2信号をコマンドとして認識するインターフェース回路と、
データを保持可能なメモリセルを含む第1、第2メモリセルアレイと
を具備し、前記インターフェース回路、並びに前記第1及び第2メモリセルアレイは同一パッケージ内にパッケージングされ、
前記インターフェース回路は、前記第1チップセレクト信号がアサートされた際には前記第1メモリセルアレイにアクセスし、前記第2チップセレクト信号がアサートされた際には前記第2メモリセルアレイにアクセスする
ことを特徴とするメモリシステム。 - 前記インターフェース回路は、前記第1チップセレクト信号、前記第1、第2信号、及び前記クロックを受信し、前記第1メモリセルアレイにアクセス可能な第1インターフェース回路と、
前記第2チップセレクト信号、前記第1、第2信号、及び前記クロックを受信し、前記第2メモリセルアレイにアクセス可能な第2インターフェース回路と
を含み、前記第1、第2インターフェース回路は、前記第3乃至第5ピンを共有する
ことを特徴とする請求項1記載のメモリシステム。 - 前記第1インターフェース回路は、第1半導体チップに実装され、
前記第2インターフェース回路は、前記第1半導体チップと異なる第2半導体チップに実装され、
前記第1メモリセルアレイは、前記第1及び第2半導体チップと異なる第3半導体チップに実装され、
前記第2メモリセルアレイは、前記第1乃至第3半導体チップと異なる第4半導体チップに実装され、
前記第1インターフェース回路は、前記第1チップセレクト信号がアサートされた際には、前記第3半導体チップを活性化させる第1チップイネーブル信号をアサートし、
前記第2インターフェース回路は、前記第2チップセレクト信号がアサートされた際には、前記第4半導体チップを活性化させる第2チップイネーブル信号をアサートする
ことを特徴とする請求項2記載のメモリシステム。 - 前記第1乃至第4半導体チップは積層され、樹脂封止されることによりパッケージングされる
ことを特徴とする請求項3記載のメモリシステム。 - 前記インターフェース回路は、第1半導体チップに実装され、
前記第1メモリセルアレイは、前記第1半導体チップと異なる第2半導体チップに実装され、
前記第2メモリセルアレイは、前記第1及び第2半導体チップと異なる第3半導体チップに実装され、
前記インターフェース回路は、前記第1チップセレクト信号がアサートされた際には、前記第2半導体チップを活性化させる第1チップイネーブル信号をアサートし、
前記第2チップセレクト信号がアサートされた際には、前記第3半導体チップを活性化させる第2チップイネーブル信号をアサートする
ことを特徴とする請求項1記載のメモリシステム。 - 前記第1乃至第3半導体チップは積層され、樹脂封止されることによりパッケージングされる
ことを特徴とする請求項5記載のメモリシステム。 - 前記第1インターフェース回路と前記第1メモリセルアレイは、第1半導体チップ内に実装され、
前記第2インターフェース回路と前記第1メモリセルアレイは、第2半導体チップ内に実装される
ことを特徴とする請求項2記載のメモリシステム。 - 前記第1インターフェース回路と前記第1メモリセルアレイは、第1半導体チップ内に実装され、
前記第2メモリセルアレイは、第2半導体チップ内に実装される
ことを特徴とする請求項2記載のメモリシステム。 - 前記第1及び第2半導体チップは積層され、樹脂封止されることによりパッケージングされる
ことを特徴とする請求項7または8記載のメモリシステム。 - 前記ホスト機器は、前記第1メモリセルアレイから第1データの読み出しに失敗した際に、前記第2メモリセルアレイから第2データを読み出す
ことを特徴とする請求項1記載のメモリシステム。 - 前記ホスト機器は、前記第1メモリセルアレイから読み出した第1データと、前記第2メモリセルアレイから読み出した第2データとを照合し、照合結果に応じて前記第1データまたは第2データを実行する
ことを特徴とする請求項1記載のメモリシステム。 - 前記第1、第2データは同じデータであり、前記ホスト機器の起動プログラムである
ことを特徴とする請求項10または11記載のメモリシステム。 - 前記インターフェース回路は、前記クロックに同期して前記第2信号を受信し、チップセレクト信号がアサートされた後の最初のクロックに同期して受信した前記第2信号を前記コマンドと認識する
ことを特徴とする請求項1乃至12いずれか記載のメモリシステム。 - 前記インターフェース回路は、SPI(Serial Peripheral Interface)に準拠したバスにより前記ホスト機器と接続可能である
ことを特徴とする請求項1乃至13いずれか1項記載のメモリシステム。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015167874A JP2017045311A (ja) | 2015-08-27 | 2015-08-27 | メモリシステム |
US15/233,642 US9747994B2 (en) | 2015-08-27 | 2016-08-10 | Memory system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015167874A JP2017045311A (ja) | 2015-08-27 | 2015-08-27 | メモリシステム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017045311A true JP2017045311A (ja) | 2017-03-02 |
Family
ID=58104203
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015167874A Pending JP2017045311A (ja) | 2015-08-27 | 2015-08-27 | メモリシステム |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9747994B2 (ja) |
JP (1) | JP2017045311A (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2015
- 2015-08-27 JP JP2015167874A patent/JP2017045311A/ja active Pending
-
2016
- 2016-08-10 US US15/233,642 patent/US9747994B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20170062066A1 (en) | 2017-03-02 |
US9747994B2 (en) | 2017-08-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20170525 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170802 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180416 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180424 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180622 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180710 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20180831 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20190205 |